JPS6353453A - デイスクの欠陥検査装置 - Google Patents
デイスクの欠陥検査装置Info
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- JPS6353453A JPS6353453A JP19722786A JP19722786A JPS6353453A JP S6353453 A JPS6353453 A JP S6353453A JP 19722786 A JP19722786 A JP 19722786A JP 19722786 A JP19722786 A JP 19722786A JP S6353453 A JPS6353453 A JP S6353453A
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 4
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 abstract 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 206010064127 Solar lentigo Diseases 0.000 description 1
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は光ディスク等の欠点、傷等の欠陥を検査する欠
陥検査装置に関する。
陥検査装置に関する。
(従来の技術)
従来、シート状対象物体の欠陥を検査する装置として第
5図及び第6図に示すように、投光器、受光器、制御部
から構成される装置 同図において、1は投光器であり、2はレーザ、3は振
動ミラー、4は受光器であり、5は拡散板6はホトマル
、7はプリアンプ、8は加算アンプ、9はドライバ、1
0は高圧電源、20は制御部であり、11はSPAIN
調整部、12はスライスレベル設定部、13はコンパレ
ータ、14はエツシ迅理部、15は〜1PU,16はプ
リンタ、17は欠点数設定部、18は表示器、19はア
ラーム、21はロータリーエンコーダである。
5図及び第6図に示すように、投光器、受光器、制御部
から構成される装置 同図において、1は投光器であり、2はレーザ、3は振
動ミラー、4は受光器であり、5は拡散板6はホトマル
、7はプリアンプ、8は加算アンプ、9はドライバ、1
0は高圧電源、20は制御部であり、11はSPAIN
調整部、12はスライスレベル設定部、13はコンパレ
ータ、14はエツシ迅理部、15は〜1PU,16はプ
リンタ、17は欠点数設定部、18は表示器、19はア
ラーム、21はロータリーエンコーダである。
この装置は、投光器口の光源として、単一波長光であり
、一方向に一直線に)mむ拡がり角の少ない光束が得ら
れ、光を細くシャープなビームにして遠方に飛ばしたり
、光を一点に集めることかできるレーザ光を用い、また
光や受光器4としてはS/Nが良く、出力が大きく、微
弱光検出に遇し、更に応答速度が速い光電子増倍管を用
いている。
、一方向に一直線に)mむ拡がり角の少ない光束が得ら
れ、光を細くシャープなビームにして遠方に飛ばしたり
、光を一点に集めることかできるレーザ光を用い、また
光や受光器4としてはS/Nが良く、出力が大きく、微
弱光検出に遇し、更に応答速度が速い光電子増倍管を用
いている。
この装置ではシート月への表面をもれなく検査するため
フライングスポット方式か採られている。
フライングスポット方式か採られている。
この方式は図示のように、レーザービームLを振動ミラ
ー3又は回転ミラーで被検査物△が流れる速さに応じた
周波数でスキ(・ニングさせ、検出もれを無くする方式
でおる。
ー3又は回転ミラーで被検査物△が流れる速さに応じた
周波数でスキ(・ニングさせ、検出もれを無くする方式
でおる。
今、第5図において被検査物体上からの反射光か受光器
4に入光している状態を考えると、もし被検査物体A上
に散乱性の欠点(異物、(i)や、吸収性の欠点(黒点
など)かあった場合、その入光にわずかな変化が生じる
。その変化はをホトマル6で電気信号に変え、加算アン
プ8.ドライバ9を通じて微分アンプ11で微分し増幅
されたものが、ビデオ信号となり、スライスレベル設定
部]2で予め設定されているスライスレベルを越えた場
合に検出信号が1qられるようになっている。
4に入光している状態を考えると、もし被検査物体A上
に散乱性の欠点(異物、(i)や、吸収性の欠点(黒点
など)かあった場合、その入光にわずかな変化が生じる
。その変化はをホトマル6で電気信号に変え、加算アン
プ8.ドライバ9を通じて微分アンプ11で微分し増幅
されたものが、ビデオ信号となり、スライスレベル設定
部]2で予め設定されているスライスレベルを越えた場
合に検出信号が1qられるようになっている。
そして、その信号を元に欠点数をカウントシたり、検出
時にリレー接点て出力したり、必要に応じて検出位置や
、欠点数の合へ4などをプリンタロ6で印字させること
ができ、その品物の欠点情報を容易に得ることができる
ようになっている。また、被検査物体と検出したい欠点
により、一番適した99定をしなければならないが、第
7図の表に示すような方式を予め選択し、更に投受光器
の位置、角度間1系を実j倹にて最良点にもって行くこ
とができるようになっている。
時にリレー接点て出力したり、必要に応じて検出位置や
、欠点数の合へ4などをプリンタロ6で印字させること
ができ、その品物の欠点情報を容易に得ることができる
ようになっている。また、被検査物体と検出したい欠点
により、一番適した99定をしなければならないが、第
7図の表に示すような方式を予め選択し、更に投受光器
の位置、角度間1系を実j倹にて最良点にもって行くこ
とができるようになっている。
(発明が解決しようとする問題点)
ところが以上のような従来の83iUで、光ディスクの
ように表面に凹凸のある被検査物を検査すると′、従来
は被検査物体上からの反射光により(σ8査しているた
め、グループ等の凹凸によってレーザ光の干渉が生じて
S/\比が低下してしまい(第8図参照)、精度の良い
検査ができなくなるという問題がある。これに対し被検
査物体のレーザ光の透過光を用いれば、第9図に示すよ
うに干渉による悪影響を防止することができる。
ように表面に凹凸のある被検査物を検査すると′、従来
は被検査物体上からの反射光により(σ8査しているた
め、グループ等の凹凸によってレーザ光の干渉が生じて
S/\比が低下してしまい(第8図参照)、精度の良い
検査ができなくなるという問題がある。これに対し被検
査物体のレーザ光の透過光を用いれば、第9図に示すよ
うに干渉による悪影響を防止することができる。
しかしながら、透過光を用いた場合、ディスクの表面、
裏面、及び内g3におる欠陥(第3図B 7゜82、B
3参照)を画一的に倹HHL、てしまうため次のような
問題かめる。すなわら、ディスクの場合、その表面及び
内部におる欠陥81.B2については例えば]Oμオー
ダーの微報1な欠陥まで検出する必要はあるが、裏面の
欠陥B3については例えば100μオーダーのものを検
出すれば足りるにもかかわらず、画一的な検出を行うと
、裏面に、検出する必要のない大きざの欠陥(例えば1
0μオーダーの欠陥)かあった場合でもこれを検出して
しまい、本来「良晶舅としてよいものまてシネ良品」と
してしまうという問題がある。
裏面、及び内g3におる欠陥(第3図B 7゜82、B
3参照)を画一的に倹HHL、てしまうため次のような
問題かめる。すなわら、ディスクの場合、その表面及び
内部におる欠陥81.B2については例えば]Oμオー
ダーの微報1な欠陥まで検出する必要はあるが、裏面の
欠陥B3については例えば100μオーダーのものを検
出すれば足りるにもかかわらず、画一的な検出を行うと
、裏面に、検出する必要のない大きざの欠陥(例えば1
0μオーダーの欠陥)かあった場合でもこれを検出して
しまい、本来「良晶舅としてよいものまてシネ良品」と
してしまうという問題がある。
本発明の目的は、以」二のような問題点を解決し、表面
に凹凸のある被検査物体を検査する場合であってもレー
ザ光の干渉による悪影響を受(プず、しかもディスクの
表面(又は内部)に必る欠陥と、裏面におる欠陥とては
その検査阜り1(を変えることのできる検査装置を提供
プることにある。
に凹凸のある被検査物体を検査する場合であってもレー
ザ光の干渉による悪影響を受(プず、しかもディスクの
表面(又は内部)に必る欠陥と、裏面におる欠陥とては
その検査阜り1(を変えることのできる検査装置を提供
プることにある。
L 5を明の構成]
(問題を解決するだめの手段)
上記目的を達成するため、本発明は、ディスクに対し、
その裏面口]11から光を投光する投光器と、前記ディ
スクの透過光を受光する透過光用受光器と、前記ディス
クの反射光を受光する反射光用受光器と、これら透過光
用受光器及び反射光用受光器の受光量の変化に塞ぎ欠陥
信号を生成する欠陥信号生成部とを具1ffシた構成と
した。
その裏面口]11から光を投光する投光器と、前記ディ
スクの透過光を受光する透過光用受光器と、前記ディス
クの反射光を受光する反射光用受光器と、これら透過光
用受光器及び反射光用受光器の受光量の変化に塞ぎ欠陥
信号を生成する欠陥信号生成部とを具1ffシた構成と
した。
(作用)
本発明装置は上記の構成としたので、次のように作用す
る。
る。
すなわち、投光器からディスクに対し投光させた光は、
その一部かディスク裏面で反射され、他の部分は、ディ
スク内を通って表側に透過する。
その一部かディスク裏面で反射され、他の部分は、ディ
スク内を通って表側に透過する。
受光器は反射光用のものと透過光用のものが設けられて
いるので、前記反射光は反射光用の受光器に受光され、
前記透過光は透過光用の受光器に受光されることとなる
。この際、投光は凹凸のないディスクの表側から行って
いるので反射光に干渉が生じず高S/N比が保持される
。また、反射光用の受光器と透過光用の受光器が設けで
あるので、透過光量の変化では、ディスク表面又は内部
に必る欠陥を検出でき、ディスク裏面に必る欠陥につい
ては反則光量の変化で検出できろため、表面又は内部に
ある欠陥と裏面にある欠陥とてはその検出1i N、%
を変えて検出することかできる。
いるので、前記反射光は反射光用の受光器に受光され、
前記透過光は透過光用の受光器に受光されることとなる
。この際、投光は凹凸のないディスクの表側から行って
いるので反射光に干渉が生じず高S/N比が保持される
。また、反射光用の受光器と透過光用の受光器が設けで
あるので、透過光量の変化では、ディスク表面又は内部
に必る欠陥を検出でき、ディスク裏面に必る欠陥につい
ては反則光量の変化で検出できろため、表面又は内部に
ある欠陥と裏面にある欠陥とてはその検出1i N、%
を変えて検出することかできる。
′(実施例)
以下、図示の実施例について説明する。
第1図において29は投光器、30は、従来同様のレー
ザであり、コ1ノメータ31、及び(騒動ミラー32を
介して、検査対象物であるディスクDに対し、その裏面
D3側からレーザ光りを投光するようになっている。投
光されたレーザ光(−は、その一部がディスク裏面D3
で反射されて反射光し3となり、他の部分はディスクD
中を通って表面D1側に透過して透過光L1となる。
ザであり、コ1ノメータ31、及び(騒動ミラー32を
介して、検査対象物であるディスクDに対し、その裏面
D3側からレーザ光りを投光するようになっている。投
光されたレーザ光(−は、その一部がディスク裏面D3
で反射されて反射光し3となり、他の部分はディスクD
中を通って表面D1側に透過して透過光L1となる。
33は、上記反則光L3を受光する反射光用受光器、3
4は上記透過光L1を受光する透過光用受光器である。
4は上記透過光L1を受光する透過光用受光器である。
これら受光器33.34はいずれも拡散仮受光器でおり
、その受光窓は第2図に示すように、ディスクの流れ方
向Cに対して垂直に配設されている。これら、受光器3
3.34はそれぞれ受光した反射光L3 、A通光L1
の光量の変化を電気信号f3.f1に変換し、これを微
分アンプ35.35−を通じて欠陥信号生成部36に出
力するようになっている。そして、欠陥信号生成部36
は前記透過光用受光器34及び、反射光用受光器33の
受光量の変化(即ち電気信号F3.flの変化)に基づ
き欠陥信号eを生成するようになっている。本実施例で
は欠陥信号生成部36は、反射光用受光器33からの出
力を入力するコンパレータ37と、透過光用受光器34
からの出力を入力するコンパレータ38と、これらコン
パレータ37.38のスライスレベルを任意に設定し得
るスライスレベル設定部39.40と、コンパレータ3
7,38からの出力を入力する排他的論理素子41とか
らなっている。
、その受光窓は第2図に示すように、ディスクの流れ方
向Cに対して垂直に配設されている。これら、受光器3
3.34はそれぞれ受光した反射光L3 、A通光L1
の光量の変化を電気信号f3.f1に変換し、これを微
分アンプ35.35−を通じて欠陥信号生成部36に出
力するようになっている。そして、欠陥信号生成部36
は前記透過光用受光器34及び、反射光用受光器33の
受光量の変化(即ち電気信号F3.flの変化)に基づ
き欠陥信号eを生成するようになっている。本実施例で
は欠陥信号生成部36は、反射光用受光器33からの出
力を入力するコンパレータ37と、透過光用受光器34
からの出力を入力するコンパレータ38と、これらコン
パレータ37.38のスライスレベルを任意に設定し得
るスライスレベル設定部39.40と、コンパレータ3
7,38からの出力を入力する排他的論理素子41とか
らなっている。
今、第3図に示すように、ディスクDの表面Di、内部
D2り裏面D3にそれぞれ欠陥B1゜B2 、B3があ
る場合について本装置の作用を説明する。先ず、第1図
に示すようにディスクDは矢印C方向に移動しており、
これに対し、レーザ光りが鉛直方向とθ(例えば10°
)の角度をもって照射されていて、その反射光L3と透
過光L1はそれぞれの受光器33.34に入光している
。そこでディスクDの移動に伴い、欠陥B1.。
D2り裏面D3にそれぞれ欠陥B1゜B2 、B3があ
る場合について本装置の作用を説明する。先ず、第1図
に示すようにディスクDは矢印C方向に移動しており、
これに対し、レーザ光りが鉛直方向とθ(例えば10°
)の角度をもって照射されていて、その反射光L3と透
過光L1はそれぞれの受光器33.34に入光している
。そこでディスクDの移動に伴い、欠陥B1.。
B2.83が順次レーザ光りの照射箇所まで来ると、そ
の透過光L1の光量が変化し、したがって微分アンプ3
5′の出力信号aの波形も前記欠陥B1 、B2 、B
3に対応して第4図(a)ニ示Tように変化する。そし
てこの信号aはコンパレータ38により、予め設定した
スライスレベルに基づきスライスされて信号b(第4図
(b)参照)として排他的論理和素子41に出力される
。一方、裏面の欠陥B3かレーザ光りの照射箇所まで来
ると、その反射光L3の光消も変化し、微分アンプ35
の出力信号Cの波形も欠陥B3に対応して第4図(C)
に承りように変化し、この信号Cはコンパレータ37に
より、予め設定したスライスレベルに基づきスライスさ
れて信号d(第4図(d)参照)として前記排他的論理
和素子41に出力される。そして排他的論理m素子41
は、前記信号すとdの排他的論理和をとり、第4図(e
)に示すような欠陥信号eを出力する。この信号eから
解るように、ディスク表面D1の欠陥B1と内部D2の
欠陥B2のみか検出されたこととなる。ただし、これは
裏面D3の欠陥B3が検出すべき大きざに達しない場合
であり、欠陥B3か検出すべき大きさであるときはスラ
イスレベル設定部39゜40を調整してコンパレータ3
8のスライスレベルと、コンパレータ37のスライスレ
ベルとを所定の大ぎざに設定することによって、信号す
における欠陥B3の対応波形す−と信g dにおける欠
陥B’3の対応波形d′とを条件設定して、欠陥B3を
検出できるようになっている。
の透過光L1の光量が変化し、したがって微分アンプ3
5′の出力信号aの波形も前記欠陥B1 、B2 、B
3に対応して第4図(a)ニ示Tように変化する。そし
てこの信号aはコンパレータ38により、予め設定した
スライスレベルに基づきスライスされて信号b(第4図
(b)参照)として排他的論理和素子41に出力される
。一方、裏面の欠陥B3かレーザ光りの照射箇所まで来
ると、その反射光L3の光消も変化し、微分アンプ35
の出力信号Cの波形も欠陥B3に対応して第4図(C)
に承りように変化し、この信号Cはコンパレータ37に
より、予め設定したスライスレベルに基づきスライスさ
れて信号d(第4図(d)参照)として前記排他的論理
和素子41に出力される。そして排他的論理m素子41
は、前記信号すとdの排他的論理和をとり、第4図(e
)に示すような欠陥信号eを出力する。この信号eから
解るように、ディスク表面D1の欠陥B1と内部D2の
欠陥B2のみか検出されたこととなる。ただし、これは
裏面D3の欠陥B3が検出すべき大きざに達しない場合
であり、欠陥B3か検出すべき大きさであるときはスラ
イスレベル設定部39゜40を調整してコンパレータ3
8のスライスレベルと、コンパレータ37のスライスレ
ベルとを所定の大ぎざに設定することによって、信号す
における欠陥B3の対応波形す−と信g dにおける欠
陥B’3の対応波形d′とを条件設定して、欠陥B3を
検出できるようになっている。
以上のように、本実施例によれば次の作用効果を奏する
。′?jなわち、 (1) 投光器29からディスクDに対し投光したレ
ーザ光しは、その一部がディスク裏面D3で反射され、
他の部分はディスク内D2を通って表面D1側に透過す
る。受光器反射光L3用のもの33と、透過光L1用の
もの34が設けられているので、反射光L3 iま受光
器33に、透過光L1は受光器34に受光されることと
なる。そして、この際、投光は凹凸のないディスクの裏
ff’、I D 3から行っているので反射光に干渉か
生じず高S/N比が得られる。
。′?jなわち、 (1) 投光器29からディスクDに対し投光したレ
ーザ光しは、その一部がディスク裏面D3で反射され、
他の部分はディスク内D2を通って表面D1側に透過す
る。受光器反射光L3用のもの33と、透過光L1用の
もの34が設けられているので、反射光L3 iま受光
器33に、透過光L1は受光器34に受光されることと
なる。そして、この際、投光は凹凸のないディスクの裏
ff’、I D 3から行っているので反射光に干渉か
生じず高S/N比が得られる。
(n) 反射光用の受光器33と、透過光用の受光器
34が設けであるので、透過光量の変化ではディスク表
面D1又は内部D2にある欠陥B1又はB2を検出でき
、ディスク裏面D3にある欠陥B3については反射光量
の変化で検出できるため、表面り、又は内部D2に市る
欠陥B、又はB2と裏面D3におる欠陥B3とてはその
検出基準を変えて検出することができる。
34が設けであるので、透過光量の変化ではディスク表
面D1又は内部D2にある欠陥B1又はB2を検出でき
、ディスク裏面D3にある欠陥B3については反射光量
の変化で検出できるため、表面り、又は内部D2に市る
欠陥B、又はB2と裏面D3におる欠陥B3とてはその
検出基準を変えて検出することができる。
(III)透過光用の受光器34と、反射光用の受光器
33を同時に設置し、同時に信号刀理をilっているの
で、表裏を別々に検査するのに比べて検査時間を短縮す
ることができる。また表裏を別々に検査した場合、光デ
ィスクでおると、その欠陥の位置が判らなくなってしま
うが、表裏同時に検査しているので位置決めの手間かは
ふける。
33を同時に設置し、同時に信号刀理をilっているの
で、表裏を別々に検査するのに比べて検査時間を短縮す
ることができる。また表裏を別々に検査した場合、光デ
ィスクでおると、その欠陥の位置が判らなくなってしま
うが、表裏同時に検査しているので位置決めの手間かは
ふける。
(IV) 透過と反射との排他的論理■1をとること
により、ディスク表面と内部にある欠陥Bz 。
により、ディスク表面と内部にある欠陥Bz 。
B2のみを検出するようにすることができる。
(V) 表面側コンパレータ37のスライスレベル3
9を変えることによって、裏面欠陥B2の検出すべき大
きざを任意に設定できる。
9を変えることによって、裏面欠陥B2の検出すべき大
きざを任意に設定できる。
以上本発明の一実施例について説明したが、本発明は上
記実施例に限らず、要旨の範囲内において適宜変形実施
可j1ヒである。
記実施例に限らず、要旨の範囲内において適宜変形実施
可j1ヒである。
例えば、投光はレーザに限らず、絞った光であればよく
、光センサを用いることができるものでおればよい。
、光センサを用いることができるものでおればよい。
また、欠点検出の設定方式は上記実施例のものに限らず
、任意のエン定方式(第7図参照)について有効でおる
。
、任意のエン定方式(第7図参照)について有効でおる
。
[発明の効果]
以上詳)ホしたように、本発明によれば、ディスク裏面
側から投光しているので光の干渉による悪影響を受けず
に精度のよい検査ができ、かつ反射光用の受光器と透過
充用の受光器とを設(ブているので、表面又は内部に必
る欠陥と裏面に必る欠陥とではその検査基準を変えて、
適正な品質管理を行うことができる。
側から投光しているので光の干渉による悪影響を受けず
に精度のよい検査ができ、かつ反射光用の受光器と透過
充用の受光器とを設(ブているので、表面又は内部に必
る欠陥と裏面に必る欠陥とではその検査基準を変えて、
適正な品質管理を行うことができる。
第1図は本発明装置の一例を示すブロック図、第2図は
受光窓を示す図、第3図は欠陥を示す図、第4図(a)
乃至(e)は作用説明のための波形図、第5図は従来例
の1!!!略図、第6図は同上ブロック図、第7図は同
上使用例を示す表面、第8図及び第9図はそれぞれ同上
作用税明図である。 2つ・・・投光器、33・・・反射光用受光器、34・
・・透過光用受光器、36・・・欠陥信弓生成部、D・
・・ディスク。
受光窓を示す図、第3図は欠陥を示す図、第4図(a)
乃至(e)は作用説明のための波形図、第5図は従来例
の1!!!略図、第6図は同上ブロック図、第7図は同
上使用例を示す表面、第8図及び第9図はそれぞれ同上
作用税明図である。 2つ・・・投光器、33・・・反射光用受光器、34・
・・透過光用受光器、36・・・欠陥信弓生成部、D・
・・ディスク。
Claims (1)
- ディスクに対し、その裏面側から光を投光する投光器と
、前記ディスクの透過光を受光する透過光用受光器と、
前記ディスクの反射光を受光する反射光用受光器と、こ
れら透過光用受光器及び反射光用受光器の受光量の変化
に基づき欠陥信号を生成する欠陥信号生成部とを具備し
たことを特徴とするディスクの欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19722786A JPS6353453A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | デイスクの欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19722786A JPS6353453A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | デイスクの欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6353453A true JPS6353453A (ja) | 1988-03-07 |
Family
ID=16370954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19722786A Pending JPS6353453A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | デイスクの欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6353453A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457154A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Nikon Corp | Defect inspecting apparatus |
| EP1353165A3 (en) * | 1994-07-13 | 2004-01-28 | KLA-Tencor Corporation | Automated photomask inspection apparatus and method |
| JP2006138754A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | ディスク表面検査方法及びその装置 |
-
1986
- 1986-08-25 JP JP19722786A patent/JPS6353453A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6457154A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Nikon Corp | Defect inspecting apparatus |
| EP1353165A3 (en) * | 1994-07-13 | 2004-01-28 | KLA-Tencor Corporation | Automated photomask inspection apparatus and method |
| JP2006138754A (ja) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co Ltd | ディスク表面検査方法及びその装置 |
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