JPS6361226A - 電子的に可変な焦点距離を有する光イメ−ジングシステム - Google Patents
電子的に可変な焦点距離を有する光イメ−ジングシステムInfo
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- JPS6361226A JPS6361226A JP62208373A JP20837387A JPS6361226A JP S6361226 A JPS6361226 A JP S6361226A JP 62208373 A JP62208373 A JP 62208373A JP 20837387 A JP20837387 A JP 20837387A JP S6361226 A JPS6361226 A JP S6361226A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
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- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/10—Bifocal lenses; Multifocal lenses
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- G02B3/12—Fluid-filled or evacuated lenses
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レンズシステムと液晶層より成る電子的に可
変な焦点距離を有する光イメージングシステムに関する
ものである。
変な焦点距離を有する光イメージングシステムに関する
ものである。
このタイプのシステムは、出願公開されたドイツ国特許
出願第2855841号より知られている。このドイツ
国特許出願には、透明基板内に残された内側を透明電極
と配向層で被覆されたレンズ状空間より成り、ネマチッ
ク状態の液晶で満たされた光イメージングシステムが記
載されている。
出願第2855841号より知られている。このドイツ
国特許出願には、透明基板内に残された内側を透明電極
と配向層で被覆されたレンズ状空間より成り、ネマチッ
ク状態の液晶で満たされた光イメージングシステムが記
載されている。
この液晶は複屈折を有する。特別な光線に対する屈折率
は電界を加えることによって変えることができる。この
結果、その度が、1つの偏光状態の光に対して可変なレ
ンズが得られる。屈折率が変化しない通常の光線は、偏
光フィルタによって抑圧されるか、またはその配向層が
第ルンズの配向層に対して直角なこのタイプの第2レン
ズによって偏向される。
は電界を加えることによって変えることができる。この
結果、その度が、1つの偏光状態の光に対して可変なレ
ンズが得られる。屈折率が変化しない通常の光線は、偏
光フィルタによって抑圧されるか、またはその配向層が
第ルンズの配向層に対して直角なこのタイプの第2レン
ズによって偏向される。
前記のドイツ国特許出願に記載されたシステムの欠点は
、焦点距離の変化が、液晶材料の屈折率を電界の影響の
下で変えることのできる限られた範囲によって制限され
るということである。
、焦点距離の変化が、液晶材料の屈折率を電界の影響の
下で変えることのできる限られた範囲によって制限され
るということである。
本発明の目的は、焦点距離を広い範囲にわたって電子的
に変えることのできる光イメージングシステムを得るこ
とにある。
に変えることのできる光イメージングシステムを得るこ
とにある。
この目的のため、本発明は次のような特徴を有する、す
なわち、レンズシステムは異なる一定の焦点距離を有す
る複数のセクター−に分けられ、液晶層は、レンズシス
テムのセクター−の選択したがって焦点距離の選択のた
めの電子的に可変な絞り部分を形成する。液晶例えばネ
マチック液晶は、偏光子および検光子と一体にされて、
電界を加えることにより部分的に透明または不透明にさ
れることのできるユニットを形成する。
なわち、レンズシステムは異なる一定の焦点距離を有す
る複数のセクター−に分けられ、液晶層は、レンズシス
テムのセクター−の選択したがって焦点距離の選択のた
めの電子的に可変な絞り部分を形成する。液晶例えばネ
マチック液晶は、偏光子および検光子と一体にされて、
電界を加えることにより部分的に透明または不透明にさ
れることのできるユニットを形成する。
液晶層を有する電子的に可変な絞り自体は、出願公開さ
れたドイツ国特許出願第2620273号より知られて
いる。けれどもこの−絞りは、該絞りがその一部を形晟
するレンズシステムの口径を、撮像すべき場面よりの光
量に合わせるために用いられるもので、レンズシステム
の所定の焦点距離を調節するために用いられるものでは
ない。本発明のイメージングシステムは異なる焦点距離
を選択する可能性を与えるので、レンズシステムとイメ
ージ面間の距離が一定の場合にこのレンズシステムから
異なる距離にある物体の鮮明なイメージをつくることが
可能である。
れたドイツ国特許出願第2620273号より知られて
いる。けれどもこの−絞りは、該絞りがその一部を形晟
するレンズシステムの口径を、撮像すべき場面よりの光
量に合わせるために用いられるもので、レンズシステム
の所定の焦点距離を調節するために用いられるものでは
ない。本発明のイメージングシステムは異なる焦点距離
を選択する可能性を与えるので、レンズシステムとイメ
ージ面間の距離が一定の場合にこのレンズシステムから
異なる距離にある物体の鮮明なイメージをつくることが
可能である。
レンズシステムは単一レンズより成るものでもよく或い
はかわるがわる配設された複数のレンズ素子より構成さ
れてもよい。後者の場合には、収差の小さなレンズシス
テムをつくることが可能である。
はかわるがわる配設された複数のレンズ素子より構成さ
れてもよい。後者の場合には、収差の小さなレンズシス
テムをつくることが可能である。
電子的に可変な液晶絞りは、レンズシステムの前面また
は後方において放射線通路内に配設することができる。
は後方において放射線通路内に配設することができる。
複合レンズシステムの場合は、代わりにレンズシステム
内に配設してもよい。絞りの1つまたは両方の透明窓が
レンズシステム内のレンズであってもよい。本発明の光
イメージングシステムの一実施態様では、異なる焦点距
離を有するレンズシステムのセクターは漸次的に合併す
る。この実施態様は、その焦点距離が原則上連続的に可
変なイメージングシステムを製造する可能性を与える。
内に配設してもよい。絞りの1つまたは両方の透明窓が
レンズシステム内のレンズであってもよい。本発明の光
イメージングシステムの一実施態様では、異なる焦点距
離を有するレンズシステムのセクターは漸次的に合併す
る。この実施態様は、その焦点距離が原則上連続的に可
変なイメージングシステムを製造する可能性を与える。
かくして、セクターの異なる度が関係のレンズ部分の異
なる曲率によって決められるようにされたレンズシステ
ムは、曲率間の移行が円滑でまた製造が簡単である。
なる曲率によって決められるようにされたレンズシステ
ムは、曲率間の移行が円滑でまた製造が簡単である。
本発明の光イメージングシステムの別の実施態様では、
レンズシステムのセクター間の移行が不連続とすること
もできる。この場合各セクターの幾何は、レンズシステ
ムの収差を最小とする。ことができるように、所定の焦
点距離に対して最適なものとすることができる。互に独
立に透明にされることができる電子的に可変な絞りの領
域は、イメージングシステムの焦点距離が段階的に変え
られることができるように前記のセクターに対応するの
が好ましい。
レンズシステムのセクター間の移行が不連続とすること
もできる。この場合各セクターの幾何は、レンズシステ
ムの収差を最小とする。ことができるように、所定の焦
点距離に対して最適なものとすることができる。互に独
立に透明にされることができる電子的に可変な絞りの領
域は、イメージングシステムの焦点距離が段階的に変え
られることができるように前記のセクターに対応するの
が好ましい。
本発明のイメージングシステムの更に別の実施態様では
次のようにすることもできる、すなわち、電子的に可変
な絞りは液晶層の両側に電極を有し、これ等の電極は絞
りの全面を略々覆い、またこれ等電極の少なくとも1つ
は、電極に電圧勾配を生じる異なる電圧に同時に接続さ
れることができこのため液晶に漸次的に変化する電界が
形成されるように、複数の端子を有する。この場合、液
晶内に、液晶絞りが所定の帯域内でだけ放射線に対し透
明となるしきい電圧よりも下になる電界強度を得ること
ができる。電極の端子の電圧を変えることによって、液
晶絞り内の透明な帯域の幅と位置とを連続的に変えるこ
とができる。この帯域の形は、電極および端子の配置に
よって決まる。このようにして液晶に影響を与えるシス
テムは「アプライド・オプティックス(Applied
0ptics) J第9巻(1970年6月)の13
23〜1329頁のアール・ニー・ソレフ(R,A、
5oref)氏の論文「エレクトロ二カリイ・スキヤン
ト・アナログ・リキッド・クリスタル・ディスプレイズ
(ElectronicallyScanned An
alog Liquid Crystal Displ
ays) 」より知られている。
次のようにすることもできる、すなわち、電子的に可変
な絞りは液晶層の両側に電極を有し、これ等の電極は絞
りの全面を略々覆い、またこれ等電極の少なくとも1つ
は、電極に電圧勾配を生じる異なる電圧に同時に接続さ
れることができこのため液晶に漸次的に変化する電界が
形成されるように、複数の端子を有する。この場合、液
晶内に、液晶絞りが所定の帯域内でだけ放射線に対し透
明となるしきい電圧よりも下になる電界強度を得ること
ができる。電極の端子の電圧を変えることによって、液
晶絞り内の透明な帯域の幅と位置とを連続的に変えるこ
とができる。この帯域の形は、電極および端子の配置に
よって決まる。このようにして液晶に影響を与えるシス
テムは「アプライド・オプティックス(Applied
0ptics) J第9巻(1970年6月)の13
23〜1329頁のアール・ニー・ソレフ(R,A、
5oref)氏の論文「エレクトロ二カリイ・スキヤン
ト・アナログ・リキッド・クリスタル・ディスプレイズ
(ElectronicallyScanned An
alog Liquid Crystal Displ
ays) 」より知られている。
本発明の光イメージングシステムの好ましい実施態様で
は、レンズシステムは回転対称である。
は、レンズシステムは回転対称である。
この場合、同じ焦点距離を有するレンズシステムのセク
ターはこのシステムの光軸の周囲にリングを形成する。
ターはこのシステムの光軸の周囲にリングを形成する。
電子的に可変な液晶絞りと、電極の端子は別として、回
転対称であるのが好ましい。
転対称であるのが好ましい。
本発明の光イメージングシステムの更に別の実施態様で
は、レンズシステムのセクターは略々同じ表面積を有す
る。この場合には、光イメージングシステムの光強度は
焦点距離と無関係である。
は、レンズシステムのセクターは略々同じ表面積を有す
る。この場合には、光イメージングシステムの光強度は
焦点距離と無関係である。
このことは、若しシステムが回転対称であれば、各リン
グの半径は順番数(ordinal number)の
ルートに略々逆比例して増加し、幅は順番数のルートに
略々逆比例して減少することを意味する。
グの半径は順番数(ordinal number)の
ルートに略々逆比例して増加し、幅は順番数のルートに
略々逆比例して減少することを意味する。
本発明は、レンズシステムとこのレンズシステムの焦点
面に配設された電子読取可能な放射線感応検出システム
とより成る光イメージセンサに用いることができる。こ
のよう゛な光イメージシステムではレンズシステムは以
上述べた本発明の光イメージングセンサであり、放射線
感応検出システムより得られるホーカス信号によって光
イメージングシステムの焦点距離を調節するために電子
側゛ 御回路が設けられる。ホーカス誤差信号は、例え
ばイメージのコントラストの分析または焦点距離の僅か
な周期的変化により生じる信号の周波数の分析によって
、放射線感応検出システムより取出すことができる。
面に配設された電子読取可能な放射線感応検出システム
とより成る光イメージセンサに用いることができる。こ
のよう゛な光イメージシステムではレンズシステムは以
上述べた本発明の光イメージングセンサであり、放射線
感応検出システムより得られるホーカス信号によって光
イメージングシステムの焦点距離を調節するために電子
側゛ 御回路が設けられる。ホーカス誤差信号は、例え
ばイメージのコントラストの分析または焦点距離の僅か
な周期的変化により生じる信号の周波数の分析によって
、放射線感応検出システムより取出すことができる。
このタイプの光センサは、物体またはパターンを迅速に
認識することを要する場合および物体またはパターンへ
の距離が一定でない場合に用いられる。これは、例えば
、多数の製品に適する自動組立ラインに置かれた工業用
ロボットを用いる場合がそうである。
認識することを要する場合および物体またはパターンへ
の距離が一定でない場合に用いられる。これは、例えば
、多数の製品に適する自動組立ラインに置かれた工業用
ロボットを用いる場合がそうである。
以下に本発明を添付の図面を参照して実施例で説明する
。
。
第1a図は、本発明の光イメージングシステムをレンズ
システムとして用いた光イメージセンサを示す。物体3
0のイメージセンサ31はレンズシステム10によって
放射線感応面40上に形成される。このレンズシステム
10は、回転対称平凸レンズとして示されている。表面
11の曲率は半径の変化を有している。破線12は平均
球面曲率(averagespherieal cur
vature)を示す。レンズシステムの光軸0−0′
の周りの同心のリング21内の放射線だけを通す絞り2
0が平凸レンズの平面側に設けられる。このリングの位
置と寸法は、このリングを通る放射線が、物体30が放
射線感応面40上に鮮明にイメージされるような曲率を
有する表面11のセクターから出るように選ばれる。前
記の感応面は電子読取り可能で、例えばテレビジョン撮
像管またはCCD素子の部分を形成することができる。
システムとして用いた光イメージセンサを示す。物体3
0のイメージセンサ31はレンズシステム10によって
放射線感応面40上に形成される。このレンズシステム
10は、回転対称平凸レンズとして示されている。表面
11の曲率は半径の変化を有している。破線12は平均
球面曲率(averagespherieal cur
vature)を示す。レンズシステムの光軸0−0′
の周りの同心のリング21内の放射線だけを通す絞り2
0が平凸レンズの平面側に設けられる。このリングの位
置と寸法は、このリングを通る放射線が、物体30が放
射線感応面40上に鮮明にイメージされるような曲率を
有する表面11のセクターから出るように選ばれる。前
記の感応面は電子読取り可能で、例えばテレビジョン撮
像管またはCCD素子の部分を形成することができる。
観察されるイメージのコントラストまたはイメージ内の
強度分布の程度のような基準を用いることによって、制
御回路50′により絞り内に最も適当な穴を選定するこ
とが可能である。これは、例えば、焦点距離に僅かな変
更を導入し、イメージの結果的な強度変動を分析するこ
とによって行うことができる。
強度分布の程度のような基準を用いることによって、制
御回路50′により絞り内に最も適当な穴を選定するこ
とが可能である。これは、例えば、焦点距離に僅かな変
更を導入し、イメージの結果的な強度変動を分析するこ
とによって行うことができる。
第1b図は、物体30がレンズシステムより更に遠くに
ある状態を示す。絞り20の別のリング22はレンズシ
ステムの別の口径のセクターを選び、このため物体は再
び鮮明にイメージされる。
ある状態を示す。絞り20の別のリング22はレンズシ
ステムの別の口径のセクターを選び、このため物体は再
び鮮明にイメージされる。
第2図は絞り20の可能な一実施例の一部を断面で示す
。ネマチック液晶24が2つの平行な透明板25の間に
囲まれている。電極トラック26が一方の板の内側に設
けられまた対向電極27が他方の板の内側に設けられて
いる。偏光子28と検光子29とが前記の透明板25の
外側に配設されている。
。ネマチック液晶24が2つの平行な透明板25の間に
囲まれている。電極トラック26が一方の板の内側に設
けられまた対向電極27が他方の板の内側に設けられて
いる。偏光子28と検光子29とが前記の透明板25の
外側に配設されている。
例えば、動的に散乱する液晶を用いることによって、絞
りの別の構造も可能である。
りの別の構造も可能である。
レンズシステムおよび表面が回転対称である必要はない
。代わりに、同じ焦点距離をもったセクターがリングの
形とは別の形を有し、例えば円のセクターとして配設さ
れたレンズシステムも可能である。
。代わりに、同じ焦点距離をもったセクターがリングの
形とは別の形を有し、例えば円のセクターとして配設さ
れたレンズシステムも可能である。
第3図は、異なる焦点距離をもったセクターが互にはっ
きりと分けられたレンズシステムを示す。
きりと分けられたレンズシステムを示す。
この場合もこのレンズシステムは回転対称で示されてい
る。このレンズシステムは、中央円形セクター51を取
囲む図では2個の複数の環状セクター52と53より成
る単一レンズ50よりつくられている。
る。このレンズシステムは、中央円形セクター51を取
囲む図では2個の複数の環状セクター52と53より成
る単一レンズ50よりつくられている。
この3つのセクター51.52および53は夫々異なる
焦点距離を有する。したがって、レンズシステム゛の光
軸に平行に中央セクター51に入射した放射線は、レン
ズシステム近くに位置する点F1で合焦され、環状セク
ター52に入射した放射線はF2で合焦され、周縁の環
状セクター53は点F3に焦点面を有する。
焦点距離を有する。したがって、レンズシステム゛の光
軸に平行に中央セクター51に入射した放射線は、レン
ズシステム近くに位置する点F1で合焦され、環状セク
ター52に入射した放射線はF2で合焦され、周縁の環
状セクター53は点F3に焦点面を有する。
レンズ50に入射する放射線の放射通路内に配された絞
り60も、夫々レンズのセクター51.52および53
に対応した3つの領域61.62および63に分けられ
ている。第3図の絞り60の領域61.62または63
の1つだけを透明とすることによって、3つのレンズセ
クターの1つだけ、第3図では52だけが選択され、イ
メージングシステムは唯一つの焦点、第3図では点F2
を有する。
り60も、夫々レンズのセクター51.52および53
に対応した3つの領域61.62および63に分けられ
ている。第3図の絞り60の領域61.62または63
の1つだけを透明とすることによって、3つのレンズセ
クターの1つだけ、第3図では52だけが選択され、イ
メージングシステムは唯一つの焦点、第3図では点F2
を有する。
第4図は液晶層の一方の側、例えば偏光子の側に配設さ
れた電極形状の実施例を示す。他方の側の対向電極は、
略々この全面を覆う単一の電極でもよい。複合電極は、
複数の、図では3つの略々環状の電極72.73および
74で取囲まれた円形電極71より成る。これ等の電極
は狭い絶縁ランド75゜76、77で分離されている。
れた電極形状の実施例を示す。他方の側の対向電極は、
略々この全面を覆う単一の電極でもよい。複合電極は、
複数の、図では3つの略々環状の電極72.73および
74で取囲まれた円形電極71より成る。これ等の電極
は狭い絶縁ランド75゜76、77で分離されている。
電極は、図示しない電気的に制御された電圧源に接続さ
れた端子81.82.。
れた端子81.82.。
83および84を経て別々に各電極に加えられる。電極
71.72.73および74の面とこれに関係したレン
ズセクターの面とは略々同じであるのが好ましい。
71.72.73および74の面とこれに関係したレン
ズセクターの面とは略々同じであるのが好ましい。
その結果イメージングシステムの光力は任意の選択され
た焦点距離で相等しい。
た焦点距離で相等しい。
第5a図と第5b図は、透明部分の幅と位置を無段階に
変えることのできる液晶絞りを得る方法を線図的に示す
。この場合図解のためにやはり円形絞りを用いである。
変えることのできる液晶絞りを得る方法を線図的に示す
。この場合図解のためにやはり円形絞りを用いである。
前記の刊行物には他の種々の形が記載されている。絞り
の全面を覆うことのできる円板状電極90の中心Mは、
第1端子90を経て、絞りの液晶層の他方の側の対向電
極に対して電圧v1に保たれる。全電極を取囲む環状の
第2端子92は、対向電極に対して電圧v2に保たれる
。この電圧v2は電圧v1と反対の符号を有する。電圧
v1とv2を与える制御回路は、図には可制御電圧源9
3と94によって線図的に示しである。
の全面を覆うことのできる円板状電極90の中心Mは、
第1端子90を経て、絞りの液晶層の他方の側の対向電
極に対して電圧v1に保たれる。全電極を取囲む環状の
第2端子92は、対向電極に対して電圧v2に保たれる
。この電圧v2は電圧v1と反対の符号を有する。電圧
v1とv2を与える制御回路は、図には可制御電圧源9
3と94によって線図的に示しである。
第5b図は、中心と電極の外縁上の点との間の可能な電
圧変化を示したものである。前記の2つの端子の間には
環状領域95が存し、ここでは、液晶の両側の電極間の
電圧差がしきい値vthよりも小さくこのため絞りはこ
の環状領域95で透明である。
圧変化を示したものである。前記の2つの端子の間には
環状領域95が存し、ここでは、液晶の両側の電極間の
電圧差がしきい値vthよりも小さくこのため絞りはこ
の環状領域95で透明である。
電圧v1とv2を変えることによって、透明領域の位置
と幅を変えることができる。電圧V、の絶対値が更に小
さくなりそして電圧v2の絶対値が更に大きいことは、
リング、が絞りの中心に移されることを意味する。電圧
v1とν2の大きな差は狭い帯域を意味し、小さな差は
広い帯域を意味する。
と幅を変えることができる。電圧V、の絶対値が更に小
さくなりそして電圧v2の絶対値が更に大きいことは、
リング、が絞りの中心に移されることを意味する。電圧
v1とν2の大きな差は狭い帯域を意味し、小さな差は
広い帯域を意味する。
第1a図は本発明の光イメージングシステムの一実施例
を有する光イメージングシステムの線図的断面図、 第1b図は物体がレンズシステムより更に遠くにある場
合の同様な線図的断面図、 第2図は絞りの一部の詳細断面図、 第3図は異なる焦点距離を有するセクターが個別領域と
して形成された光イメージングシステムの線図的断面図
、 第4図は液晶絞りの面の電極の配置を示す平面図、 第5a図は電極の電圧源と端子を示す同様平面図、第5
b図は電極の中心と周縁間の電圧変化を示すダイヤフラ
ムである。 10・・・レンズシステム 20.60・・・絞す2
1、22・・・リング 24・・・ネマチック液
晶25・・・透明板 26・・・電極トラッ
ク27・・・対向電極 28・・・偏光子29
・・・検光子 30・・・物体31・・・イ
メージ 40・・・放射線感応面50・・・レ
ンズ50′・・・制御回路51・・・中央セクター
52.53・・・環状セクター71・・・円形電極
’ 72.73.74・・・環状電極81、82
.83.84・・・端子 90・・・円板状電極 91・・・第1端子92
・・・第2端子 93.94・・・可制御電圧
源95・・・環状領域 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイラ
ンペンファブリケン
を有する光イメージングシステムの線図的断面図、 第1b図は物体がレンズシステムより更に遠くにある場
合の同様な線図的断面図、 第2図は絞りの一部の詳細断面図、 第3図は異なる焦点距離を有するセクターが個別領域と
して形成された光イメージングシステムの線図的断面図
、 第4図は液晶絞りの面の電極の配置を示す平面図、 第5a図は電極の電圧源と端子を示す同様平面図、第5
b図は電極の中心と周縁間の電圧変化を示すダイヤフラ
ムである。 10・・・レンズシステム 20.60・・・絞す2
1、22・・・リング 24・・・ネマチック液
晶25・・・透明板 26・・・電極トラッ
ク27・・・対向電極 28・・・偏光子29
・・・検光子 30・・・物体31・・・イ
メージ 40・・・放射線感応面50・・・レ
ンズ50′・・・制御回路51・・・中央セクター
52.53・・・環状セクター71・・・円形電極
’ 72.73.74・・・環状電極81、82
.83.84・・・端子 90・・・円板状電極 91・・・第1端子92
・・・第2端子 93.94・・・可制御電圧
源95・・・環状領域 特許出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルーイラ
ンペンファブリケン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、レンズシステムと液晶層より成る電子的に可変な焦
点距離を有する光イメージングシステムにおいて、レン
ズシステムは異なる一定の焦点距離を有する複数のセク
ターーに分けられ、液晶層は、レンズシステムのセクタ
ーーの選択したがって焦点距離の選択のための電子的に
可変な絞り部分を形成することを特徴とする光イメージ
ングシステム。 2、異なる焦点距離を有するレンズシステムのセクター
ーは漸次的に合併した特許請求の範囲第1項記載の光イ
メージングシステム。 3、レンズシステムのセクターー間の移行は不連続的な
特許請求の範囲第1項記載の光イメージングシステム。 4、電子的に可変な絞りは液晶層の両側に電極を有し、
これ等の電極は絞りの全面を略々覆い、またこれ等電極
の少なくとも1つは、電極に電圧勾配を生じる異なる電
圧に同時に接続されることができこのため液晶に漸次的
に変化する電界が形成されるように、複数の端子を有す
る特許請求の範囲第1項乃至第3項の何れか1項記載の
光イメージングシステム。 5、レンズシステムは回転対称である特許請求の範囲第
1項乃至第4項の何れか1項記載の光イメージングシス
テム。 6、レンズシステムのセクターーは略々同じ表面積を有
する特許請求の範囲第1項乃至第5項の何れか1項記載
の光イメージングシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8602149 | 1986-08-25 | ||
| NL8602149A NL8602149A (nl) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | Optisch afbeeldingsstelsel met elektronisch varieerbare brandpuntsafstand en optische beeldopnemer van een dergelijk stelsel voorzien. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6361226A true JPS6361226A (ja) | 1988-03-17 |
Family
ID=19848444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4927241A (ja) |
| EP (1) | EP0257675A1 (ja) |
| JP (1) | JPS6361226A (ja) |
| NL (1) | NL8602149A (ja) |
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