JPS6365115B2 - - Google Patents
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- JPS6365115B2 JPS6365115B2 JP56501131A JP50113181A JPS6365115B2 JP S6365115 B2 JPS6365115 B2 JP S6365115B2 JP 56501131 A JP56501131 A JP 56501131A JP 50113181 A JP50113181 A JP 50113181A JP S6365115 B2 JPS6365115 B2 JP S6365115B2
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- coating
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- hydrolysis product
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
- C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
- C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
- C08F230/085—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon the monomer being a polymerisable silane, e.g. (meth)acryloyloxy trialkoxy silanes or vinyl trialkoxysilanes
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- Wood Science & Technology (AREA)
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
請求の範囲
１ 下記の成分からなる放射線硬化性被覆用組成
物： (A) 式 R1 a−Si−（OR2）4-a （式中R1及びR2は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、ａは０〜３の整数）を有するアルコ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物100重量
部、 (B) 一般式 （式中R3及びR4は同じ又は異つた１価の炭化
水素基、R5は炭素数２〜８の２価炭化水素基、
R6は水素又は１価炭化水素基、ｂは１〜３の
整数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃに等
しい整数）を有するアクリロキシ官能性シラ
ン、一般式 （式中R7及びR8は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R9は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、ｅは１〜３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇ
は４−ｅ−ｆに等しい整数）を有するグリシド
キシ官能性シラン、及びそれらの混合物から選
択された化合物の酸加水分解生成物10〜1000重
量部、及び (C) 基体上の当該被覆用組成物を透明な耐摩耗性
被覆とするのに有効な触媒量のカチオン性光開
始剤。
物： (A) 式 R1 a−Si−（OR2）4-a （式中R1及びR2は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、ａは０〜３の整数）を有するアルコ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物100重量
部、 (B) 一般式 （式中R3及びR4は同じ又は異つた１価の炭化
水素基、R5は炭素数２〜８の２価炭化水素基、
R6は水素又は１価炭化水素基、ｂは１〜３の
整数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃに等
しい整数）を有するアクリロキシ官能性シラ
ン、一般式 （式中R7及びR8は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R9は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、ｅは１〜３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇ
は４−ｅ−ｆに等しい整数）を有するグリシド
キシ官能性シラン、及びそれらの混合物から選
択された化合物の酸加水分解生成物10〜1000重
量部、及び (C) 基体上の当該被覆用組成物を透明な耐摩耗性
被覆とするのに有効な触媒量のカチオン性光開
始剤。
２ 前記アルコキシ官能性シランがテトラエトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチル
ジエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、
テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン及びトリメチルメ
トキシシランから成る群より選ばれる請求の範囲
第１項に記載の組成物。
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチル
ジエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、
テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン及びトリメチルメ
トキシシランから成る群より選ばれる請求の範囲
第１項に記載の組成物。
３ 前記アクリロキシ官能性シランが
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン ２−メタクリロキシトリメトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリメトキシシラン ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリエトキシシラン から成る群より選ばれる請求の範囲第１項に記載
の組成物。
ン ３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン ２−メタクリロキシトリメトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリメトキシシラン ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリエトキシシラン から成る群より選ばれる請求の範囲第１項に記載
の組成物。
４ 前記グリシドキシ官能性シランが
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
３−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
３−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
から成る群より選ばれる請求の範囲第１項に記載
の組成物。
の組成物。
５ 前記光開始剤が式
（R10−C6H4）nX+［MQh］-
（式中ＸはＩ、Ｐ又はＳから選ばれる基、Ｍは金
属又は半金属、ＱはCl、Ｆ、Br又はＩから選ば
れるハロゲン基、R10は水素又は炭素数１〜12の
１価炭化水素基、ｈは４〜６の整数、ｎは２又は
３の整数）を有する放射線感受性芳香族ハロニウ
ム又はスルホニウム塩である請求の範囲第１項に
記載の組成物。
属又は半金属、ＱはCl、Ｆ、Br又はＩから選ば
れるハロゲン基、R10は水素又は炭素数１〜12の
１価炭化水素基、ｈは４〜６の整数、ｎは２又は
３の整数）を有する放射線感受性芳香族ハロニウ
ム又はスルホニウム塩である請求の範囲第１項に
記載の組成物。
６ ［MQh］-がSbF6 -、AsF6 -、BF4 -及びPF6 -
から選択される請求の範囲第５項に記載の組成
物。
から選択される請求の範囲第５項に記載の組成
物。
７ トリメチロールプロパントリアクリレート約
５〜50重量部をさらに含む請求の範囲第１項に記
載の組成物。
５〜50重量部をさらに含む請求の範囲第１項に記
載の組成物。
８ 前記カチオン性光開始剤が、前記アルコキシ
官能性シランの酸加水分解生成物と前記アクリロ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物又はグリシ
ドキシ官能性シランの酸加水分解生成物又はそれ
らの混合物との混合物100部当たり約0.01〜５重
量部存在する請求の範囲第１項に記載の組成物。
官能性シランの酸加水分解生成物と前記アクリロ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物又はグリシ
ドキシ官能性シランの酸加水分解生成物又はそれ
らの混合物との混合物100部当たり約0.01〜５重
量部存在する請求の範囲第１項に記載の組成物。
９ 前記カチオン性開始剤がさらにラジカル型光
開始剤と混合される請求の範囲第５項に記載の組
成物。
開始剤と混合される請求の範囲第５項に記載の組
成物。
１０ 前記ラジカル型光開始剤がエチルベンゾイ
ンエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル及
びジメトキシフエニルアセトフエノンから選択さ
れる請求の範囲第９項に記載の組成物。
ンエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル及
びジメトキシフエニルアセトフエノンから選択さ
れる請求の範囲第９項に記載の組成物。
１１ 下記の工程からなる、基体の耐摩耗性を改
善するための紫外線硬化性硬質被覆用組成物の使
用方法： (A) 式 R1 a−Si−（OR2）4-a （式中R1及びR2は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、ａは０〜３の整数）を有するアルコ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物100重量
部、 (B) 一般式 （式中R3及びR4は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R5は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、R6は水素又は１価炭化水素基、ｂは１〜
３の整数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃ
に等しい整数）を有するアクリロキシ官能性シ
ラン、又は一般式 （式中R7及びR8は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R9は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、ｅは１〜３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇ
は４−ｅ−ｆに等しい整数）を有するグリシド
キシ官能性シラン、及びそれらの混合物から選
択された化合物の酸加水分解生成物10〜1000重
量部、及び (C) 触媒量のカチオン性光開始剤を混合し、当該
組成物を基体の上に塗布し、そして前記基体上
に耐摩耗性被覆を形成するのに有効な所定量の
紫外放射線を使つて前記基体の上で前記被覆用
組成物を硬化する。
善するための紫外線硬化性硬質被覆用組成物の使
用方法： (A) 式 R1 a−Si−（OR2）4-a （式中R1及びR2は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、ａは０〜３の整数）を有するアルコ
キシ官能性シランの酸加水分解生成物100重量
部、 (B) 一般式 （式中R3及びR4は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R5は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、R6は水素又は１価炭化水素基、ｂは１〜
３の整数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃ
に等しい整数）を有するアクリロキシ官能性シ
ラン、又は一般式 （式中R7及びR8は同じ又は異なつた１価の炭
化水素基、R9は炭素数２〜８の２価炭化水素
基、ｅは１〜３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇ
は４−ｅ−ｆに等しい整数）を有するグリシド
キシ官能性シラン、及びそれらの混合物から選
択された化合物の酸加水分解生成物10〜1000重
量部、及び (C) 触媒量のカチオン性光開始剤を混合し、当該
組成物を基体の上に塗布し、そして前記基体上
に耐摩耗性被覆を形成するのに有効な所定量の
紫外放射線を使つて前記基体の上で前記被覆用
組成物を硬化する。
１２ 前記基体が合成有機重合体から成る請求の
範囲第１１項に記載の方法。
範囲第１１項に記載の方法。
１３ 前記基体が金属である請求の範囲第１１項
に記載の方法。
に記載の方法。
１４ 前記基体が金属化された表面を有する合成
有機重合体である請求の範囲第１１項に記載の方
法。
有機重合体である請求の範囲第１１項に記載の方
法。
１５ 前記重合体が透明重合体である請求の範囲
第１２項に記載の方法。
第１２項に記載の方法。
１６ 前記重合体がポリカーボネートである請求
の範囲第１５項に記載の方法。
の範囲第１５項に記載の方法。
１７ 前記ポリカーボネートが透明である請求の
範囲第１６項に記載の方法。
範囲第１６項に記載の方法。
１８ 前記ポリカーボネートがポリ（ビスフエノ
ール−Ａカーボネート）である請求の範囲第１６
項に記載の方法。
ール−Ａカーボネート）である請求の範囲第１６
項に記載の方法。
１９ 前記基体の表面が、前記被覆用組成物で被
覆される前に、プライマー組成物で下塗りされる
請求の範囲第１１項に記載の方法。
覆される前に、プライマー組成物で下塗りされる
請求の範囲第１１項に記載の方法。
２０ 前記プライマー組成物が熱硬化性アクリル
エマルジヨンから成る請求の範囲第１９項に記載
の方法。
エマルジヨンから成る請求の範囲第１９項に記載
の方法。
２１ 前記重合体がポリメチルメタクリレートで
ある請求の範囲第１２項に記載の方法。
ある請求の範囲第１２項に記載の方法。
発明の背景
本発明は紫外線硬化性保護被覆用組成物に関す
るものである。さらに詳しくは基体に塗布した場
合に耐摩耗性の保護皮膜を形成するシリコーン秘
覆用組成物に関するものである。
るものである。さらに詳しくは基体に塗布した場
合に耐摩耗性の保護皮膜を形成するシリコーン秘
覆用組成物に関するものである。
最近、ガラスに代えて、破砕しないあるいはガ
ラスよりも破砕抵抗性を有する透明な材料を使用
することが普及してきた。例えば、合成有機重合
体から製造された透明ガラスが現在、汽車、バ
ス、タクシー及び航空機のような公共輸送機関に
おいて使用されている。大きい建物のガラスの
他、めがね及びその他の光学機器などのためのレ
ンズにも耐破砕性の透明レンズが用いられる。こ
れらのプラスチツクがガラスに比較して重量が軽
いことはさらに有利な点であり、特に乗物の重量
が燃料の節約において重要な要因となる輸送工業
において有利である。
ラスよりも破砕抵抗性を有する透明な材料を使用
することが普及してきた。例えば、合成有機重合
体から製造された透明ガラスが現在、汽車、バ
ス、タクシー及び航空機のような公共輸送機関に
おいて使用されている。大きい建物のガラスの
他、めがね及びその他の光学機器などのためのレ
ンズにも耐破砕性の透明レンズが用いられる。こ
れらのプラスチツクがガラスに比較して重量が軽
いことはさらに有利な点であり、特に乗物の重量
が燃料の節約において重要な要因となる輸送工業
において有利である。
透明プラスチツク類は、ガラスに比較してより
耐破砕性であり、より軽量であるが、一方塵埃、
清掃器具及び／又は通常の屋外暴露のような摩耗
を起すものに毎日接触することにより容易に擦傷
や引つかき傷を受けるという重大な欠点がある。
擦傷や引つかき傷を常時受けることにより、透明
度が低下し、外観がそこなわれ、しばしばガラス
又はレンズ等の交換が必要である。
耐破砕性であり、より軽量であるが、一方塵埃、
清掃器具及び／又は通常の屋外暴露のような摩耗
を起すものに毎日接触することにより容易に擦傷
や引つかき傷を受けるという重大な欠点がある。
擦傷や引つかき傷を常時受けることにより、透明
度が低下し、外観がそこなわれ、しばしばガラス
又はレンズ等の交換が必要である。
ガラスとして最も有望で広く用いられている透
明プラスチツクの１つは、例えばゼネラルエレク
トリツク社か市販されているレキサン（Lexan：
登録商標）として知られているようなポリカーボ
ネートである。これは自消性である上に耐衝撃
性、高い熱変形温度、良好な寸法安定性を有する
強靭な材料であり、又容易に製造することができ
る。ポリメチルメタクリレートのようなアクリル
樹脂もまたガラスとして広く用いられる透明プラ
スチツクである。
明プラスチツクの１つは、例えばゼネラルエレク
トリツク社か市販されているレキサン（Lexan：
登録商標）として知られているようなポリカーボ
ネートである。これは自消性である上に耐衝撃
性、高い熱変形温度、良好な寸法安定性を有する
強靭な材料であり、又容易に製造することができ
る。ポリメチルメタクリレートのようなアクリル
樹脂もまたガラスとして広く用いられる透明プラ
スチツクである。
透明なプラスチツクの耐摩耗性を改善しようと
いう試みが行なわれてきた。例えば、コロイドシ
リカスはシリカゲルのようなシリカ、及び加水分
解媒体中（例えばアルコール及び水）中の加水分
解性シランの混合物から形成される耐引つかき性
の被覆が知られている。このような組成物は例え
ば米国特許第3708225号、第3986997号及び第
3976497号に記載されている。
いう試みが行なわれてきた。例えば、コロイドシ
リカスはシリカゲルのようなシリカ、及び加水分
解媒体中（例えばアルコール及び水）中の加水分
解性シランの混合物から形成される耐引つかき性
の被覆が知られている。このような組成物は例え
ば米国特許第3708225号、第3986997号及び第
3976497号に記載されている。
米国特許出願第964910号（出願中）には水分や
湿気、紫外線に対する抵抗性が改善された被覆用
組成物が開示されている。そこでは、米国特許第
3986997号の記載とは全く対照的に、塩基性即ち
7.1〜7.8のPHを有する組成物は急速にゲル化せ
ず、実際固体基体上に優れた耐摩耗性皮膜を形成
することが見出された。
湿気、紫外線に対する抵抗性が改善された被覆用
組成物が開示されている。そこでは、米国特許第
3986997号の記載とは全く対照的に、塩基性即ち
7.1〜7.8のPHを有する組成物は急速にゲル化せ
ず、実際固体基体上に優れた耐摩耗性皮膜を形成
することが見出された。
本発明は、従来知られた多くの被覆用組成物に
まさつて、硬化反応を開始するのに熱を必要とし
ないという大きな利点を提供するものである。本
発明の放射線硬化系は従来の熱による硬化系より
も熱エネルギーの消費がかなり少ない。
まさつて、硬化反応を開始するのに熱を必要とし
ないという大きな利点を提供するものである。本
発明の放射線硬化系は従来の熱による硬化系より
も熱エネルギーの消費がかなり少ない。
紫外線は比較的低価格、維持管理の容易さ及び
工業使用者に対する障害の可能性の低さのために
最も広く用いられる放射線の種類の中の一つであ
る。硬質皮膜の硬化のためには、熱エネルギーよ
りもむしろ紫外線を利用する急速な光重合の方が
重要な利点をいくつか有する。第１に皮膜がより
速く硬化することで実質的な経済的利益が得られ
る。さらに熱に過敏な材料も安全に被覆され、基
体に損傷を与える熱エネルギーを使用せずに紫外
線によつて硬化することができる。さらに、実質
的に無溶剤の媒体のため、高価な時間のかかる汚
染防止手段の必要性が減少する。
工業使用者に対する障害の可能性の低さのために
最も広く用いられる放射線の種類の中の一つであ
る。硬質皮膜の硬化のためには、熱エネルギーよ
りもむしろ紫外線を利用する急速な光重合の方が
重要な利点をいくつか有する。第１に皮膜がより
速く硬化することで実質的な経済的利益が得られ
る。さらに熱に過敏な材料も安全に被覆され、基
体に損傷を与える熱エネルギーを使用せずに紫外
線によつて硬化することができる。さらに、実質
的に無溶剤の媒体のため、高価な時間のかかる汚
染防止手段の必要性が減少する。
発明の要約
本発明は、アルコキシ官能性シランの酸加水分
解生成物である成分(A)とアクリロキシ官能性シラ
ンの酸加水分解生成物又はグリシドキシ官能性シ
ランの酸加水分解生成物又はそれらの混合物であ
る成分(B)との混合物から成る被覆用組成物によつ
て達成される。成分Ａ及びＢの混合物に、加水分
解生成物の硬化反応を促進するのに効果的なカチ
オン性光開始剤の触媒量が添加される。このカチ
オン性光開始剤は放射線感受性のハロニウム、ホ
スホニウム又はスルホニウム塩でよい。上記カチ
オン型とは異なるラジカル型光開始剤をカチオン
性光開始剤と併用してもよい。このラジカル光開
始剤は加水分解されたシランのアクリロキシ官能
性部分の側で硬化反応を促進し、それによつてよ
り強固に硬化し、耐摩耗性の改善された硬質皮膜
を与えることができる。
解生成物である成分(A)とアクリロキシ官能性シラ
ンの酸加水分解生成物又はグリシドキシ官能性シ
ランの酸加水分解生成物又はそれらの混合物であ
る成分(B)との混合物から成る被覆用組成物によつ
て達成される。成分Ａ及びＢの混合物に、加水分
解生成物の硬化反応を促進するのに効果的なカチ
オン性光開始剤の触媒量が添加される。このカチ
オン性光開始剤は放射線感受性のハロニウム、ホ
スホニウム又はスルホニウム塩でよい。上記カチ
オン型とは異なるラジカル型光開始剤をカチオン
性光開始剤と併用してもよい。このラジカル光開
始剤は加水分解されたシランのアクリロキシ官能
性部分の側で硬化反応を促進し、それによつてよ
り強固に硬化し、耐摩耗性の改善された硬質皮膜
を与えることができる。
発明の詳細な記載
本発明の被覆用組成物の主要成分の１つは、ア
ルコキシ官能性シランの加水分解生成物である成
分(A)である。このシランは普通次の一般式を有す
る。
ルコキシ官能性シランの加水分解生成物である成
分(A)である。このシランは普通次の一般式を有す
る。
（）R1a−Si−（OR2）4-a
式中R1及びR2は同じ又は異なつた１価の炭化
水素基であり、またそれらの基のハロゲン化され
た種類も含む。好ましくはR1及びR2はメチル、
エチル、プロピル等の低級アルキル基であるが、
ビニル、アリール等を含むその他の飽和又は不飽
和基でもよい。ａは０〜３の整数であり、従つて
シラン分子中には４−ａ個のアルコキシ基があ
る。テトラアルコキシシランが特に有効であるか
らａはしばしば０となる。
水素基であり、またそれらの基のハロゲン化され
た種類も含む。好ましくはR1及びR2はメチル、
エチル、プロピル等の低級アルキル基であるが、
ビニル、アリール等を含むその他の飽和又は不飽
和基でもよい。ａは０〜３の整数であり、従つて
シラン分子中には４−ａ個のアルコキシ基があ
る。テトラアルコキシシランが特に有効であるか
らａはしばしば０となる。
上記シランの加水分解生成物は触媒量の酸の存
在下でシランを過剰の水と接触させることにより
得られる。水が理論量より少なく用いられた場
合、部分加水分解生成物が得られる。この部分加
水分解生成物もまた本発明の硬質皮報を得るため
に使用できる。特に有用なアルコキシ官能性シラ
ンの中には次のものがある。テトラエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラ
メトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン及びトリメチルメトキシ
シラン。
在下でシランを過剰の水と接触させることにより
得られる。水が理論量より少なく用いられた場
合、部分加水分解生成物が得られる。この部分加
水分解生成物もまた本発明の硬質皮報を得るため
に使用できる。特に有用なアルコキシ官能性シラ
ンの中には次のものがある。テトラエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラ
メトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン及びトリメチルメトキシ
シラン。
第２の主要成分は、アクリロキシ官能性シラン
の酸加水分解生成物又はグリシドキシ官能性シラ
ンの酸加水分解生成物又はそれらの混合物である
成分(B)である。アクリロキシ官能性シランは
（）によつて示される一般式を有する。
の酸加水分解生成物又はグリシドキシ官能性シラ
ンの酸加水分解生成物又はそれらの混合物である
成分(B)である。アクリロキシ官能性シランは
（）によつて示される一般式を有する。
但しR3及びR4は、前述のR1及びR2同様、同じ
又は異なつた１価の炭化水素基である。R5は炭
素数２〜８の２価炭化水素基である。R6は水素
又は１価の炭化水素基である。ｂは１〜３の整
数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃに等しい
整数である。本発明の具体例の多くにおいて通常
ｂは３であり、Ｃは０、ｄは１である。アクリロ
キシ官能性シランの具体例としては次のものがあ
る。
又は異なつた１価の炭化水素基である。R5は炭
素数２〜８の２価炭化水素基である。R6は水素
又は１価の炭化水素基である。ｂは１〜３の整
数、ｃは０〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃに等しい
整数である。本発明の具体例の多くにおいて通常
ｂは３であり、Ｃは０、ｄは１である。アクリロ
キシ官能性シランの具体例としては次のものがあ
る。
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリメトキシシラン ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン ２−アクリロキシチルトリエトキシシラン これらのアクリロキシ官能性シランは市販され
ている。例えば３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシランはユニオンカーバイドより市販さ
れている。被覆用組成物の第２の主要成分（成分
Ｂ）は上記のアクリロキシ官能性シランの代わり
にグリシドキシ官能性シランでもよく、あるいは
両方の型のシランを混合したものでもよい。グリ
シドキシ官能性シランは（）で示される一般式
を有する。
ン ３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン ２−アクリロキシエチルトリメトキシシラン ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン ３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン ２−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン ２−アクリロキシチルトリエトキシシラン これらのアクリロキシ官能性シランは市販され
ている。例えば３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシランはユニオンカーバイドより市販さ
れている。被覆用組成物の第２の主要成分（成分
Ｂ）は上記のアクリロキシ官能性シランの代わり
にグリシドキシ官能性シランでもよく、あるいは
両方の型のシランを混合したものでもよい。グリ
シドキシ官能性シランは（）で示される一般式
を有する。
但しR7及びR8は、前述のR1及びR2と同様、同
じ又は異なつた１価の炭化水素基である。R9は
炭素数２〜８の２価炭化水素基である。ｅは１〜
３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇは４−ｅ−ｆに
等しい整数である。有用なグリシドキシ官能性シ
ランの具体例としては次のものがある。
じ又は異なつた１価の炭化水素基である。R9は
炭素数２〜８の２価炭化水素基である。ｅは１〜
３の整数、ｆは０〜２の整数、ｇは４−ｅ−ｆに
等しい整数である。有用なグリシドキシ官能性シ
ランの具体例としては次のものがある。
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
３−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
３−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
これらのグリシドキシ官能性シランも又市販さ
れている。例えば一例としてペトラ−チシステム
ズ（Petrarch Systems）より市販されている。
本発明の紫外線硬化性被覆用組成物は、式で表
わされるアルコキシ官能性シランの酸加水分解生
成物100重量部と、式で表わされるアクリロキ
シ官能性シラン又は式で表わされるグリシドキ
官能性シラン又はそれらの混合物の酸加水分解生
成物約10〜1000重量部とを混合したものから成
る。この混合物にカチオン性光開始剤の触媒量を
添加しなければならない。効果的な光開始剤は放
射線感受性の芳香族ハロニウム、スルホニウム又
はホスホニウム塩であり、これらは文献に記載さ
れている。
れている。例えば一例としてペトラ−チシステム
ズ（Petrarch Systems）より市販されている。
本発明の紫外線硬化性被覆用組成物は、式で表
わされるアルコキシ官能性シランの酸加水分解生
成物100重量部と、式で表わされるアクリロキ
シ官能性シラン又は式で表わされるグリシドキ
官能性シラン又はそれらの混合物の酸加水分解生
成物約10〜1000重量部とを混合したものから成
る。この混合物にカチオン性光開始剤の触媒量を
添加しなければならない。効果的な光開始剤は放
射線感受性の芳香族ハロニウム、スルホニウム又
はホスホニウム塩であり、これらは文献に記載さ
れている。
カチオン性光開始剤はCrivelloにより多くの米
国特許び特許出願に記載されており、例えば、
1979年１月23日発行の米国特許第4136102号及び
1976年９月21日発行の米国特許第3981897号を参
照されたい。このカチオン性光開始剤は（）で
示される一般式を有しているものでよい。
国特許び特許出願に記載されており、例えば、
1979年１月23日発行の米国特許第4136102号及び
1976年９月21日発行の米国特許第3981897号を参
照されたい。このカチオン性光開始剤は（）で
示される一般式を有しているものでよい。
（）（R10−C6H4）nX+〔MQh〕-
この式においてＸはＩ、Ｐ又はＳから選ばれる
基である。Ｍは金属又は半金属、ＱはCl、Ｆ、
Br又はＩから選ばれるハロゲンである。R10は水
素又は炭素数１〜12の１価炭化水素基である。ｈ
は４〜６の整数、ｎは２又は３の整数である。
基である。Ｍは金属又は半金属、ＱはCl、Ｆ、
Br又はＩから選ばれるハロゲンである。R10は水
素又は炭素数１〜12の１価炭化水素基である。ｈ
は４〜６の整数、ｎは２又は３の整数である。
〔MQh〕-は任意の種類のイオンであるが、好
ましくはSbF6 -、BF4 -及びPF6 -から選択される。
ましくはSbF6 -、BF4 -及びPF6 -から選択される。
前述の成分ＡとＢの混合物100重量部に対し約
0.20重量部のカチオン性光開始剤を用いるのが通
常好ましい。しかしながら硬化速度や最大摩耗抵
抗のような望ましい各加工数に応じ、光開始剤の
量は、成分Ａ及びＢの混合物100重量部につき約
0.01〜５重量部の範囲で変化しうる。
0.20重量部のカチオン性光開始剤を用いるのが通
常好ましい。しかしながら硬化速度や最大摩耗抵
抗のような望ましい各加工数に応じ、光開始剤の
量は、成分Ａ及びＢの混合物100重量部につき約
0.01〜５重量部の範囲で変化しうる。
カチオン性光開始剤は、紫外線に暴露された場
合に式、及びで示される化合物の加水分解
されたアルコキシ基の間での架橋反応を開始する
のに特に効果的である。このように被覆用組成物
が基体に塗布され、例えば紫外線ランプによる照
射に暴露されると、良好な付着性を有するすぐれ
た硬質皮膜が得られる。
合に式、及びで示される化合物の加水分解
されたアルコキシ基の間での架橋反応を開始する
のに特に効果的である。このように被覆用組成物
が基体に塗布され、例えば紫外線ランプによる照
射に暴露されると、良好な付着性を有するすぐれ
た硬質皮膜が得られる。
上記カチオン性光開始剤に加え、組成物中に含
まれるシランのアクリロキシ官能性部分を架橋又
は自己縮合するのに有効なラジカル型開始剤を用
いた場合、この硬質被覆用組成物において耐摩耗
性が改善できる。上記ラジカル光開始剤にはベン
ゾインエーテル、アルフアーアシルオキシムエス
テル、アセトフエノン誘導体、ベンジルケタール
及びケトン−アミン誘導体がある。これらの光開
始剤の具体例としてはエチルベンゾイルエーテ
ル、イソプロピルベンゾイルエーテル及びジメト
キシフエニルアセトフエノンがある。
まれるシランのアクリロキシ官能性部分を架橋又
は自己縮合するのに有効なラジカル型開始剤を用
いた場合、この硬質被覆用組成物において耐摩耗
性が改善できる。上記ラジカル光開始剤にはベン
ゾインエーテル、アルフアーアシルオキシムエス
テル、アセトフエノン誘導体、ベンジルケタール
及びケトン−アミン誘導体がある。これらの光開
始剤の具体例としてはエチルベンゾイルエーテ
ル、イソプロピルベンゾイルエーテル及びジメト
キシフエニルアセトフエノンがある。
成分Ａ及びＢの酸加水分解生成物は、この加水
分解生成物又は混合物100重量部と光開始剤混合
物約0.5〜5.0重量部とを混合することにより効果
的に触媒を施されてすぐれた放射線硬化性硬質被
覆を形成する。光開始剤混合物はヘキサフルオロ
ヒ酸ジフエニルヨードニウムのようなカチオン型
開始剤約10〜90重量％から成り、残りの部分はエ
チルベンゾインエーテルのようなラジカル型開始
剤である。
分解生成物又は混合物100重量部と光開始剤混合
物約0.5〜5.0重量部とを混合することにより効果
的に触媒を施されてすぐれた放射線硬化性硬質被
覆を形成する。光開始剤混合物はヘキサフルオロ
ヒ酸ジフエニルヨードニウムのようなカチオン型
開始剤約10〜90重量％から成り、残りの部分はエ
チルベンゾインエーテルのようなラジカル型開始
剤である。
上記被覆用組成物はさらに５〜50重量部のトリ
メチロールプロパントリアクリレートのようなア
クリロキシ官能性物質を任意につけ加える場合も
あり、本発明の別の態様となる。
メチロールプロパントリアクリレートのようなア
クリロキシ官能性物質を任意につけ加える場合も
あり、本発明の別の態様となる。
本発明のUV−硬化性被覆用組成物は通常固体
基体の少なくとも一面に塗布される。固体基体は
合成有機重合体、金属又はガラスであり、金属化
表面を有する合成有機重合体基体も含む。
基体の少なくとも一面に塗布される。固体基体は
合成有機重合体、金属又はガラスであり、金属化
表面を有する合成有機重合体基体も含む。
組成物を基体に塗布する前に、熱硬化性アクリ
ルエマルジヨンのようなプライマーを基体に最初
に塗布する下塗り工程を任意に行なうこともでき
る。被覆用組成物を基体又は下塗りされた基体に
塗布した後、被覆物はそこにおいて例えばハノビ
ア（Hanovia）550ワツトランプ又はPPGプロセ
ツサーQC1202型等から得られる有効量の紫外線
によつて硬化される。
ルエマルジヨンのようなプライマーを基体に最初
に塗布する下塗り工程を任意に行なうこともでき
る。被覆用組成物を基体又は下塗りされた基体に
塗布した後、被覆物はそこにおいて例えばハノビ
ア（Hanovia）550ワツトランプ又はPPGプロセ
ツサーQC1202型等から得られる有効量の紫外線
によつて硬化される。
本発明の被覆用組成物は流し塗、吹付け塗又は
浸し塗のような慣用の方法で種々の固体基体に塗
布でき、連続表面フイルムを形成する。最近の皮
膜厚は低速の浸し塗の方法により得られる。特に
ここで意図されている基体は透明、不透明のプラ
スチツクと金属である。さらに詳しくは、これら
のプラスチツク類はポリ（メチルメタクリレー
ト）のようなアクリル重合体、ポリ（エチレンテ
レフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）
等のようなポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチ
レン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
ポリ塩化ビニル、ブチレート、ポリエチレン等の
合成有機重合体基体である。本本発明の被覆用組
成物は、ポリ（ビスフエノール−Ａカーボネー
ト）、ゼネラルエレクトリツク社から市販されて
いるレキサン（Lexan：登録商標）として知られ
るポリカーボネートのようなポリカーボネート類
の被覆、射出成形又は押出し成形されたポリメチ
ルメタクリレートのようなアクリル樹脂の被覆に
とくに有用である。また、本発明の保護被覆が効
果を有する金属基体には、光沢のある及びアルミ
ニウムのような無光沢の金属及びスパツタリング
されたクロム合金のような光沢のある金属化表面
がある。ここで意図している固体基体は他に木
材、塗装面、皮、ガラス、セラミツク及び織物で
ある。
浸し塗のような慣用の方法で種々の固体基体に塗
布でき、連続表面フイルムを形成する。最近の皮
膜厚は低速の浸し塗の方法により得られる。特に
ここで意図されている基体は透明、不透明のプラ
スチツクと金属である。さらに詳しくは、これら
のプラスチツク類はポリ（メチルメタクリレー
ト）のようなアクリル重合体、ポリ（エチレンテ
レフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）
等のようなポリエステル、ポリアミド、ポリイミ
ド、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチ
レン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
ポリ塩化ビニル、ブチレート、ポリエチレン等の
合成有機重合体基体である。本本発明の被覆用組
成物は、ポリ（ビスフエノール−Ａカーボネー
ト）、ゼネラルエレクトリツク社から市販されて
いるレキサン（Lexan：登録商標）として知られ
るポリカーボネートのようなポリカーボネート類
の被覆、射出成形又は押出し成形されたポリメチ
ルメタクリレートのようなアクリル樹脂の被覆に
とくに有用である。また、本発明の保護被覆が効
果を有する金属基体には、光沢のある及びアルミ
ニウムのような無光沢の金属及びスパツタリング
されたクロム合金のような光沢のある金属化表面
がある。ここで意図している固体基体は他に木
材、塗装面、皮、ガラス、セラミツク及び織物で
ある。
配合、塗布条件及びプライマーの使用を含む基
体の予備処理を適切に選択することにより、皮膜
はほとんどすべての固体基体に付着しうる。前述
の性質及び利点をすべて有する硬質皮膜は、残存
溶媒及び加水分解反応の副生物であるメタノール
やエタノールのような揮発性物質を除去すること
により得られる。この残存部分は別として本発明
は実質的に無溶剤の被覆用組成物を提供する。
体の予備処理を適切に選択することにより、皮膜
はほとんどすべての固体基体に付着しうる。前述
の性質及び利点をすべて有する硬質皮膜は、残存
溶媒及び加水分解反応の副生物であるメタノール
やエタノールのような揮発性物質を除去すること
により得られる。この残存部分は別として本発明
は実質的に無溶剤の被覆用組成物を提供する。
皮膜厚さは様々であるが、摩耗抵抗がすぐれて
いるのは皮膜厚さが３〜10ミクロン、特に好まし
くは５ミクロンの場合である。
いるのは皮膜厚さが３〜10ミクロン、特に好まし
くは５ミクロンの場合である。
当分野の技術者にとつて本発明の実施の方法が
よりよく理解できるよう、次の実施例を限定のた
めではなく説明のために示す。
よりよく理解できるよう、次の実施例を限定のた
めではなく説明のために示す。
実施例 １
温度計、磁かく拌棒及び氷浴を備えた200mlの
三口フラスコへ、テトラエトキシシラン（TES）
52ｇ（0.25モル）及び水９ｇ（0.5モル）の混合
物を入れる。この不均質溶液を約０〜３℃に冷却
し、次いで過塩素酸0.4ｇを加える。氷が溶ける
間この反応混合物をかく拌する。ろ過により不溶
性粒子をとり除いた後、5.6センチストークスの
粘度を有するTES−加水分解生成物の透明溶液
が得られる。次に３−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン（MPTMS）24.8ｇ（0.1モル）
及び水2.7ｇ（0.15モル）を混合し、室温で過塩
素酸２滴を加えて第２の乳化溶液を得る。室温で
一晩かく拌した後、8.6センチストークスの粘度
を有する薄い緑色を帯びたMPTMS−加水分解
生成物が得られる。TES−加水分解生成物５ｇ
及びMPTMS加水分解物４ｇの混合物にカチオ
ン性触媒のヘキサフルオロヒ酸ジフエニルヨード
ニウム60mgを添加する。透明溶液が得られ、これ
をレキサン（登録商標）シートに流し塗りし、被
覆されたパネルを室温において30分間乾燥させ、
次いでハノビア（Hanovia）550ワツト単一ラン
プで照射する。12〜60秒で良好な付着性を有する
硬質皮膜が得られた。
三口フラスコへ、テトラエトキシシラン（TES）
52ｇ（0.25モル）及び水９ｇ（0.5モル）の混合
物を入れる。この不均質溶液を約０〜３℃に冷却
し、次いで過塩素酸0.4ｇを加える。氷が溶ける
間この反応混合物をかく拌する。ろ過により不溶
性粒子をとり除いた後、5.6センチストークスの
粘度を有するTES−加水分解生成物の透明溶液
が得られる。次に３−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン（MPTMS）24.8ｇ（0.1モル）
及び水2.7ｇ（0.15モル）を混合し、室温で過塩
素酸２滴を加えて第２の乳化溶液を得る。室温で
一晩かく拌した後、8.6センチストークスの粘度
を有する薄い緑色を帯びたMPTMS−加水分解
生成物が得られる。TES−加水分解生成物５ｇ
及びMPTMS加水分解物４ｇの混合物にカチオ
ン性触媒のヘキサフルオロヒ酸ジフエニルヨード
ニウム60mgを添加する。透明溶液が得られ、これ
をレキサン（登録商標）シートに流し塗りし、被
覆されたパネルを室温において30分間乾燥させ、
次いでハノビア（Hanovia）550ワツト単一ラン
プで照射する。12〜60秒で良好な付着性を有する
硬質皮膜が得られた。
PPGQC1202UVプロセツサーで同じ操作をく
り返した場合、３秒程で良好な付着性を有する同
様の硬質皮膜が得られた。
り返した場合、３秒程で良好な付着性を有する同
様の硬質皮膜が得られた。
実施例 ２
テトラエトキシシラン８重量部、３−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン（MPTMS）
４重量部及び触媒量の過塩素酸の混合物へ、氷浴
温度において水３モル量を添加する。反応混合物
を室温で一晩かく拌する。加水分解反応生成物
100部をトリメチロールプロパントリアクリレー
ト16重量部及び50重量％のエチルベンゾインエー
テルを含んだ光開始剤混合物2.0部と混合する。
触媒を添加されたこの混合物をレキサン（登録商
標）に流し塗りし、次いで30分間空気乾燥して
UVプロセツサーで硬化する。硬化した組成物は
良好な付着性及び耐摩耗性を示し、硬化には３〜
６秒要しただけである。
ロキシプロピルトリメトキシシラン（MPTMS）
４重量部及び触媒量の過塩素酸の混合物へ、氷浴
温度において水３モル量を添加する。反応混合物
を室温で一晩かく拌する。加水分解反応生成物
100部をトリメチロールプロパントリアクリレー
ト16重量部及び50重量％のエチルベンゾインエー
テルを含んだ光開始剤混合物2.0部と混合する。
触媒を添加されたこの混合物をレキサン（登録商
標）に流し塗りし、次いで30分間空気乾燥して
UVプロセツサーで硬化する。硬化した組成物は
良好な付着性及び耐摩耗性を示し、硬化には３〜
６秒要しただけである。
実施例 ３
テトラメトキシシラン（TMS）152.2ｇ（１モ
ル）及び水36ｇ（２モル）の混合物へ氷浴温度に
おいて過塩素酸１ｇを加える。次に反応混合物を
一晩（約16時間）氷が溶ける間かく拌する。この
加水分解生成物50重量部へ、実施例１で得られ
MPTMS−加水分解生成物40部を添加する。こ
の加水分解生成物混合物に、ヘキサフルオロヒ酸
ジフエニルヨードニウム40重量％及びエチルベン
ゾイルエーテル60重量％から成る光開始剤混合物
を1.5重量部添加する。この混合物をレキサン
（登録商標）上に流し塗りし、30分間水をとばす。
次いで紫外線の下で硬化させ、良好な付着性を有
する透明硬質皮膜を得る。
ル）及び水36ｇ（２モル）の混合物へ氷浴温度に
おいて過塩素酸１ｇを加える。次に反応混合物を
一晩（約16時間）氷が溶ける間かく拌する。この
加水分解生成物50重量部へ、実施例１で得られ
MPTMS−加水分解生成物40部を添加する。こ
の加水分解生成物混合物に、ヘキサフルオロヒ酸
ジフエニルヨードニウム40重量％及びエチルベン
ゾイルエーテル60重量％から成る光開始剤混合物
を1.5重量部添加する。この混合物をレキサン
（登録商標）上に流し塗りし、30分間水をとばす。
次いで紫外線の下で硬化させ、良好な付着性を有
する透明硬質皮膜を得る。
実施例 ４
テトラエトキシシラン104ｇ（0.5モル）及び水
18ｇ（１モル）の混合物を氷浴で冷却する。次に
0.5ｇのトリフルオロ酢酸を加える。室温で一晩
かく拌した後、透明TES加水分解生成物が得ら
れる。この加水分解生成物100ｇへ、実施例１で
得られたMPTMS加水分解生成物80ｇを添加す
る。こうして得られた加水分解生成物100部へ、
実施例１の50−50光開始剤混合物1.5重量部を添
加する。この混合物をレキサン（登録商標）上に
被覆し空気乾燥した後、紫外線に暴露すると良好
な付着性を示す耐摩耗性硬質皮膜に硬化する。
18ｇ（１モル）の混合物を氷浴で冷却する。次に
0.5ｇのトリフルオロ酢酸を加える。室温で一晩
かく拌した後、透明TES加水分解生成物が得ら
れる。この加水分解生成物100ｇへ、実施例１で
得られたMPTMS加水分解生成物80ｇを添加す
る。こうして得られた加水分解生成物100部へ、
実施例１の50−50光開始剤混合物1.5重量部を添
加する。この混合物をレキサン（登録商標）上に
被覆し空気乾燥した後、紫外線に暴露すると良好
な付着性を示す耐摩耗性硬質皮膜に硬化する。
実施例 ５
温度計、かく拌機及び氷浴を備えた500mlの三
口フラスコに、グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン（PGTMS）236ｇ（１モル）及び水54
ｇ（３モル）を入れる。懸濁混合液を氷浴温度に
冷却し、過塩素酸0.5ｇを加える。この混合液を
ろ過し、GPTMS加水分解生成物を得る。テトラ
エトキシシラン208ｇ（１モル）、水27ｇ（1.5モ
ル）及び過塩素酸１ｇの混合物を４時間80℃に熱
する。こうしてTES部分加水分解生成物が得ら
れる。GPTMS加水分解生成物10重量部にTES部
分加水分解生成物７重量部を添加する。こうして
得られた加水分解生成物−部分加水分解生成物混
合物100重量部に実施例１の50−50光開始剤混合
物１重量部を加える。触媒の添加された混合物を
レキサン（登録商標）上に流し塗りし、紫外線に
暴露すると良好な付着性を示す硬質皮膜に硬化す
る。
口フラスコに、グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン（PGTMS）236ｇ（１モル）及び水54
ｇ（３モル）を入れる。懸濁混合液を氷浴温度に
冷却し、過塩素酸0.5ｇを加える。この混合液を
ろ過し、GPTMS加水分解生成物を得る。テトラ
エトキシシラン208ｇ（１モル）、水27ｇ（1.5モ
ル）及び過塩素酸１ｇの混合物を４時間80℃に熱
する。こうしてTES部分加水分解生成物が得ら
れる。GPTMS加水分解生成物10重量部にTES部
分加水分解生成物７重量部を添加する。こうして
得られた加水分解生成物−部分加水分解生成物混
合物100重量部に実施例１の50−50光開始剤混合
物１重量部を加える。触媒の添加された混合物を
レキサン（登録商標）上に流し塗りし、紫外線に
暴露すると良好な付着性を示す硬質皮膜に硬化す
る。
上述の記載に照らし、本発明をその他改変、変
更することも可能であるのは明らかである。顔
料、染料等の添加剤その他の改質剤を本発明の組
成物に添加することができる。しかしながら、上
記の各具体例において、添付の請求の範囲に明ら
かにされている如く本発明の意図する範囲内に十
分に含まれるような変更をなし得ることは理解さ
れよう。
更することも可能であるのは明らかである。顔
料、染料等の添加剤その他の改質剤を本発明の組
成物に添加することができる。しかしながら、上
記の各具体例において、添付の請求の範囲に明ら
かにされている如く本発明の意図する範囲内に十
分に含まれるような変更をなし得ることは理解さ
れよう。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12929780A | 1980-03-11 | 1980-03-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57500247A JPS57500247A (ja) | 1982-02-12 |
| JPS6365115B2 true JPS6365115B2 (ja) | 1988-12-14 |
Family
ID=22439333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56501131A Expired JPS6365115B2 (ja) | 1980-03-11 | 1981-03-02 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0047299A4 (ja) |
| JP (1) | JPS6365115B2 (ja) |
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