JPS6364646A - 溝付光デイスク基板およびその製造方法 - Google Patents
溝付光デイスク基板およびその製造方法Info
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- JPS6364646A JPS6364646A JP61209004A JP20900486A JPS6364646A JP S6364646 A JPS6364646 A JP S6364646A JP 61209004 A JP61209004 A JP 61209004A JP 20900486 A JP20900486 A JP 20900486A JP S6364646 A JPS6364646 A JP S6364646A
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- optical disk
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- disk substrate
- tantalum
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- Pending
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光により情報を高密度に記録再生する
溝付光ディスク基板およびその製造方法に関するもので
ある。
溝付光ディスク基板およびその製造方法に関するもので
ある。
従来、溝付光ディスク基板の製造方法として、射出成形
法や、２ Ｐ （Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｎ＋ｅｒ ）法
（テレビジョン学会逼：ビデオディスクとＤＡＤ入門。
法や、２ Ｐ （Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｎ＋ｅｒ ）法
（テレビジョン学会逼：ビデオディスクとＤＡＤ入門。
コロナ社、Ｐ１６８〜Ｐ１７０）が知られている。
プラスチックは吸湿性と有し、また熱膨張、熱収縮を生
じやすいため従来のプラスチック製溝付光ディスク基板
は、基板寸法の経時変化が生じやすく、従来のプラスチ
ック製溝付光ディスク基板を用いて製作した光ディスク
は使用環境の変化により、記録再生特性に変化が生じや
すいという欠点を有していた。
じやすいため従来のプラスチック製溝付光ディスク基板
は、基板寸法の経時変化が生じやすく、従来のプラスチ
ック製溝付光ディスク基板を用いて製作した光ディスク
は使用環境の変化により、記録再生特性に変化が生じや
すいという欠点を有していた。
本発明の目的は耐湿性、耐熱性に優れ、基板寸法の経時
変化が生じにくい信頼性の高い溝付光ディスク基板およ
びその製造方法を提供することにある。
変化が生じにくい信頼性の高い溝付光ディスク基板およ
びその製造方法を提供することにある。
本発明の溝付光ディスク基板は、透明のガラス板上に設
けた同心円状あるいはスパイラル状の微！Ｉ溝が、五酸
化タンタル薄膜より成ることにより構成される。また本
発明の構付光ディスク基板の製造方法は、透明のガラス
板上にタンタル薄膜を付着する工程と、該タンタル薄膜
に同心円状あるいはスパイラル状の微Ｍ！Ａｓを形成す
る工程と、前記微細溝を熱酸化する工程とから構成され
る。
けた同心円状あるいはスパイラル状の微！Ｉ溝が、五酸
化タンタル薄膜より成ることにより構成される。また本
発明の構付光ディスク基板の製造方法は、透明のガラス
板上にタンタル薄膜を付着する工程と、該タンタル薄膜
に同心円状あるいはスパイラル状の微Ｍ！Ａｓを形成す
る工程と、前記微細溝を熱酸化する工程とから構成され
る。
−ｉにプラスチックは吸湿性含有している。これに対し
てガラスおよび五酸化タンタルは耐水性に潰れるという
性質を有している。また、−ａにプラスチックの熱ｙ５
張係数は１０−５／’Ｃのオーダであるのに対しガラス
および酸化物である五酸化タンタルは１０−６／℃のオ
ーダの熱膨張係数と有す。このためガラスおよび五酸化
タンタルにより構成した光ディスク基板は、従来のプラ
スチック基板に比べ耐湿性、耐熱性に優れる。
てガラスおよび五酸化タンタルは耐水性に潰れるという
性質を有している。また、−ａにプラスチックの熱ｙ５
張係数は１０−５／’Ｃのオーダであるのに対しガラス
および酸化物である五酸化タンタルは１０−６／℃のオ
ーダの熱膨張係数と有す。このためガラスおよび五酸化
タンタルにより構成した光ディスク基板は、従来のプラ
スチック基板に比べ耐湿性、耐熱性に優れる。
構付光ディスク基板において、微細溝が形成されている
面をグループ形成面、その反対側の面をフラット面と呼
ぶことにすると、一般に情報の記録再生はフラット面側
からレーザ光を入射することにより行われる。
面をグループ形成面、その反対側の面をフラット面と呼
ぶことにすると、一般に情報の記録再生はフラット面側
からレーザ光を入射することにより行われる。
透明のガラス板上に形成したタンタル薄膜に同心円状あ
るいはスパイラル状に微細溝を形成した構付光ディスク
基板では、タンタル薄膜がレーザ光をほとんど透過しな
いため、フラット面側からレーザ光を入射し、記録再生
を行うことは困難である。ところが、タンタル薄膜を熱
酸化するとタンタルは五酸化タンタルになり、基板を透
明化することができ、従来のプラスチック製溝付光ディ
スク基板と同様にフラット面側からレーザ光を入射し、
記録再生を行うことができる。
るいはスパイラル状に微細溝を形成した構付光ディスク
基板では、タンタル薄膜がレーザ光をほとんど透過しな
いため、フラット面側からレーザ光を入射し、記録再生
を行うことは困難である。ところが、タンタル薄膜を熱
酸化するとタンタルは五酸化タンタルになり、基板を透
明化することができ、従来のプラスチック製溝付光ディ
スク基板と同様にフラット面側からレーザ光を入射し、
記録再生を行うことができる。
以下、本発明の一実施例について、図面を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の一実施例により得られた構付光ディス
ク基板の断面図を示す。第２図（ａ）〜（Ｃ）は第１図
に示す構付光ディスク基板の製造方法を工程順に示した
模式図である。まず第２図（ａ）に示すように直径１２
０ｍｍ、板厚１．２ｍｍの透明なガラス板１Ｘ上に０．
１μｍの厚さにタンタル薄膜１４をＲＦスパッタにより
形成した。
ク基板の断面図を示す。第２図（ａ）〜（Ｃ）は第１図
に示す構付光ディスク基板の製造方法を工程順に示した
模式図である。まず第２図（ａ）に示すように直径１２
０ｍｍ、板厚１．２ｍｍの透明なガラス板１Ｘ上に０．
１μｍの厚さにタンタル薄膜１４をＲＦスパッタにより
形成した。
次に第３図に示すダイヤモンドバイト１５を用いて第２
図（ｂ）に示すように切削法によりタンタル３膜１４上
に微細溝１３をスパイラル状に形成した。
図（ｂ）に示すように切削法によりタンタル３膜１４上
に微細溝１３をスパイラル状に形成した。
以上のように形成した溝付基板を第２図（ｃ）に示すよ
うに５００℃の高温酸化雰囲気に保った電気炉１６内で
３０分間熱処理をしたところ、タンタル薄膜１４は酸化
され第１図に示すように、五酸化タンタル薄膜１２とな
り、透明な溝付光ディスク基板が得られた。なお、タン
タル薄膜１４を′酸化し、五酸化タンタル薄膜１２とす
る際に体積変化が生じ、微細溝１３の形状の寸法が変化
する。
うに５００℃の高温酸化雰囲気に保った電気炉１６内で
３０分間熱処理をしたところ、タンタル薄膜１４は酸化
され第１図に示すように、五酸化タンタル薄膜１２とな
り、透明な溝付光ディスク基板が得られた。なお、タン
タル薄膜１４を′酸化し、五酸化タンタル薄膜１２とす
る際に体積変化が生じ、微細溝１３の形状の寸法が変化
する。
本発明の一実施例においては五酸化タンタル薄膜１２上
の微細溝１３が溝幅０．８μｍ、溝深さ０．０７μｍ、
ピッチ１．６μｍとなるように、タンタル薄膜１４上に
微細溝１３を形成した。
の微細溝１３が溝幅０．８μｍ、溝深さ０．０７μｍ、
ピッチ１．６μｍとなるように、タンタル薄膜１４上に
微細溝１３を形成した。
以上のようにして製造した溝付光ディスク基板に第４図
に示すように、記録媒体１７を成膜後、内周スペーサ１
８および外周スペーサ１９を用いて貼り合わせた、−１
Ｈにエアーサンドイッチ構造と呼ばれる光ディスクを製
作し、温度６０℃、湿度８０％の高温光温度雰囲気中に
１０００時間放置し、寿命試験を行った。一方、第５図
に示すように、従来のインジェクション法により成形し
たポリカーボネート基板２０を用い同図に示すような構
成の光ディスクを製作し、同様に寿命試験を行った。
に示すように、記録媒体１７を成膜後、内周スペーサ１
８および外周スペーサ１９を用いて貼り合わせた、−１
Ｈにエアーサンドイッチ構造と呼ばれる光ディスクを製
作し、温度６０℃、湿度８０％の高温光温度雰囲気中に
１０００時間放置し、寿命試験を行った。一方、第５図
に示すように、従来のインジェクション法により成形し
たポリカーボネート基板２０を用い同図に示すような構
成の光ディスクを製作し、同様に寿命試験を行った。
その結果、ポリカーボネート基板２０を用いて製作した
光ディスクは寿命試験後には中心部がふくらみ、第５図
に示す基板のそり角θを測定したところ寿命試験の前後
で０．１°から０．４°に増加した。一方、本発明の一
実施例で製作した第４図に示す光ディスクは、寿命試験
の前後で寸法形状の変化はなく、そり角θはθ≠０°と
一定であった。
光ディスクは寿命試験後には中心部がふくらみ、第５図
に示す基板のそり角θを測定したところ寿命試験の前後
で０．１°から０．４°に増加した。一方、本発明の一
実施例で製作した第４図に示す光ディスクは、寿命試験
の前後で寸法形状の変化はなく、そり角θはθ≠０°と
一定であった。
以上のように本発明による構付光ディスク基板は耐湿性
および耐熱性に優れることご確認した。
および耐熱性に優れることご確認した。
なお、本発明の一実施例では微ａｌ溝の形成をダイヤモ
ンドカッティング法により行ったが、微細溝の形成をイ
オンエツチングにより行っても同様の効果が得られるこ
とを’ｉ？ｉ 比した。
ンドカッティング法により行ったが、微細溝の形成をイ
オンエツチングにより行っても同様の効果が得られるこ
とを’ｉ？ｉ 比した。
以上詳述したように本発明によれば、耐湿性および耐熱
性に優れ、基板寸法に経時変化が生じにくい、信顆性の
高い溝付光ディスク基板を得られるという効果がある。
性に優れ、基板寸法に経時変化が生じにくい、信顆性の
高い溝付光ディスク基板を得られるという効果がある。
また本発明による溝付光ディスク基板の製造方法では、
ガラス板上に設けた同心円状あるいはスパイラル状の微
細溝が、五酸化タンタルｆｌａより成るので、フラット
面からレーザ光を入射して記録再生を行うことができる
という効果がある。
ガラス板上に設けた同心円状あるいはスパイラル状の微
細溝が、五酸化タンタルｆｌａより成るので、フラット
面からレーザ光を入射して記録再生を行うことができる
という効果がある。
第１図は本発明の溝付光ディスク基板の一実施例の断面
図、第２図（ａ）〜（ｃ）は、本発明の溝付光ディスク
基板の製造方法の一実施例をその工程順に示す模式図、
第３図は第２図の実施例に用いたダイヤモンドバイトの
正面図、第４図は第１図の溝付光ディスク基板を用いて
製作した光ディスクの断面図、第５図は従来のプラスチ
ック基板を用いた光ディスクの断面図である。 １１・・ガラス板、１２・五酸１ヒタンタル；）１摸、
１３・・・微細溝、１４・タンタル薄ｊ摸、１５・・・
ターイヤモンドバイト、１６・・電気炉、１７・・記録
媒体、１８・・・内周スペーサ、１９・・・外周スペー
サ、２０・・・ポリカーボネー１〜基板。 ＝と 代理人 弁理士 内 原 ｈ ノ 、、、７３．４：／、″”” 翁１図 筋２図 第３０ ／ど 万４図 箔、勺図
図、第２図（ａ）〜（ｃ）は、本発明の溝付光ディスク
基板の製造方法の一実施例をその工程順に示す模式図、
第３図は第２図の実施例に用いたダイヤモンドバイトの
正面図、第４図は第１図の溝付光ディスク基板を用いて
製作した光ディスクの断面図、第５図は従来のプラスチ
ック基板を用いた光ディスクの断面図である。 １１・・ガラス板、１２・五酸１ヒタンタル；）１摸、
１３・・・微細溝、１４・タンタル薄ｊ摸、１５・・・
ターイヤモンドバイト、１６・・電気炉、１７・・記録
媒体、１８・・・内周スペーサ、１９・・・外周スペー
サ、２０・・・ポリカーボネー１〜基板。 ＝と 代理人 弁理士 内 原 ｈ ノ 、、、７３．４：／、″”” 翁１図 筋２図 第３０ ／ど 万４図 箔、勺図
Claims (2)
- （１）透明のガラス板上に設けた同心円状あるいはスパ
イラル状の微細溝が、五酸化タンタル薄膜より成ること
を特徴とする溝付光ディスク基板。 - （２）透明のガラス板上にタンタル薄膜を付着する工程
と、該タンタル薄膜に同心円状あるいはスパイラル状の
微細溝を形成する工程と、前記微細溝を熱酸化する工程
とから成ることを特徴とする溝付光ディスク基板の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61209004A JPS6364646A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 溝付光デイスク基板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61209004A JPS6364646A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 溝付光デイスク基板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6364646A true JPS6364646A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16565704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61209004A Pending JPS6364646A (ja) | 1986-09-04 | 1986-09-04 | 溝付光デイスク基板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6364646A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02177030A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-10 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| JPH02296009A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-06 | Canon Inc | 動圧軸受装置 |
| JP2007284084A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Lion Corp | キャップ付き容器 |
-
1986
- 1986-09-04 JP JP61209004A patent/JPS6364646A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02177030A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-10 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| JPH02296009A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-06 | Canon Inc | 動圧軸受装置 |
| JP2007284084A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Lion Corp | キャップ付き容器 |
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