JPS6358799A - 反応試料噴出部をプラズマ・フレ−ム中に挿入した高周波プラズマ反応装置 - Google Patents
反応試料噴出部をプラズマ・フレ−ム中に挿入した高周波プラズマ反応装置Info
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- JPS6358799A JPS6358799A JP61202277A JP20227786A JPS6358799A JP S6358799 A JPS6358799 A JP S6358799A JP 61202277 A JP61202277 A JP 61202277A JP 20227786 A JP20227786 A JP 20227786A JP S6358799 A JPS6358799 A JP S6358799A
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Landscapes
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- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、効率良く反応生成物を生成させるための高周
波プラズマ反応装置に係る。
波プラズマ反応装置に係る。
高周波プラズマ反応装置においては、プラズマ・フレー
ムの上部からアルゴンなどのガス流と共に反応試料を噴
射させると、プラズマ・フレームの内圧が高いために反
応試料はフレーム中に入らず、該フレームの外周方向に
押し出されて飛散し、外周壁内面に付着し、プラズマ熱
で溶着し、遂には外周壁を破壊することもあった。また
破壊に到らない場合にも、フレーム中を通過する反応試
料がが小のため、非常に効率が悪かった。
ムの上部からアルゴンなどのガス流と共に反応試料を噴
射させると、プラズマ・フレームの内圧が高いために反
応試料はフレーム中に入らず、該フレームの外周方向に
押し出されて飛散し、外周壁内面に付着し、プラズマ熱
で溶着し、遂には外周壁を破壊することもあった。また
破壊に到らない場合にも、フレーム中を通過する反応試
料がが小のため、非常に効率が悪かった。
そこで現在では試料をプラズマ・フレームの下部付近に
噴射させている。
噴射させている。
そのため反応時間が短く、効率も悪く、未反応試ネ１が
そのまま多量に出る状態であった。
そのまま多量に出る状態であった。
本発明は、これ等の欠点を除去した高効率の高周波プラ
ズマ反応装置を提供することを目的とする。
ズマ反応装置を提供することを目的とする。
口、発明の構成
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、高周波磁場を利用して、誘導的に高周波プラ
ズマを発生させるプラズマ反応器において、周囲にガス
の回転層流を生じさせた反応試料噴出部をプラズマ・フ
レーム中に挿入し、かつその挿入深さを調整可能とした
ことを特徴とする高周波プラズマ反応装置である。
ズマを発生させるプラズマ反応器において、周囲にガス
の回転層流を生じさせた反応試料噴出部をプラズマ・フ
レーム中に挿入し、かつその挿入深さを調整可能とした
ことを特徴とする高周波プラズマ反応装置である。
試料噴出部をプラズマ中フレームの中まで伸ばし、プラ
ズマ中に試料とガスを噴射すると共に、噴出部の外周を
、同種ガスの回転層流で包んだ構成であるから、試料の
飛散・爆着を防ぎ、試料の反応時間を長くして、安全に
長時間の運転を回部にし高い効率が得られる。
ズマ中に試料とガスを噴射すると共に、噴出部の外周を
、同種ガスの回転層流で包んだ構成であるから、試料の
飛散・爆着を防ぎ、試料の反応時間を長くして、安全に
長時間の運転を回部にし高い効率が得られる。
図は本発明の概略構造の縦断面図を示す、但し噴出部の
挿入深さ調整機構は省いである６図中１は反応試料噴出
部で、この周囲は二重石英管２で囲まれ、石英管内部は
注入口１４から出口１５に流れる水３で冷却される。そ
の上、発生するプラズマ・フレーム６は石英管壁が接触
することを防ぐため、従来のように冷却ガスを注入ロア
から入れ、回転層流８を石英管２内に生じさせている。
挿入深さ調整機構は省いである６図中１は反応試料噴出
部で、この周囲は二重石英管２で囲まれ、石英管内部は
注入口１４から出口１５に流れる水３で冷却される。そ
の上、発生するプラズマ・フレーム６は石英管壁が接触
することを防ぐため、従来のように冷却ガスを注入ロア
から入れ、回転層流８を石英管２内に生じさせている。
然し、従来は噴出部１の先端が反応部上面１３と面一で
あるが、本発明では上面１３よりも深く噴出部ｌを挿入
している。そして試料の飛散を防ぐために噴出部ｌの外
周を口９から注入されるガスの回転層流１０で包んでお
り、噴出部１の冷却のためには、注入口１１から、出口
１２まで水を二重に流している。
あるが、本発明では上面１３よりも深く噴出部ｌを挿入
している。そして試料の飛散を防ぐために噴出部ｌの外
周を口９から注入されるガスの回転層流１０で包んでお
り、噴出部１の冷却のためには、注入口１１から、出口
１２まで水を二重に流している。
今、噴出部注入口４から、アルゴンなどのガスと共に反
応試料を流し込み、石英管２の外周の高周波線輪５に高
周波電流を流し、適占なトリがで点火させ、プラズマ・
フレーム６を生じさせる。
応試料を流し込み、石英管２の外周の高周波線輪５に高
周波電流を流し、適占なトリがで点火させ、プラズマ・
フレーム６を生じさせる。
このとき噴出部先端は、フレーム６中に入っているが、
同種ガスの回転層流１０によって飛散を防がれた試料は
プラズマ中に直接注入されるので、プラズマ気流によっ
て石英管内面に飛散することなく、プラズマ中を落下す
るため反応時間も長く、良好な結果が得られた。
同種ガスの回転層流１０によって飛散を防がれた試料は
プラズマ中に直接注入されるので、プラズマ気流によっ
て石英管内面に飛散することなく、プラズマ中を落下す
るため反応時間も長く、良好な結果が得られた。
実験によれば、周波数４ＭＨｚで５０ＫＷの誘導電力を
加え、石英管内径６０■■を使い反応させた所、効率良
く反応させることができた。尚噴出部１の挿入深さは若
干調整した方が高結果が得られるので、図には省いたが
、ねじ込みその他の調整手段を設ける。
加え、石英管内径６０■■を使い反応させた所、効率良
く反応させることができた。尚噴出部１の挿入深さは若
干調整した方が高結果が得られるので、図には省いたが
、ねじ込みその他の調整手段を設ける。
ハ、発明の効果
本発明は、上述の如く、反応試料の噴出部１をプラズマ
・フレーム６の中に挿し込む構造とし、ガスと試料を共
に直接プラズマ中に注入するために、反応時間が長くな
り、また噴射部外周をガスの回転層流１０で包んでいる
ので石英管壁に試料粉末が飛散することも皆無で、非常
に効率のよい反応ができた。
・フレーム６の中に挿し込む構造とし、ガスと試料を共
に直接プラズマ中に注入するために、反応時間が長くな
り、また噴射部外周をガスの回転層流１０で包んでいる
ので石英管壁に試料粉末が飛散することも皆無で、非常
に効率のよい反応ができた。
図は本発明の実施例を示す縦断面図である。
１は反応試料噴出部、２は二重石英管、３は石英管冷却
用水、４はガスおよび反応試料注入口、５は高周波線輪
、６はプラズマ番フレーム、７は石英管壁用冷却ガス注
入口、８はこれによる回転層流、９は反応試料の噴出部
冷却用ガス注入口、１０はこれによる回転層流、１１−
１４は冷却用水注入口、１２・１５は同取出口、１３は
反応部上面。 （自発）手続補正書 二２′へ ニー′ 昭和６２年１１月２Ｃ日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、事件の表示 昭和６１年 特 許 願第２０２２７７号２、発明の
名称 反応試料噴出部をプラズマ・フレーム中に挿入した高周
波プラズマ反応装置 ３、補正をする者 事件との関係 特 許出願人 名 称 日本高周波株式会社 ４、代理人 東京都渋谷区代々木二丁目１１番１２号木村ビルディン
グ ５、補正の対象 明細書「特許請求の範囲」拳「発明
の詳細な説明」の欄。 ６、補正の内容 （２）明細書２頁末行〜３頁１行「し、かつその神大深
さを調整可能と」を削除する。 ２、特許請求の範囲 （１）高周波磁場を利用して、誘導的に高周波プラズマ
を発生させるプラズマ反応器において、周囲にガスの回
転層流を生じさせた反応試料噴出部をプラズマΦフレー
ム中に挿λルたことを特徴とする高周波プラズマ反応装
置。 ｔプラズマ ｒ″ニオ萱。
用水、４はガスおよび反応試料注入口、５は高周波線輪
、６はプラズマ番フレーム、７は石英管壁用冷却ガス注
入口、８はこれによる回転層流、９は反応試料の噴出部
冷却用ガス注入口、１０はこれによる回転層流、１１−
１４は冷却用水注入口、１２・１５は同取出口、１３は
反応部上面。 （自発）手続補正書 二２′へ ニー′ 昭和６２年１１月２Ｃ日 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 １、事件の表示 昭和６１年 特 許 願第２０２２７７号２、発明の
名称 反応試料噴出部をプラズマ・フレーム中に挿入した高周
波プラズマ反応装置 ３、補正をする者 事件との関係 特 許出願人 名 称 日本高周波株式会社 ４、代理人 東京都渋谷区代々木二丁目１１番１２号木村ビルディン
グ ５、補正の対象 明細書「特許請求の範囲」拳「発明
の詳細な説明」の欄。 ６、補正の内容 （２）明細書２頁末行〜３頁１行「し、かつその神大深
さを調整可能と」を削除する。 ２、特許請求の範囲 （１）高周波磁場を利用して、誘導的に高周波プラズマ
を発生させるプラズマ反応器において、周囲にガスの回
転層流を生じさせた反応試料噴出部をプラズマΦフレー
ム中に挿λルたことを特徴とする高周波プラズマ反応装
置。 ｔプラズマ ｒ″ニオ萱。
Claims (1)
- （１）高周波磁場を利用して、誘導的に高周波プラズマ
を発生させるプラズマ反応器において、周囲にガスの回
転層流を生じさせた反応試料噴出部をプラズマ・フレー
ム中に挿入し、かつその挿入深さを調整可能としたこと
を特徴とする高周波プラズマ反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61202277A JPS6358799A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 反応試料噴出部をプラズマ・フレ−ム中に挿入した高周波プラズマ反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61202277A JPS6358799A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 反応試料噴出部をプラズマ・フレ−ム中に挿入した高周波プラズマ反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6358799A true JPS6358799A (ja) | 1988-03-14 |
Family
ID=16454875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61202277A Pending JPS6358799A (ja) | 1986-08-28 | 1986-08-28 | 反応試料噴出部をプラズマ・フレ−ム中に挿入した高周波プラズマ反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6358799A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64699A (en) * | 1987-03-06 | 1989-01-05 | Perkin Elmer Corp:The | Induced plasma generator and its method |
| JPH07286960A (ja) * | 1994-04-19 | 1995-10-31 | Nippon Jiyaareru H Kk | Ｉｃｐ発光分光分析装置 |
| JP2003261323A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-09-16 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属化合物微粉末及びその製造方法 |
| WO2017119326A1 (ja) * | 2016-01-05 | 2017-07-13 | 株式会社Ｈｅｌｉｘ | 渦水流発生器、水プラズマ発生装置、分解処理装置、分解処理装置搭載車両及び分解処理方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161138A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマ利用化学反応装置 |
| JPS61183896A (ja) * | 1985-02-09 | 1986-08-16 | 住友電気工業株式会社 | 高周波誘導プラズマ用ト−チ |
-
1986
- 1986-08-28 JP JP61202277A patent/JPS6358799A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161138A (ja) * | 1985-01-09 | 1986-07-21 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | プラズマ利用化学反応装置 |
| JPS61183896A (ja) * | 1985-02-09 | 1986-08-16 | 住友電気工業株式会社 | 高周波誘導プラズマ用ト−チ |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS64699A (en) * | 1987-03-06 | 1989-01-05 | Perkin Elmer Corp:The | Induced plasma generator and its method |
| JPH07286960A (ja) * | 1994-04-19 | 1995-10-31 | Nippon Jiyaareru H Kk | Ｉｃｐ発光分光分析装置 |
| JP2003261323A (ja) * | 2001-12-19 | 2003-09-16 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 金属化合物微粉末及びその製造方法 |
| WO2017119326A1 (ja) * | 2016-01-05 | 2017-07-13 | 株式会社Ｈｅｌｉｘ | 渦水流発生器、水プラズマ発生装置、分解処理装置、分解処理装置搭載車両及び分解処理方法 |
| US11065491B2 (en) | 2016-01-05 | 2021-07-20 | Helix Co., Ltd | Vortex water flow generator, water plasma generator, decomposition processor, decomposition processor mounted vehicle, and decomposition method |
| US12011629B2 (en) | 2016-01-05 | 2024-06-18 | Helix Co., Ltd. | Decomposition processor and decomposition processor mounted vehicle |
| US12011630B2 (en) | 2016-01-05 | 2024-06-18 | Helix Co., Ltd. | Vortex water flow generator, water plasma generator, decomposition processor, decomposition processor mounted vehicle, and decomposition method |
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