JPS6353715A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS6353715A JPS6353715A JP19656086A JP19656086A JPS6353715A JP S6353715 A JPS6353715 A JP S6353715A JP 19656086 A JP19656086 A JP 19656086A JP 19656086 A JP19656086 A JP 19656086A JP S6353715 A JPS6353715 A JP S6353715A
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- Japan
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- magnetic
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- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
近年、磁気記録装置に用いられる磁気ディスクなどの磁
気記録媒体はますます高記録密度化の傾向にあり、また
、長期間にわたって高い信頼性が要望されてきており、
薄膜磁気記録媒体１例えば非磁性基体上にコバルト（Ｃ
ｏ）系合金あるいはＴ−Ｆｅ２０３ をスパッタ法など
で数百人〜１μｍ程度の薄膜に形成させ磁性層とする媒
体の研究が盛んに進められている。特に、ＣＯ系合金は
磁気特性に優れ、かつ、スパッタ法で比較的容易に均質
な組成の薄膜が得られ量産性に富んでいるため注目され
、Ｃｏ Ｎ＋系合金が多用されている。Ｎｉの含有量
は２０ａｔ％〜３Ｑａｔ％の範囲が良いことが知られて
いる。
気記録媒体はますます高記録密度化の傾向にあり、また
、長期間にわたって高い信頼性が要望されてきており、
薄膜磁気記録媒体１例えば非磁性基体上にコバルト（Ｃ
ｏ）系合金あるいはＴ−Ｆｅ２０３ をスパッタ法など
で数百人〜１μｍ程度の薄膜に形成させ磁性層とする媒
体の研究が盛んに進められている。特に、ＣＯ系合金は
磁気特性に優れ、かつ、スパッタ法で比較的容易に均質
な組成の薄膜が得られ量産性に富んでいるため注目され
、Ｃｏ Ｎ＋系合金が多用されている。Ｎｉの含有量
は２０ａｔ％〜３Ｑａｔ％の範囲が良いことが知られて
いる。
第６図にＣｏ−Ｎｉ系合金薄膜の磁性層を備えたディス
ク状磁気記録媒体の一例の層構成の模式的断面図を示す
。第６図において、基板１は例えばアルミニウム合金か
らなるディスク状基板、非磁性基体層２はニッケル（Ｎ
ｉ）−りん（Ｐ）合金を無電解めっきしたもの、非磁性
金属下地層３はクロム（Ｃｒ）をスパッタリングして形
成した層、磁性層４ａはＣｏ−Ｎｉ系合金をスパッタリ
ングして形成した層、保護潤滑層５はカーボン（Ｃ）ま
たは二酸化けい素（ＳｉＯ□）をスパッタリングしたも
のである。
ク状磁気記録媒体の一例の層構成の模式的断面図を示す
。第６図において、基板１は例えばアルミニウム合金か
らなるディスク状基板、非磁性基体層２はニッケル（Ｎ
ｉ）−りん（Ｐ）合金を無電解めっきしたもの、非磁性
金属下地層３はクロム（Ｃｒ）をスパッタリングして形
成した層、磁性層４ａはＣｏ−Ｎｉ系合金をスパッタリ
ングして形成した層、保護潤滑層５はカーボン（Ｃ）ま
たは二酸化けい素（ＳｉＯ□）をスパッタリングしたも
のである。
このように構成されたＣｏ−Ｎｉ系合金の磁気記録媒体
は非常に良好な磁気特性を示す。しかしながら、このＣ
ｏ−Ｎｉ系合金の媒体は初期の磁気特性は優れているが
その経時変化が激しいことがわかってきた。その後の研
究により、ＣｏＮ＋系合金薄膜の磁性層自体の耐食性が
弱く、雰囲気により腐食され磁気特性の劣化を招くこと
が判明した。
は非常に良好な磁気特性を示す。しかしながら、このＣ
ｏ−Ｎｉ系合金の媒体は初期の磁気特性は優れているが
その経時変化が激しいことがわかってきた。その後の研
究により、ＣｏＮ＋系合金薄膜の磁性層自体の耐食性が
弱く、雰囲気により腐食され磁気特性の劣化を招くこと
が判明した。
磁気記録媒体に対して高信頼性がますます強く求められ
ている現在、このような磁気特性の大きな経時変化は致
命的な欠点となるのでその対策が強く望まれているが、
磁性層の耐食性の向上策として次の３項目が考えられる
。
ている現在、このような磁気特性の大きな経時変化は致
命的な欠点となるのでその対策が強く望まれているが、
磁性層の耐食性の向上策として次の３項目が考えられる
。
ｌ）磁性層を被覆する保護潤滑層で湿気や腐食性ガス（
ＣＯ２，ＮＯ２，ＳＯ□など）の磁性層への影響を防ぐ
。
ＣＯ２，ＮＯ２，ＳＯ□など）の磁性層への影響を防ぐ
。
ｉｉ）磁性層を形成するＣｏ−Ｎｉ系合金に耐食性の高
い元素を添加し、磁性層表面に不働態を形成して腐食を
磁性層最表面で防ぐ。
い元素を添加し、磁性層表面に不働態を形成して腐食を
磁性層最表面で防ぐ。
ｉｉｉ ） 磁性層と保護潤滑層との間に、不働態を形
成する非磁性金属薄層を介在させ、湿気や腐食性ガスの
磁性層への影響を防ぐ。
成する非磁性金属薄層を介在させ、湿気や腐食性ガスの
磁性層への影響を防ぐ。
１）項については、磁気ヘッドとの充分な潤滑性や耐暦
耗性に必要な硬さなど保護潤滑層として必要な性能を保
持し、同時に雰囲気の影響を完全に遮断することのでき
るような保護膜はまだなく、保護潤滑層としては潤滑性
、硬さなどを優先して考えざるを得ない。また、ｉｉｉ
） 項については、非磁性金属層の膜厚の分だけ磁
性層表面と磁気ヘッドとのギャップが拡がることになり
高密度記録に対しては好ましくなく、できるだけ膜厚を
薄くしたいが、緻密な膜が得られにくくなる。従って、
耐食性を向上させるためには、ｉ）、 ｊｉ）項は補
助的な役割をもつだけと考え、ｌｊ）項により本質的に
磁性層の耐食性を向上させることを図ることが重要であ
る。今までにＣｏ−Ｎｉ系合金にＣｒを添加し耐食性を
・向上させることは知られているが、充分満足すべき結
果は得られていない。
耗性に必要な硬さなど保護潤滑層として必要な性能を保
持し、同時に雰囲気の影響を完全に遮断することのでき
るような保護膜はまだなく、保護潤滑層としては潤滑性
、硬さなどを優先して考えざるを得ない。また、ｉｉｉ
） 項については、非磁性金属層の膜厚の分だけ磁
性層表面と磁気ヘッドとのギャップが拡がることになり
高密度記録に対しては好ましくなく、できるだけ膜厚を
薄くしたいが、緻密な膜が得られにくくなる。従って、
耐食性を向上させるためには、ｉ）、 ｊｉ）項は補
助的な役割をもつだけと考え、ｌｊ）項により本質的に
磁性層の耐食性を向上させることを図ることが重要であ
る。今までにＣｏ−Ｎｉ系合金にＣｒを添加し耐食性を
・向上させることは知られているが、充分満足すべき結
果は得られていない。
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、Ｃ
ｏ−Ｎｉ系合金からなる磁気特性の優れた磁性層を備え
、かつ、耐食性が良好で磁気特性の経時変化の少ない磁
気記録媒体を堤供することを目的とする。
ｏ−Ｎｉ系合金からなる磁気特性の優れた磁性層を備え
、かつ、耐食性が良好で磁気特性の経時変化の少ない磁
気記録媒体を堤供することを目的とする。
本発明の目的は、非磁性基体層上に非磁性金属下地層と
磁性層と保護潤滑層とを順次積層してなる磁気記録媒体
の磁性層としてタンタル（Ｔａ）を２ａｔ％〜７ａｔ％
含有したＣｏ−Ｎｉ系合金の磁性薄膜を形成することに
より達成される。さらに、磁性層と保護潤滑層との間に
タンタル（Ｔａ）薄層を形成し介在させることにより、
耐食性をより向上させることができる。
磁性層と保護潤滑層とを順次積層してなる磁気記録媒体
の磁性層としてタンタル（Ｔａ）を２ａｔ％〜７ａｔ％
含有したＣｏ−Ｎｉ系合金の磁性薄膜を形成することに
より達成される。さらに、磁性層と保護潤滑層との間に
タンタル（Ｔａ）薄層を形成し介在させることにより、
耐食性をより向上させることができる。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら８閏
哄転る・ 第１図（ａ）は本発明の一実施例の磁気記録媒体の層構
成を示す模式的断面図であり、第６図と共通な部分は同
一符号で表しである。第１図（ａ）は第６図と基本的な
構成は同じであるが、第１図（ａ）が第６図と異なる点
は磁性層４にＴａを含有するＣｏ −Ｎｉ系合金を用い
たところにある。
哄転る・ 第１図（ａ）は本発明の一実施例の磁気記録媒体の層構
成を示す模式的断面図であり、第６図と共通な部分は同
一符号で表しである。第１図（ａ）は第６図と基本的な
構成は同じであるが、第１図（ａ）が第６図と異なる点
は磁性層４にＴａを含有するＣｏ −Ｎｉ系合金を用い
たところにある。
基板１としてディスク状アルミニウム合金基板を用い、
その表面を切削加工し、続いて表面研磨を行う。この基
板上に無電解めっきでＮ１−Ｐ合金を約２０μｍの厚さ
に被膜する。このＮＩ Ｐ層の表面を鏡面研磨し、さら
にテープポリッシュによるテクスチニア加工を施し膜厚
１０μｍ〜１３μｍの非磁性基体層２を形成する。
その表面を切削加工し、続いて表面研磨を行う。この基
板上に無電解めっきでＮ１−Ｐ合金を約２０μｍの厚さ
に被膜する。このＮＩ Ｐ層の表面を鏡面研磨し、さら
にテープポリッシュによるテクスチニア加工を施し膜厚
１０μｍ〜１３μｍの非磁性基体層２を形成する。
次いで、ＤＣマグネトロンスパッタ装置を用いて、非磁
性基体層２の上に各層を形成する。非磁性基体層２を形
成された基板１を装置内にセットし、Ａｒ雰囲気中で出
力４５０ＷのＲｆ電力を印加してグロー放電を発生させ
非磁性基体層２の表面を清浄化する。続いて基板１を１
５０℃に加熱し、その温度に制御しながら圧力１Ｏ−２
Ｔｏｒｒ （７）Ａｒ雰囲気中でＣｒをスパッタリング
して膜厚２０００人の非磁性金属下地層３を形成する。
性基体層２の上に各層を形成する。非磁性基体層２を形
成された基板１を装置内にセットし、Ａｒ雰囲気中で出
力４５０ＷのＲｆ電力を印加してグロー放電を発生させ
非磁性基体層２の表面を清浄化する。続いて基板１を１
５０℃に加熱し、その温度に制御しながら圧力１Ｏ−２
Ｔｏｒｒ （７）Ａｒ雰囲気中でＣｒをスパッタリング
して膜厚２０００人の非磁性金属下地層３を形成する。
引き続いて、同じ基板温度、雰囲気中で、本発明による
Ｃｏ−３０ａｔ％Ｎｉ −Ｔａ合金をスパッタリングし
て下地層３の上に磁性層４を膜厚５００人になるように
形成した。この磁性層についてはＴａを添加する効果を
明らかにするためにＴａ含有量を０から２ａｔ％おきに
１４ａｔ％まで変化させたものを作製した。磁性層４を
形成後、その上に引き続いて同じ基板温度、雰囲気中で
カーボンをスパッタリングして膜厚５００人の保護潤滑
層５を形成し磁気記録媒体とした。
Ｃｏ−３０ａｔ％Ｎｉ −Ｔａ合金をスパッタリングし
て下地層３の上に磁性層４を膜厚５００人になるように
形成した。この磁性層についてはＴａを添加する効果を
明らかにするためにＴａ含有量を０から２ａｔ％おきに
１４ａｔ％まで変化させたものを作製した。磁性層４を
形成後、その上に引き続いて同じ基板温度、雰囲気中で
カーボンをスパッタリングして膜厚５００人の保護潤滑
層５を形成し磁気記録媒体とした。
次に、以上のようにして得られた磁気記録媒体の緒特性
について述べる。
について述べる。
第２図（ａ）〜（Ｃ）は磁性層を形成するＣｏ−３０ａ
ｔ％Ｎｉ−Ｔａ合金中のＴａ含有量を変化させたときの
磁気特性との関係を示す線図であり、各図において横軸
はいずれもＴａ含有量を示し、第２図（ａ）は保磁力Ｈ
ｃ、第２図（ｂ）は角形比Ｓ（残留磁束密度Ｂ、／飽和
磁束密度Ｂ ｓ ） 、 第２図（Ｃ）は残留磁束密
度Ｂ。
ｔ％Ｎｉ−Ｔａ合金中のＴａ含有量を変化させたときの
磁気特性との関係を示す線図であり、各図において横軸
はいずれもＴａ含有量を示し、第２図（ａ）は保磁力Ｈ
ｃ、第２図（ｂ）は角形比Ｓ（残留磁束密度Ｂ、／飽和
磁束密度Ｂ ｓ ） 、 第２図（Ｃ）は残留磁束密
度Ｂ。
と磁性層膜厚δとの積とＴａ含有量との関係を示す線図
である。
である。
第２図（ａ）〜（Ｃ）に見られるとおり、Ｔａ含有量が
増加するにつれてＨｃ、Ｓ、Ｂ、・δともに減少するが
、Ｈｃ についてはＴａ含有量が約３ａｔ％をこえると
急激に減少する。また、ＳについてはＴａ含有量が増加
するにつれてその減少率が大きくなっていき、Ｂ、・δ
はＴａ含有量が（３ａｔ％をこえると激減する。磁気記
録媒体としての使用限界としてＨｃを８０００ｅ、
Ｓを０．８以上とするとＴａ含有量を約７ａｔ％以下に
抑えなければならないことがわかる。
増加するにつれてＨｃ、Ｓ、Ｂ、・δともに減少するが
、Ｈｃ についてはＴａ含有量が約３ａｔ％をこえると
急激に減少する。また、ＳについてはＴａ含有量が増加
するにつれてその減少率が大きくなっていき、Ｂ、・δ
はＴａ含有量が（３ａｔ％をこえると激減する。磁気記
録媒体としての使用限界としてＨｃを８０００ｅ、
Ｓを０．８以上とするとＴａ含有量を約７ａｔ％以下に
抑えなければならないことがわかる。
次に、これらの磁気記録媒体の磁性層の耐食性について
調べるために磁性層のＴａ含有量がＱａｔ％。
調べるために磁性層のＴａ含有量がＱａｔ％。
２ａｔ％、４ａｔ％、５ａｔ％の各媒体を温度８０℃、
相対湿度８０％の恒温恒湿槽内に１２Ｗｅｅｋｓ間放置
して磁気特性の変化を調べた。そのときの保磁力の変化
率ΔＨｃ、単位表単位当面積当残留磁化の変化率ΔＢ７
・δの結果を第３図に示す。両者ともにＴａ含有量が増
加するにつれて変化率が少なくなり、Ｔａ含有量（ｉａ
ｔ％の媒体がＨｃ 、Ｂ、・δともに変化が少ないこと
がわかる。
相対湿度８０％の恒温恒湿槽内に１２Ｗｅｅｋｓ間放置
して磁気特性の変化を調べた。そのときの保磁力の変化
率ΔＨｃ、単位表単位当面積当残留磁化の変化率ΔＢ７
・δの結果を第３図に示す。両者ともにＴａ含有量が増
加するにつれて変化率が少なくなり、Ｔａ含有量（ｉａ
ｔ％の媒体がＨｃ 、Ｂ、・δともに変化が少ないこと
がわかる。
以上のように磁気記録媒体の磁性層を形成するＣｏ−Ｎ
ｉ系合金にＴａを添加するとその耐食性が向上すること
、しかもその含有量が多い程効果があることがわかった
が、前述のようにＴａ含有量が多くなると磁気特性は低
下する。実用的には、Ｔａ含有量は７ａｔ％以下に抑え
ることが必要であり、好適には（３ａｔ％以下である。
ｉ系合金にＴａを添加するとその耐食性が向上すること
、しかもその含有量が多い程効果があることがわかった
が、前述のようにＴａ含有量が多くなると磁気特性は低
下する。実用的には、Ｔａ含有量は７ａｔ％以下に抑え
ることが必要であり、好適には（３ａｔ％以下である。
そこで、媒体の磁気特性を損なうことなく、さらに耐食
性を高めるために、第１図ら）に示すように磁性層４と
保護潤滑層５との間に非磁性金属保護層６としてＴａ層
をスパッタで形成した磁気記録媒体を作製した。磁性層
４はＣｏ−３０ａｔ％Ｎｌ ５ａｔ％Ｔａ合金をスパ
ッタリングして膜厚５００人に形成し、非磁性金属保護
層６のＴａ層は耐食性への影響をみるためにその膜厚を
０ 、１００．２００．３００八 と変化させて形成し
た。
性を高めるために、第１図ら）に示すように磁性層４と
保護潤滑層５との間に非磁性金属保護層６としてＴａ層
をスパッタで形成した磁気記録媒体を作製した。磁性層
４はＣｏ−３０ａｔ％Ｎｌ ５ａｔ％Ｔａ合金をスパ
ッタリングして膜厚５００人に形成し、非磁性金属保護
層６のＴａ層は耐食性への影響をみるためにその膜厚を
０ 、１００．２００．３００八 と変化させて形成し
た。
これらの媒体を温度８０℃、相対湿度８０％の恒温恒湿
槽内に１２Ｗｅｅｋｓ放置してその磁気特性の変動を調
べた結果を第４図に示す。Ｔａ層の膜厚が１００゜２０
０、３００人の場合はΔＨｃ に全く差がなかったので
、同一の線で示した。第４図から明らかなとおり、Ｔａ
層を設けることによりＨｃ、 Ｂｒ・δともに変動が少
なくなり耐食性は向上するが、膜厚１００Å以上ではそ
の効果に差は認められず、非磁性金属保護層としてのＴ
ａ層の膜厚は１００人あれば充分であることがわかる。
槽内に１２Ｗｅｅｋｓ放置してその磁気特性の変動を調
べた結果を第４図に示す。Ｔａ層の膜厚が１００゜２０
０、３００人の場合はΔＨｃ に全く差がなかったので
、同一の線で示した。第４図から明らかなとおり、Ｔａ
層を設けることによりＨｃ、 Ｂｒ・δともに変動が少
なくなり耐食性は向上するが、膜厚１００Å以上ではそ
の効果に差は認められず、非磁性金属保護層としてのＴ
ａ層の膜厚は１００人あれば充分であることがわかる。
耐食性に対するＴａの効果を総合的に判断するために、
Ａ１合金基板−膜厚１３μｍのＮ１−Ｐ合金の非磁性基
体層−膜厚２０００人のＣｒの非磁性金属下地層−膜厚
５００人のＣｏ−３０ａｔ％Ｎｌ ５ａｔ％Ｔａ合金
の磁性層−膜厚５００人のカーボン保護潤滑層という構
成の磁気記録媒体を実施例１とし、実施例１の磁性層と
保護潤滑層との間にさらに膜厚１００人のＴａの非磁性
金属保護層を設けた媒体を実施例２とし、実施例１の磁
性層をＣｏ−３０ａｔ％Ｎｉ −７，５ａｔ％Ｃｒに変
えた媒体を比較例とし、これらの媒体を温度８０℃、相
対湿度８０％の恒温恒湿槽内に１２Ｗｅｅｋｓ放置して
磁気特性の変動を調べた。その結果を第５図に示す。第
５図に見られるとおり、磁性へこＴ”を添加した実施例
１は比較例よりも明らかに磁気特性の変動が少なく耐食
性が大幅に向上したことがわかる。さらに磁性層を被覆
するようにＴａ層を設けた実施例２は実施例１よりもさ
らに耐食性が向上しており、このようにＴａを利用する
ことにより磁気記録媒体の耐食性が向上し、高信頼性の
媒体を得ることができる効果は明確である。
Ａ１合金基板−膜厚１３μｍのＮ１−Ｐ合金の非磁性基
体層−膜厚２０００人のＣｒの非磁性金属下地層−膜厚
５００人のＣｏ−３０ａｔ％Ｎｌ ５ａｔ％Ｔａ合金
の磁性層−膜厚５００人のカーボン保護潤滑層という構
成の磁気記録媒体を実施例１とし、実施例１の磁性層と
保護潤滑層との間にさらに膜厚１００人のＴａの非磁性
金属保護層を設けた媒体を実施例２とし、実施例１の磁
性層をＣｏ−３０ａｔ％Ｎｉ −７，５ａｔ％Ｃｒに変
えた媒体を比較例とし、これらの媒体を温度８０℃、相
対湿度８０％の恒温恒湿槽内に１２Ｗｅｅｋｓ放置して
磁気特性の変動を調べた。その結果を第５図に示す。第
５図に見られるとおり、磁性へこＴ”を添加した実施例
１は比較例よりも明らかに磁気特性の変動が少なく耐食
性が大幅に向上したことがわかる。さらに磁性層を被覆
するようにＴａ層を設けた実施例２は実施例１よりもさ
らに耐食性が向上しており、このようにＴａを利用する
ことにより磁気記録媒体の耐食性が向上し、高信頼性の
媒体を得ることができる効果は明確である。
本発明によれば磁性層を形成するＣｏ−Ｎｉ系合金にＴ
ａを２ａｔ％〜７ａｔ％添加する、また、さらにそれに
加えて磁性層と保護潤滑層との間に磁性層を被覆するよ
うにＴａ薄層を形成する。このようにＴａを利用するこ
とにより、磁気特性に優れ、かつ、耐食性が良好で磁気
特性の経時変化の少ない磁気記録媒体が得られ、媒体の
信頼性が飛躍的に向上する。その結果、優れた特性で信
頼性が高い磁気記録装置が得られることになりその効果
は著しい。
ａを２ａｔ％〜７ａｔ％添加する、また、さらにそれに
加えて磁性層と保護潤滑層との間に磁性層を被覆するよ
うにＴａ薄層を形成する。このようにＴａを利用するこ
とにより、磁気特性に優れ、かつ、耐食性が良好で磁気
特性の経時変化の少ない磁気記録媒体が得られ、媒体の
信頼性が飛躍的に向上する。その結果、優れた特性で信
頼性が高い磁気記録装置が得られることになりその効果
は著しい。
第１図は本発明の磁気記録媒体の二つの例の層構成を示
す模式的断面図。第２図は磁性層のＴａ含有量と磁気特
性との関係を示す線図。第３乃至第５図は温度８０℃、
相対湿度８０％の雲囲気中に放置した磁気記録媒体の磁
気特性の変化を示す線図で、第３図は磁性層へのＴａ含
有量をパラメータとしたもの、第４図は非磁性金属保護
層としてのＴａｌ膜厚をパラメータとしたもの、第５図
は実施例、比較例を対比させたものである。第６図は従
来の磁気記録媒体の層構成を示す模式的断面図である。 ｌ・基板、２ 非磁性基体層、３ 非磁性金属下地層、
４ 磁性層、５ 保護潤滑層、６ 非磁性金属保護層。 （Ｑ） Ｃｂ） 第 １ 図 ０ ５ １１） ７５ ０ ５
ｌＯ１５Ｔｈ含有量（ａｔ／ａ） Ｔ
ｈ含真ｔ（ｍ％）（ｄ） （ｂ
）１含＊量（ａｔ協） （Ｃ１ ｒ！Ｊ ２ 区 ０ ２ ４ ６ ８ ｌＯ７２／４ 桟１期間（ｗｅｅｋＳ） 第３図 ０ ２ ４ ６ Ｂ １０ ｆＺ放置
期間（ＶＪｅｅｋｓ） ０ ２ ４ ６ Ｂ ｆｏ ｒ２ ７４Ｍ、１
期Ｍ （ｗｅｅＸＳ） ′！ｆＪ５図
す模式的断面図。第２図は磁性層のＴａ含有量と磁気特
性との関係を示す線図。第３乃至第５図は温度８０℃、
相対湿度８０％の雲囲気中に放置した磁気記録媒体の磁
気特性の変化を示す線図で、第３図は磁性層へのＴａ含
有量をパラメータとしたもの、第４図は非磁性金属保護
層としてのＴａｌ膜厚をパラメータとしたもの、第５図
は実施例、比較例を対比させたものである。第６図は従
来の磁気記録媒体の層構成を示す模式的断面図である。 ｌ・基板、２ 非磁性基体層、３ 非磁性金属下地層、
４ 磁性層、５ 保護潤滑層、６ 非磁性金属保護層。 （Ｑ） Ｃｂ） 第 １ 図 ０ ５ １１） ７５ ０ ５
ｌＯ１５Ｔｈ含有量（ａｔ／ａ） Ｔ
ｈ含真ｔ（ｍ％）（ｄ） （ｂ
）１含＊量（ａｔ協） （Ｃ１ ｒ！Ｊ ２ 区 ０ ２ ４ ６ ８ ｌＯ７２／４ 桟１期間（ｗｅｅｋＳ） 第３図 ０ ２ ４ ６ Ｂ １０ ｆＺ放置
期間（ＶＪｅｅｋｓ） ０ ２ ４ ６ Ｂ ｆｏ ｒ２ ７４Ｍ、１
期Ｍ （ｗｅｅＸＳ） ′！ｆＪ５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）非磁性基体層上に非磁性金属下地層と磁性層と保護
潤滑層とを順次積層してなる磁気記録媒体において、前
記磁性層がタンタル（Ｔａ）を２ａｔ％〜７ａｔ％含む
コバルト（Ｃｏ）−ニッケル（Ｎｉ）系合金からなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、磁性層
のタンタル（Ｔａ）含有量を４ａｔ％〜６ａｔ％とする
ことを特徴とする磁気記録媒体。 ３）非磁性基体層上に非磁性金属下地層と磁性層と保護
潤滑層とを順次積層してなる磁気記録媒体において、前
記磁性層がタンタル（Ｔａ）を２ａｔ％〜７ａｔ％含む
コバルト（Ｃｏ）−ニッケル（Ｎｉ）系合金からなり、
かつ、該磁性層と前記保護潤滑層との間にタンタル（Ｔ
ａ）からなる非磁性金属保護層を介在させることを特徴
とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196560A JPH0673170B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196560A JPH0673170B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6353715A true JPS6353715A (ja) | 1988-03-08 |
| JPH0673170B2 JPH0673170B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=16359762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61196560A Expired - Lifetime JPH0673170B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673170B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113419A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-25 | Kubota Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61190716A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-25 | Ulvac Corp | 面内記録型磁気記録体 |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP61196560A patent/JPH0673170B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61190716A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-25 | Ulvac Corp | 面内記録型磁気記録体 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02113419A (ja) * | 1988-10-21 | 1990-04-25 | Kubota Ltd | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0673170B2 (ja) | 1994-09-14 |
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