JPS6361234A - 液晶電気光学装置 - Google Patents
液晶電気光学装置Info
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- JPS6361234A JPS6361234A JP20735986A JP20735986A JPS6361234A JP S6361234 A JPS6361234 A JP S6361234A JP 20735986 A JP20735986 A JP 20735986A JP 20735986 A JP20735986 A JP 20735986A JP S6361234 A JPS6361234 A JP S6361234A
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- substrates
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、強誘電性液晶を用いた高速応答性の温気光
学装置に関し、特に液晶の初期配向状卯を改善すること
により、均一な配向と安定なメモリー性を有し、情報の
記憶が可能な液晶電気光学装置に関するものである。
学装置に関し、特に液晶の初期配向状卯を改善すること
により、均一な配向と安定なメモリー性を有し、情報の
記憶が可能な液晶電気光学装置に関するものである。
強誘電性液晶はスメクチツクC*(以下SC*で示す)
相においては分子が持つ不斉炭素の効果によシらせん構
造を有する。第6図にSC*相のらせん構造すなわち厚
いセル中の液晶分子の配向状態を模式的に描いたものを
示す0図において、@+1 、(至)は対向配置された
透明基板例えばガラス基板、(至)は両爪板t3+1
、に)間に注入され介在する強誘電性液晶分子であり、
この液晶分子−は両爪板a1)、(2)間に所定間隔で
配列されているが、この図では分りやすくするためその
一部を示す、μsは液晶分子曽が動き得る円すい状の軌
跡、■は液晶分子Qと垂直方向で円すい状軌跡μsの接
線方向の双極子モーメント、弼は液晶分子−が形成する
層に平行な平面、換言すれば液晶分子間が動き得る円す
い状の軌跡(至)の底面を示す平面、例はこの平面怒の
法線方向、翰は液晶分子關が法線方向国からどれだけ傾
いているかを表わす傾き角である。
相においては分子が持つ不斉炭素の効果によシらせん構
造を有する。第6図にSC*相のらせん構造すなわち厚
いセル中の液晶分子の配向状態を模式的に描いたものを
示す0図において、@+1 、(至)は対向配置された
透明基板例えばガラス基板、(至)は両爪板t3+1
、に)間に注入され介在する強誘電性液晶分子であり、
この液晶分子−は両爪板a1)、(2)間に所定間隔で
配列されているが、この図では分りやすくするためその
一部を示す、μsは液晶分子曽が動き得る円すい状の軌
跡、■は液晶分子Qと垂直方向で円すい状軌跡μsの接
線方向の双極子モーメント、弼は液晶分子−が形成する
層に平行な平面、換言すれば液晶分子間が動き得る円す
い状の軌跡(至)の底面を示す平面、例はこの平面怒の
法線方向、翰は液晶分子關が法線方向国からどれだけ傾
いているかを表わす傾き角である。
また、この強誘電性液晶を薄いセルに注入すると界面の
影響によシらせんがほどけ、注入した強誘電性液晶の傾
き角をθとすると分子はもとのらせん軸、すなわち層の
法線方向に対して+θ、あるいは−θ傾いた方向を向く
。この時の分子の配向状態を第7図に示す、又、この時
分子の双極子■は分子姫の傾く方向に対応してセル基板
01)に対し、上方向、あるいは下方向を向いている。
影響によシらせんがほどけ、注入した強誘電性液晶の傾
き角をθとすると分子はもとのらせん軸、すなわち層の
法線方向に対して+θ、あるいは−θ傾いた方向を向く
。この時の分子の配向状態を第7図に示す、又、この時
分子の双極子■は分子姫の傾く方向に対応してセル基板
01)に対し、上方向、あるいは下方向を向いている。
この状態で外部から電界を印加すると電界の方向により
双極子の向きを反転でき、これは分子の配列方向を十〇
と一部の間で反転できることを意味する。この現象と2
色性色素と1枚の偏光板の組み合わせ、あるいは2枚の
偏光板の組み合わせによシ分子の配列方向が+θと一部
である時の差に明暗のコントラスとを持たせることがで
き、これらにより表示素子全形成することができる。こ
の表示素子の特徴は、スイッチングの速度が従来のネマ
チック液晶を用いた素子に比べ100倍から1000倍
非常に高速であり、また分子の国内方向が+θと一部の
時、それぞれの状態が安定ならば記憶効果すなわちメモ
リー効果があるということである。高いデユーティ−の
マリチブレツクス駆動で表示させる場合、このメモリー
効果が必要不可欠とされている。この表示素子について
は例ば特開昭56−107216号公報に詳しく述べら
れている。
双極子の向きを反転でき、これは分子の配列方向を十〇
と一部の間で反転できることを意味する。この現象と2
色性色素と1枚の偏光板の組み合わせ、あるいは2枚の
偏光板の組み合わせによシ分子の配列方向が+θと一部
である時の差に明暗のコントラスとを持たせることがで
き、これらにより表示素子全形成することができる。こ
の表示素子の特徴は、スイッチングの速度が従来のネマ
チック液晶を用いた素子に比べ100倍から1000倍
非常に高速であり、また分子の国内方向が+θと一部の
時、それぞれの状態が安定ならば記憶効果すなわちメモ
リー効果があるということである。高いデユーティ−の
マリチブレツクス駆動で表示させる場合、このメモリー
効果が必要不可欠とされている。この表示素子について
は例ば特開昭56−107216号公報に詳しく述べら
れている。
第8図は従来の強誘電性液晶を用いた液晶電気光学装置
において電界が下側基板から下側基板の方向に印加され
た時の液晶分子の配向状態を示す模式図である0図にお
いて、引)、(至)はin、 o、や8nO!やITO
等の薄膜の透明電極が形成され、セルラ構成するガラス
基板であり、口ηは基板(a+1 e G埒の双極子の
方向を示す、この図では、セル内のすべての液晶分子鏝
の双極子■が下向きに揃っておシ、これは、下1i11
1基板(至)から下側基板3υの方へ電界が印加されて
いることを示している。
において電界が下側基板から下側基板の方向に印加され
た時の液晶分子の配向状態を示す模式図である0図にお
いて、引)、(至)はin、 o、や8nO!やITO
等の薄膜の透明電極が形成され、セルラ構成するガラス
基板であり、口ηは基板(a+1 e G埒の双極子の
方向を示す、この図では、セル内のすべての液晶分子鏝
の双極子■が下向きに揃っておシ、これは、下1i11
1基板(至)から下側基板3υの方へ電界が印加されて
いることを示している。
第9図は第8図において電界の向きを逆転し、上側基板
G1)から下fill基板(2)の方向に電界が印加さ
れている時の液晶分子の配向状塵を示す模式図である。
G1)から下fill基板(2)の方向に電界が印加さ
れている時の液晶分子の配向状塵を示す模式図である。
液晶電気光学装置がメモリ効果を示すためには、第8図
および第9図に示す両方の配向状態が安定であり、各々
の配向状態において電界を除去してもその配向状態を保
持していなくてはならない。
および第9図に示す両方の配向状態が安定であり、各々
の配向状態において電界を除去してもその配向状態を保
持していなくてはならない。
このため、従来装置においては、例えば0.5μmとい
ったギャップ幅の薄膜セルを用い、液晶分子(3四を物
理的に押え込み、電界を印加していない時は第8図の状
態と第9図の状態間の分子の反転が起こらないようにす
ることによシ、第8図および第9図の各状態の安定化を
図ろうとしている。
ったギャップ幅の薄膜セルを用い、液晶分子(3四を物
理的に押え込み、電界を印加していない時は第8図の状
態と第9図の状態間の分子の反転が起こらないようにす
ることによシ、第8図および第9図の各状態の安定化を
図ろうとしている。
しかしながら、従来装置ではまだ充分なメモリ効果は得
られておらず、これは、第8図および第9図において液
晶分子鰻の双極子■と基板口1)・□□□の双極子(3
ηに注目すると、片側の基板界面において双%子■、0
71間の反撥が生じていることによるものであると考え
られる。すなわち、第8図においては下側基板(至)の
双極子−と液晶分子−の双極子■が、第9図においては
下側基板0υの双極子371と液晶分子根の双極子■が
それぞれ相互作用を起こして反撥し、液晶分子曽の配向
の不安定化を引き起こす、そのため、電界を除去すると
不安定化が生じている11111の基板近傍において配
向が乱れ、その結果、強誘電性液晶の特徴であるメモリ
ー効果が出現しにくいため、高い時分割駆動における表
示を充分には行なうことができないという問題点を有し
ている。
られておらず、これは、第8図および第9図において液
晶分子鰻の双極子■と基板口1)・□□□の双極子(3
ηに注目すると、片側の基板界面において双%子■、0
71間の反撥が生じていることによるものであると考え
られる。すなわち、第8図においては下側基板(至)の
双極子−と液晶分子−の双極子■が、第9図においては
下側基板0υの双極子371と液晶分子根の双極子■が
それぞれ相互作用を起こして反撥し、液晶分子曽の配向
の不安定化を引き起こす、そのため、電界を除去すると
不安定化が生じている11111の基板近傍において配
向が乱れ、その結果、強誘電性液晶の特徴であるメモリ
ー効果が出現しにくいため、高い時分割駆動における表
示を充分には行なうことができないという問題点を有し
ている。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、均一な配向と良好なメモリー効□果を有する
液晶電気光学装置を提供することを目的とする。
たもので、均一な配向と良好なメモリー効□果を有する
液晶電気光学装置を提供することを目的とする。
この発明に係る液晶電気光学装置は、両法板上で、液晶
分子が基板に略平行で分子の長袖方向が一定の方向に揃
った一軸平行配向しており、一方の基板上の一軸平行配
向の軸方向が他方の基板上の一軸平行配向の軸方向と異
なり、上記一方の基板から他方の基板の間で上記液晶分
子がねじれた配向をなし、かつこのねじれの状態は上記
液晶分子が動き得る円すい状の軌跡上を右回りに配向す
る状態と左回りに配向する状態の2種類存在し、外部か
ら電界を印加することにより上記右回りに配向する状態
と左回りに配向する状態とをスイッチングさせるもので
ある。
分子が基板に略平行で分子の長袖方向が一定の方向に揃
った一軸平行配向しており、一方の基板上の一軸平行配
向の軸方向が他方の基板上の一軸平行配向の軸方向と異
なり、上記一方の基板から他方の基板の間で上記液晶分
子がねじれた配向をなし、かつこのねじれの状態は上記
液晶分子が動き得る円すい状の軌跡上を右回りに配向す
る状態と左回りに配向する状態の2種類存在し、外部か
ら電界を印加することにより上記右回りに配向する状態
と左回りに配向する状態とをスイッチングさせるもので
ある。
この発明における分子配列では、左回りに配向する状態
でも右回りに配向する状態でも上下の基板近傍において
、液晶分子の双極子が基板の双極子に対して安定な方向
に配列しているため、両法板間で液晶分子が安定に配向
し、良好な双安定性を示す、よって、良好なメモリー特
性を示す、また、外部から電界を印加することにより右
回シと左回シの配向状態をスイッチングするので、例え
ば偏光に対する旋光性の違いを利用しこの2種類の配向
状態を色差として視認することができる。
でも右回りに配向する状態でも上下の基板近傍において
、液晶分子の双極子が基板の双極子に対して安定な方向
に配列しているため、両法板間で液晶分子が安定に配向
し、良好な双安定性を示す、よって、良好なメモリー特
性を示す、また、外部から電界を印加することにより右
回シと左回シの配向状態をスイッチングするので、例え
ば偏光に対する旋光性の違いを利用しこの2種類の配向
状態を色差として視認することができる。
第1図、第2図はこの発明の一実施例に係る液晶分子の
それぞれ左回りおよび右回りの一軸平行配向状態を示す
模式図、第8図、第4図はそれぞれ第1図およびM2図
の配向状態におけるセルを層の法線方向から見た説明図
である0図において、■は基板(3+)近傍における液
晶分子−の一軸平行配向方向、鏝Zは基板(2)近傍に
おける液晶分子qの一軸平行配向方向を示す。
それぞれ左回りおよび右回りの一軸平行配向状態を示す
模式図、第8図、第4図はそれぞれ第1図およびM2図
の配向状態におけるセルを層の法線方向から見た説明図
である0図において、■は基板(3+)近傍における液
晶分子−の一軸平行配向方向、鏝Zは基板(2)近傍に
おける液晶分子qの一軸平行配向方向を示す。
第1図、第2図に示す配向状態は互に双安定な配向状態
の1つであり、この例では上側基板−)上における液晶
分子−の配向方向と下fllll基板(至)上における
液晶分子嬢の配向方向はこの液晶の傾き角θの2倍の値
を挟角として持っている。このような配向状態を得る方
法の一つとして、上側基板fi11の配向処理方向と上
側基板Qの配向処理方向とが液晶分子の傾き角θの2倍
の値を持つように側基板に配向処理を施すとよい、配向
処理法としては、例えば配向処理剤としてポリイミド、
ポリビニルアルコール、ポリアミド、およびシロキサン
4?リイミドのうちの何れか一種の旨分子膿を用いるラ
ビング処理法などが挙げられる。
の1つであり、この例では上側基板−)上における液晶
分子−の配向方向と下fllll基板(至)上における
液晶分子嬢の配向方向はこの液晶の傾き角θの2倍の値
を挟角として持っている。このような配向状態を得る方
法の一つとして、上側基板fi11の配向処理方向と上
側基板Qの配向処理方向とが液晶分子の傾き角θの2倍
の値を持つように側基板に配向処理を施すとよい、配向
処理法としては、例えば配向処理剤としてポリイミド、
ポリビニルアルコール、ポリアミド、およびシロキサン
4?リイミドのうちの何れか一種の旨分子膿を用いるラ
ビング処理法などが挙げられる。
なお、第1図の配向状態と第2図の配向状態とは例えば
パルス状の電界を印加することによシスイツチングさせ
ることができる。
パルス状の電界を印加することによシスイツチングさせ
ることができる。
第5図はこの発明の一実施例による液晶電気光学装置を
示す分解斜視図である1図において、■は例えばITO
電極がバターニングされ、さらにポリイミド配向膜が塗
布されラビング処理が施されたガラス基板であυ、これ
を2枚向い合わせ、例えば2.0μmのスペーサ釦)を
はさんで接層した後、傾き角が21°の強誘電性液晶を
注入し、偏光板(931を組み合わせて液晶電気光学装
置を構成した・矢印例は下側基板−のラビング方向、υ
四は上側基板−のラビング方向を示す、上下基板(支)
のラビング方向a41・(至)のなす角θは液晶の傾き
角の2倍の値すなわち42°である。偏光板−の光軸は
、下側の偏光板は上側基板のラビング方向61141と
同じ方向に、上側の偏光板は上側基板のラビング方向(
至)と直角の方向−に設定した。このセルは、液晶を注
入した初期配向状態では前述第1図の配向状態と第2図
の配向状態が縞状に混在しているが、例えばパルス電界
を印加することによりその何れかの配向状態とすること
ができる。この時、白地に紺の表示が可能な良好な表示
素子を得ることができ、また、この素子は1時間以上0
良好なメモリー効果を示す、これ(てよυ、高い時分割
、駆動による表示が可能となった。
示す分解斜視図である1図において、■は例えばITO
電極がバターニングされ、さらにポリイミド配向膜が塗
布されラビング処理が施されたガラス基板であυ、これ
を2枚向い合わせ、例えば2.0μmのスペーサ釦)を
はさんで接層した後、傾き角が21°の強誘電性液晶を
注入し、偏光板(931を組み合わせて液晶電気光学装
置を構成した・矢印例は下側基板−のラビング方向、υ
四は上側基板−のラビング方向を示す、上下基板(支)
のラビング方向a41・(至)のなす角θは液晶の傾き
角の2倍の値すなわち42°である。偏光板−の光軸は
、下側の偏光板は上側基板のラビング方向61141と
同じ方向に、上側の偏光板は上側基板のラビング方向(
至)と直角の方向−に設定した。このセルは、液晶を注
入した初期配向状態では前述第1図の配向状態と第2図
の配向状態が縞状に混在しているが、例えばパルス電界
を印加することによりその何れかの配向状態とすること
ができる。この時、白地に紺の表示が可能な良好な表示
素子を得ることができ、また、この素子は1時間以上0
良好なメモリー効果を示す、これ(てよυ、高い時分割
、駆動による表示が可能となった。
なお、上記実施例ではセルギャップが2,0μmである
場合について説明したが、注入する液晶によっては良好
な配向を示さない時や、ねじれた配向?とらない時があ
るが、このセルギャップを1.6μmから8μmの間で
1轟に設定することにより解決できる。
場合について説明したが、注入する液晶によっては良好
な配向を示さない時や、ねじれた配向?とらない時があ
るが、このセルギャップを1.6μmから8μmの間で
1轟に設定することにより解決できる。
また、注入する強調!!注液晶としては、例えばスメク
チック液晶等が好適に用いられ、特にスメクチックC*
相を示す液晶、あるいはスメクチックC*相と♂相を示
す液晶が好ましい。
チック液晶等が好適に用いられ、特にスメクチックC*
相を示す液晶、あるいはスメクチックC*相と♂相を示
す液晶が好ましい。
さらに、両糸板上の液晶分子の一軸平行配向の軸方向は
、液晶分子の傾き角の2倍±10’の範囲の値を挟角と
して持つのが好ましい、これはこの範囲より小さい角度
だと分子がねじれて配向せず、メモリー効果が出現しな
くなシ、また大きい角度だと2T41類以上の多数のね
じれた配向状態が出現し、表示品位が低下してしまい、
好ましくない結果を与えてしまうためである。
、液晶分子の傾き角の2倍±10’の範囲の値を挟角と
して持つのが好ましい、これはこの範囲より小さい角度
だと分子がねじれて配向せず、メモリー効果が出現しな
くなシ、また大きい角度だと2T41類以上の多数のね
じれた配向状態が出現し、表示品位が低下してしまい、
好ましくない結果を与えてしまうためである。
以上のように、この発明によれば、両糸板上で、液晶分
子が基板に略平行で分子の長軸方向が一定の方向に揃っ
た一軸平行配向しており、一方の基板上の一軸平行配向
の軸方向が他方の基板上の一軸平行配向の軸方向と異な
り、上記一方の基板から他方の基板の間で上記液晶分子
がねじれた配向をなし、かつこのねじれの状態は上記液
晶分子が励き得る円すい状の軌跡上を右回りに配向する
状態と左回りに配向する状態の2種類存在し、外部から
電界を印加することによシ上記右回りに配向する状態と
左回りに配向する状態とをスイッチングさせることによ
り、基板近傍では分子が安定に配向するので、均一な配
向と良好なメモリー効果を有する液晶電気光学装置が得
られる。
子が基板に略平行で分子の長軸方向が一定の方向に揃っ
た一軸平行配向しており、一方の基板上の一軸平行配向
の軸方向が他方の基板上の一軸平行配向の軸方向と異な
り、上記一方の基板から他方の基板の間で上記液晶分子
がねじれた配向をなし、かつこのねじれの状態は上記液
晶分子が励き得る円すい状の軌跡上を右回りに配向する
状態と左回りに配向する状態の2種類存在し、外部から
電界を印加することによシ上記右回りに配向する状態と
左回りに配向する状態とをスイッチングさせることによ
り、基板近傍では分子が安定に配向するので、均一な配
向と良好なメモリー効果を有する液晶電気光学装置が得
られる。
第1図、第2図はこの発明の一実施例に係る液晶分子の
それぞれ左回りおよび右回シの一軸平行配向状態を示す
模式図、第8図、第4図はそれぞ九81図および第2図
の配向状態におけるセルを層の法線方向から見た説明図
、第5図はこの発明の一実施例による液晶電気光学装置
を示す分解斜視図、第6図#第7図は従来のそれぞれ厚
いセルおよび薄いセル中の液晶分子の配向状態を示す模
式図、第8図、第9図はそれぞれ電界が下側基板から上
側基板および上側基板から下側基板の方向に印加された
時の液晶分子の配向状態を示す模式図において、fil
l I E 、 ’921は基板、■は液晶分子、(至
)は液晶分子の双嘆子モーメント、田は円すい状軌跡、
!361は法線方向、37)は基板の双極子モーメント
、国は傾き角、@11はスペーサ、瞥は偏光板、041
〜圓は【夜晶分子の配向方向および偏光板の光軸を示す
矢印である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。
それぞれ左回りおよび右回シの一軸平行配向状態を示す
模式図、第8図、第4図はそれぞ九81図および第2図
の配向状態におけるセルを層の法線方向から見た説明図
、第5図はこの発明の一実施例による液晶電気光学装置
を示す分解斜視図、第6図#第7図は従来のそれぞれ厚
いセルおよび薄いセル中の液晶分子の配向状態を示す模
式図、第8図、第9図はそれぞれ電界が下側基板から上
側基板および上側基板から下側基板の方向に印加された
時の液晶分子の配向状態を示す模式図において、fil
l I E 、 ’921は基板、■は液晶分子、(至
)は液晶分子の双嘆子モーメント、田は円すい状軌跡、
!361は法線方向、37)は基板の双極子モーメント
、国は傾き角、@11はスペーサ、瞥は偏光板、041
〜圓は【夜晶分子の配向方向および偏光板の光軸を示す
矢印である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示すもの
とする。
Claims (6)
- (1)電極を有する透明基板を対向配置し、上記両基板
間に強誘電性液晶を介在した液晶電気光学装置において
、上記両基板上で、上記液晶分子が基板に略平行で分子
の長軸方向が一定の方向に揃つた一軸平行配向しており
、一方の基板上の一軸平行配向の軸方向が他方の基板上
の一軸平行配向の軸方向と異なり、上記一方の基板から
他方の基板の間で上記液晶分子がねじれた配向をなし、
かつこのねじれの状態は上記液晶分子が動き得る円すい
状の軌跡上を右回りに配向する状態と左回りに配向する
状態の2種類存在し、外部から電界を印加することによ
り上記右回りに配向する状態と左回ヤに配向する状態と
をスイッチングさせることを特徴とする液晶電気光学状
態。 - (2)両基板上の液晶分子の一軸平行配向の軸方向が、
上記液晶分子の傾き角の2倍±10°の範囲を挟角とし
て持つことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の液
晶電気光学装置。 - (3)基板には一軸平行配向処理剤として、ポリイミド
、ポリビニルアルコール、ポリアミド、およびシロキサ
ンポリイミドのうちの何れか一種の高分子膜を用いる特
許請求の範囲第1項または第2項記載の液晶電気光学装
置。 - (4)強誘電性液晶はスメクチツク液晶である特許請求
の範囲第1項ないし第3項の何れかに記載の液晶電気光
学装置。 - (5)スメクチツク液晶はスメクチツクC^*相を示す
液晶である特許請求の範囲第4項記載の液晶電気光学装
置。 - (6)スメクチツク液晶はスメクチツクC^*相を示す
液晶とスメクチツクH^*相を示す液晶である特許請求
の範囲第4項記載の液晶電気光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20735986A JPS6361234A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 液晶電気光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20735986A JPS6361234A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 液晶電気光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6361234A true JPS6361234A (ja) | 1988-03-17 |
Family
ID=16538425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20735986A Pending JPS6361234A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 液晶電気光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6361234A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5035491A (en) * | 1989-04-03 | 1991-07-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6218522A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-27 | Canon Inc | 液晶素子 |
| JPS6236634A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-17 | Seikosha Co Ltd | 液晶表示素子 |
| JPS62161123A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-07-17 | Canon Inc | 液晶素子及びその製法 |
| JPS62235932A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Canon Inc | 液晶素子 |
| JPS6353519A (ja) * | 1986-08-25 | 1988-03-07 | Canon Inc | 液晶素子 |
-
1986
- 1986-09-02 JP JP20735986A patent/JPS6361234A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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