JPS6357724A - 線状細粒のない一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
線状細粒のない一方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- JPS6357724A JPS6357724A JP19992886A JP19992886A JPS6357724A JP S6357724 A JPS6357724 A JP S6357724A JP 19992886 A JP19992886 A JP 19992886A JP 19992886 A JP19992886 A JP 19992886A JP S6357724 A JPS6357724 A JP S6357724A
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鋼板を構成する結晶が（１１０）＜００１）
方位を有し、圧延方向に磁化され易い一方向性珪素鋼板
の製造法に関し、特に線状細粒のない成品の製造法に関
する。
方位を有し、圧延方向に磁化され易い一方向性珪素鋼板
の製造法に関し、特に線状細粒のない成品の製造法に関
する。
一方向性珪素鋼板では線状細粒が発生すると、その部分
の電磁特性、特に鉄損の劣化を来たすので、この線状細
粒を防止することが望ましい。
の電磁特性、特に鉄損の劣化を来たすので、この線状細
粒を防止することが望ましい。
従来の技術として、特公昭５０−３７００９号、特公昭
６０−３７１７２号には、熱延工程の前に予め加熱、圧
延を行い、これに続く熱延工程でスラブの高温加熱時の
結晶粗大化を防止する技術が開示されており、珪素鋼ス
ラブを高温加熱後熱延する工程において、圧延中のパス
時に、９６０〜１１９０℃の温度範囲で、ｌバス当り３
０％以ヒの圧下率で、再結晶化高圧下圧延を少なくとも
１回施すことを特徴とし、以後通常工程で成品とするこ
とにより成品線状細粒を防止する一方向性珪素鋼板の製
造方法について開示されている。
６０−３７１７２号には、熱延工程の前に予め加熱、圧
延を行い、これに続く熱延工程でスラブの高温加熱時の
結晶粗大化を防止する技術が開示されており、珪素鋼ス
ラブを高温加熱後熱延する工程において、圧延中のパス
時に、９６０〜１１９０℃の温度範囲で、ｌバス当り３
０％以ヒの圧下率で、再結晶化高圧下圧延を少なくとも
１回施すことを特徴とし、以後通常工程で成品とするこ
とにより成品線状細粒を防止する一方向性珪素鋼板の製
造方法について開示されている。
しかしながらＬ記技術においては以下のような欠点があ
る。
る。
（１）熱間圧延工程で制御した再結晶化圧延を行う必要
があるが、その適正温度領域の範囲を実圧延機で捜すの
に時間と労力がかかる。
があるが、その適正温度領域の範囲を実圧延機で捜すの
に時間と労力がかかる。
（２）圧延機のスピードは近年益々速くなり、動的再結
晶をおこす時間が確保できなくなっている。
晶をおこす時間が確保できなくなっている。
このような観点から、本発明者はスラブの熱間圧延工程
ではなく、冷間圧延工程での処理について研究し、成る
処理条件を採用することにより、前述の欠陥のない成品
を製造することに成功した。
ではなく、冷間圧延工程での処理について研究し、成る
処理条件を採用することにより、前述の欠陥のない成品
を製造することに成功した。
本発明は一方向性珪素鋼板の冷間圧延工程において、熱
間圧延での生産性をおとさず、かつ容易に、成品に線状
細粒が発生しない方法を提供することを目的とするもの
である。
間圧延での生産性をおとさず、かつ容易に、成品に線状
細粒が発生しない方法を提供することを目的とするもの
である。
本発明は
（ａ）Ｓｉ：２〜４重量％、Ｃ： ０．０８５ 重Ａｆ
：％以下並びにインヒビタ成分を含み、残余はＦｅおよ
び不可避的不純物元素よりなるホーノドコイルを製造し
、 （ｂ）このホットコイルを冷間圧延により最終板厚とし
、 （Ｃ）次いで高温焼鈍工程において、フォルステライト
皮膜形成温度以下で、かつ下記（１）式で表される温度
具」−の２次再結晶焼鈍領域に保持すること を特徴とする線状、細粒のない一方向性珪素鋼板の製造
Ｉノ、を技術手段とする。
：％以下並びにインヒビタ成分を含み、残余はＦｅおよ
び不可避的不純物元素よりなるホーノドコイルを製造し
、 （ｂ）このホットコイルを冷間圧延により最終板厚とし
、 （Ｃ）次いで高温焼鈍工程において、フォルステライト
皮膜形成温度以下で、かつ下記（１）式で表される温度
具」−の２次再結晶焼鈍領域に保持すること を特徴とする線状、細粒のない一方向性珪素鋼板の製造
Ｉノ、を技術手段とする。
Ｔ ＝ ）ｌｉｇｈ （ＴＡ （＋−Ｅ） 、 ＴＡ
（Ｔ Ｅ） ）・・・・・・（１） ただし、 記号旧ｇｈ（Ａ、Ｂ、Ｃ，・・・）はＡ、Ｂ、Ｃ２・・
・のうち最も高温のものを示す。
（Ｔ Ｅ） ）・・・・・・（１） ただし、 記号旧ｇｈ（Ａ、Ｂ、Ｃ，・・・）はＡ、Ｂ、Ｃ２・・
・のうち最も高温のものを示す。
ＴＡ（Ｌ Ｅ ） ＝Ｈｉｇｈ（ＴＡ １ （Ｌ Ｅ）
。
。
ＴＡ２（ＬＥ）、・・・、 ＴＡ ｎ （Ｌ Ｅ） ）
ＴＡｎ（ｔ Ｅ） ：コイルの先端部における幅方向
ｎ番目の２次再結晶温度 ＴＡ（Ｔ Ｅ ） ＝Ｈｉｇｈ （ＴＡ ｌ（Ｔ Ｅ）
。
ＴＡｎ（ｔ Ｅ） ：コイルの先端部における幅方向
ｎ番目の２次再結晶温度 ＴＡ（Ｔ Ｅ ） ＝Ｈｉｇｈ （ＴＡ ｌ（Ｔ Ｅ）
。
ＴＡ２ （ＴＥ） 、−、ＴＡｎ （ＴＥ））Ｔ
Ａｎ（ｖ Ｅ） ：コイルの先端部における幅方向ｎ
番目の２次再結晶温度 Ｔ：２次再結晶焼鈍領域保持温度 である。
Ａｎ（ｖ Ｅ） ：コイルの先端部における幅方向ｎ
番目の２次再結晶温度 Ｔ：２次再結晶焼鈍領域保持温度 である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明は、一方向性珪素鋼板の製造において、連続鋳造
工程、熱間圧延工程に引続く冷間圧延工程の中で、最終
高温焼鈍温度を素材のもつ２次再結晶温度以上とするこ
とを特徴とするものであり、その結果、線状細粒のない
２次再結晶の完全な成品を安定して製造するものである
。
工程、熱間圧延工程に引続く冷間圧延工程の中で、最終
高温焼鈍温度を素材のもつ２次再結晶温度以上とするこ
とを特徴とするものであり、その結果、線状細粒のない
２次再結晶の完全な成品を安定して製造するものである
。
本発明の対象とする珪素鋼ホットコイルはＳｉ：２〜４
重量％、Ｃ：０．０８５重州％以下並びにインヒビタ成
分、例えば、Ｍｎ、Ｓ、Ｓｅ。
重量％、Ｃ：０．０８５重州％以下並びにインヒビタ成
分、例えば、Ｍｎ、Ｓ、Ｓｅ。
Ａ見、ｓｂ等を適宜含み、残余は鉄および混入不純物元
素から成る。
素から成る。
上記成分の限定理由は、Ｓｉについては、４手＝量％を
超えると、冷間圧延が困難となり好ましくない。２重量
％未満では磁気特性上不利となる。
超えると、冷間圧延が困難となり好ましくない。２重量
％未満では磁気特性上不利となる。
従って２〜４屯量％とする。
Ｃは０．０８５重量％を超すと、脱炭焼鈍を完全に行う
ことが困難となり、好ましくない。本発明の出発素材は
、すでに公知の技術である製鋼方法、連続鋳造法、熱間
圧延法で得られる熱延板である。この熱延板は通常、１
回以上の冷延と中間焼鈍により、最終板厚とする。冷延
後は脱炭焼鈍および鋼板表面にＭｇＯを塗布したのち最
終焼鈍に供される。最終焼鈍後の平坦化焼鈍は公知の方
法をそのまま行えばよい。
ことが困難となり、好ましくない。本発明の出発素材は
、すでに公知の技術である製鋼方法、連続鋳造法、熱間
圧延法で得られる熱延板である。この熱延板は通常、１
回以上の冷延と中間焼鈍により、最終板厚とする。冷延
後は脱炭焼鈍および鋼板表面にＭｇＯを塗布したのち最
終焼鈍に供される。最終焼鈍後の平坦化焼鈍は公知の方
法をそのまま行えばよい。
上記工程において本発明の特徴は最終焼鈍工程にある。
この最終焼鈍は、第１図に示すように２次回結晶焼鈍領
域Ａと更に高温での純化焼鈍領域Ｂよりなる。
域Ａと更に高温での純化焼鈍領域Ｂよりなる。
２次回結晶領域Ａで、鋼板は（１１０） （００１）
方位をもった２次再結晶粒でおおわれるので、ここでの
焼鈍温度Ｔが極めて重要な役割りを果たす０本発明はこ
の焼鈍温度Ｔを決定するもので、本発明方法により、線
状細粒のない一方向性珪素の鋼板を安定して製造するこ
とができる。
方位をもった２次再結晶粒でおおわれるので、ここでの
焼鈍温度Ｔが極めて重要な役割りを果たす０本発明はこ
の焼鈍温度Ｔを決定するもので、本発明方法により、線
状細粒のない一方向性珪素の鋼板を安定して製造するこ
とができる。
さて、木発明者は、最終板厚となった脱炭焼鈍後のコイ
ルの２次再結晶挙動をコイルの長手方向および幅方向に
わたり、調べた。その結果を第２図、第３図に模式的に
示した。第２図はコイルの幅方向に細分化していった詩
の各鋼板部分の２次再結晶温度（以下ＴＡと称する）が
どのように変化しているものかを示した。ＴＡはランダ
ムに変化し、またばらついている。第３図は、第２図の
ＴＡを持った鋼板をＴＡｍａｘまたはＴＡＩ！ｉｎで実
際に焼鈍した時の線状細粒発生率を示したものである。
ルの２次再結晶挙動をコイルの長手方向および幅方向に
わたり、調べた。その結果を第２図、第３図に模式的に
示した。第２図はコイルの幅方向に細分化していった詩
の各鋼板部分の２次再結晶温度（以下ＴＡと称する）が
どのように変化しているものかを示した。ＴＡはランダ
ムに変化し、またばらついている。第３図は、第２図の
ＴＡを持った鋼板をＴＡｍａｘまたはＴＡＩ！ｉｎで実
際に焼鈍した時の線状細粒発生率を示したものである。
ＴＡａｉｎまたはそれ以ｆの温度で鋼板を焼鈍すると、
細粒発生率は１００％であるのに対し、ＴＡＩｉｌａｉ
またはそれ以上の温度で焼鈍したものは線状細粒が全く
発生してないことがわかる。
細粒発生率は１００％であるのに対し、ＴＡＩｉｌａｉ
またはそれ以上の温度で焼鈍したものは線状細粒が全く
発生してないことがわかる。
第４図は、コイルの長手方向での２次再結晶温度の変化
を示す。ＴＡは先端部（ＬＥ）、中間部（Ｍ）、尾端部
（ＴＥ）と線型に変化するが、絶対値はランダムである
。
を示す。ＴＡは先端部（ＬＥ）、中間部（Ｍ）、尾端部
（ＴＥ）と線型に変化するが、絶対値はランダムである
。
第５図は第４図のＴＡをもった鋼板を、ＴＡｌｌ、６
、ＴＡ ｆｆ１ｉｎで実際に焼鈍した時の線状細粒率の
変化である。
、ＴＡ ｆｆ１ｉｎで実際に焼鈍した時の線状細粒率の
変化である。
ＴＡ ｗｉｎまたはそれ以下の温度で焼鈍すると線状細
粒率が１００％であるのに対し、ＴＡＩＩｌａＩまたは
それ以上の温度で焼鈍すると線状細粒は完全に消滅し、
均一な２次１’Ｔ結晶組織が得られる。この場合もちろ
ん、フォルステライト皮膜形成温度以下でなければなら
ない。
粒率が１００％であるのに対し、ＴＡＩＩｌａＩまたは
それ以上の温度で焼鈍すると線状細粒は完全に消滅し、
均一な２次１’Ｔ結晶組織が得られる。この場合もちろ
ん、フォルステライト皮膜形成温度以下でなければなら
ない。
実施例Ｉ
Ｃ：０．０５重量％
Ｓｉ ・３．３重量％
Ｓｅ：０．０４０重縫％
を含む ホットコイルを最終板厚０．２３ｍｍとした。
８４０°Ｃで脱炭焼鈍し、幅方向、長手方向の２次再結
晶温度を測定したところ、次の通りであった。
晶温度を測定したところ、次の通りであった。
ＴＡ （Ｌ Ｅ） ＝Ｈｉｇｈ （ＴＡＩ−１（Ｌ Ｅ
） ） ＝ ８４０ＴＡ （Ｔ Ｅ） ＝Ｈｉｇ
ｈ （ＴＡｎ（ｖ Ｅ） ） ＝ ８ ５
１Ｔ＝Ｈｉｇｈ（ＴＡ（ＬＥ）、ＴＡ（ＴＥ））＝８５
１そこで最終箱型焼鈍を８５１’０で実施したところ、
線状細粒率はＯであった。
） ） ＝ ８４０ＴＡ （Ｔ Ｅ） ＝Ｈｉｇ
ｈ （ＴＡｎ（ｖ Ｅ） ） ＝ ８ ５
１Ｔ＝Ｈｉｇｈ（ＴＡ（ＬＥ）、ＴＡ（ＴＥ））＝８５
１そこで最終箱型焼鈍を８５１’０で実施したところ、
線状細粒率はＯであった。
実施例２
Ｃ：０．０６重量％
Ｓｉ：３．１重量％
Ａ文： ０．０３重量％
を含むホットコイルを製造し、１回の冷間圧延で最終板
厚０．２０ｍｍとした。８４０°Ｃで脱炭焼鈍し、幅方
向、長手方向の２次再結晶温度を測定したところ次の通
りであった６ ＴＡ（ＬＥ）＝９２０ ＴＡ（ＴＥ）＝８９１ Ｔ＝ ９ ２ ０ そこで較終箱型焼鈍を９２０℃で実施したところ線状細
粒率はＯであった。
厚０．２０ｍｍとした。８４０°Ｃで脱炭焼鈍し、幅方
向、長手方向の２次再結晶温度を測定したところ次の通
りであった６ ＴＡ（ＬＥ）＝９２０ ＴＡ（ＴＥ）＝８９１ Ｔ＝ ９ ２ ０ そこで較終箱型焼鈍を９２０℃で実施したところ線状細
粒率はＯであった。
〔発１９」の効果〕
！Ａｆ１４条件、熱間圧延条件の如何にかかわらず、最
終焼鈍の温度を選択することにより、線状細粒発生率を
皆無にすることができる。
終焼鈍の温度を選択することにより、線状細粒発生率を
皆無にすることができる。
第１図は最終焼鈍のヒートパターンを示すグラフ、第２
図は幅方向の２次再結晶温度の変化を示すグラフ、第３
図は線状細粒発生率と焼鈍温度の関係を示すグラフ、第
４図は長さ方向の２次再結晶温度の変化を示すグラフ、
第５図は線状細粒発生率と焼鈍温度との関係を示すグラ
フである。
図は幅方向の２次再結晶温度の変化を示すグラフ、第３
図は線状細粒発生率と焼鈍温度の関係を示すグラフ、第
４図は長さ方向の２次再結晶温度の変化を示すグラフ、
第５図は線状細粒発生率と焼鈍温度との関係を示すグラ
フである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｓｉ：２〜４重量％ Ｃ：０．０８５重量％以下 並びにインヒビタ成分を含み、残余はＦｅおよび不可避
的不純物元素よりなるホットコイルを製造し、該ホット
コイルを冷間圧延により最終板厚とし、次いで高温焼鈍
工程において、フォルステライト皮膜形成温度以下で、
かつ下記（１）式で表される温度以上の２次再結晶焼鈍
領域に保持することを特徴とする線状細粒のない一方向
性珪素鋼板の製造法。 Ｔ＝Ｈｉｇｈ（Ｔ＿Ａ（ＬＥ）、Ｔ＿Ａ（ＴＥ））・・
・・・・（１） ただし、 記号Ｈｉｇｈ（Ａ、Ｂ、Ｃ、・・・）はＡ、Ｂ、Ｃ、・
・・のうち最も高温のものを示す。 Ｔ＿Ａ（ＬＥ）＝Ｈｉｇｈ（Ｔ＿Ａ＿１（ＬＥ）、Ｔ＿
Ａ＿２（ＬＥ）、・・・、Ｔ＿Ａ＿ｎ（ＬＥ））Ｔ＿Ａ
＿ｎ（ＬＥ）：コイルの先端部における幅方向ｎ番目の
２次再結晶温度 Ｔ＿Ａ（ＴＥ）＝Ｈｉｇｈ（Ｔ＿Ａ＿１（ＴＥ）、Ｔ＿
Ａ＿２（ＴＥ）、・・・、Ｔ＿Ａ＿ｎ（ＴＥ））Ｔ＿Ａ
＿ｎ（ＴＥ）：コイルの先端部における幅方向ｎ番目の
２次再結晶温度 Ｔ：２次再結晶焼鈍領域保持温度 である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19992886A JPS6357724A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 線状細粒のない一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19992886A JPS6357724A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 線状細粒のない一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6357724A true JPS6357724A (ja) | 1988-03-12 |
Family
ID=16415926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19992886A Pending JPS6357724A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 線状細粒のない一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6357724A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6744598B2 (en) | 2000-04-13 | 2004-06-01 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
| US6795275B2 (en) | 2001-01-18 | 2004-09-21 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
-
1986
- 1986-08-28 JP JP19992886A patent/JPS6357724A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6744598B2 (en) | 2000-04-13 | 2004-06-01 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
| US6744600B2 (en) | 2000-04-13 | 2004-06-01 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
| US6934123B2 (en) | 2000-04-13 | 2005-08-23 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
| US7164556B2 (en) | 2000-04-13 | 2007-01-16 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
| US6795275B2 (en) | 2001-01-18 | 2004-09-21 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk device and magnetic head slider |
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