JPS6366832B2 - - Google Patents
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
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- C07C59/76—Unsaturated compounds containing keto groups
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の構造式:
〔式中Rは−CH2OHまたは−COOR′であり、
R′は水素または炭素原子1〜6個を有するアル
キルであり;R1は水素または炭素原子1〜6個
を有するアルキルであり;nは2〜4の整数であ
り;Yはシス−ビニレンまたはトランス−ビニレ
ン基であり;そして(±)は示されている化合
物、その鏡像体およびラセミ体混合物を表わす〕
で示される新規な4,5−不飽和16−ヒドロキシ
プロスタン酸誘導体に関する。
R′は水素または炭素原子1〜6個を有するアル
キルであり;R1は水素または炭素原子1〜6個
を有するアルキルであり;nは2〜4の整数であ
り;Yはシス−ビニレンまたはトランス−ビニレ
ン基であり;そして(±)は示されている化合
物、その鏡像体およびラセミ体混合物を表わす〕
で示される新規な4,5−不飽和16−ヒドロキシ
プロスタン酸誘導体に関する。
前記構造式に示された低級アルキル基の代表例
にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルおよびその分枝鎖基がある。
にはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルおよびその分枝鎖基がある。
本発明はまた個別の立体異性体を包含し、この
異性体の混合は前記式に波線で示されている。
異性体の混合は前記式に波線で示されている。
Yがシス−ビニレン基である本発明の化合物は
次の構造式で示すことができる: (式中R、R1およびnは前記定義のとおりであ
る)。この群の好ましい化合物はRが−
COOR′(但しR′は水素または炭素原子1〜6個を
有するアルキルである)である化合物である。こ
の群の特に好ましい化合物はnが3である化合物
である。
次の構造式で示すことができる: (式中R、R1およびnは前記定義のとおりであ
る)。この群の好ましい化合物はRが−
COOR′(但しR′は水素または炭素原子1〜6個を
有するアルキルである)である化合物である。こ
の群の特に好ましい化合物はnが3である化合物
である。
Yがトランス−ビニレン基である本発明の化合
物は次の構造式で示すことができる: (式中R、R1およびnは前記定義のとおりであ
る)。
物は次の構造式で示すことができる: (式中R、R1およびnは前記定義のとおりであ
る)。
本発明の新規化合物は有用な薬理性を示し、こ
れはヒスタミンおよびペンタガストリンのような
分泌促進剤により刺戟される胃液分泌を抑制する
能力で立証される。これらの化合物はさらにまた
関連物質が示す強力な望ましくない副作用を有し
ない驚くべき利点を有する。
れはヒスタミンおよびペンタガストリンのような
分泌促進剤により刺戟される胃液分泌を抑制する
能力で立証される。これらの化合物はさらにまた
関連物質が示す強力な望ましくない副作用を有し
ない驚くべき利点を有する。
胃液分泌抑制活性の検出に使用した特別の分析
方法を次に説明する。
方法を次に説明する。
体重13〜20Kgのおとなの雌のビーグル犬に神経
除去したハイデンハインのう基底部(fundic
Heidenhain pouches)を準備する。手術して少
なくとも4週間の回復期間の後に、動物を約20時
間、絶食させ、次にパブロフスタンドに置き、食
塩水を静脈に注入する。のう内の分泌物を15分毎
に採取し、その容量および0.1N水酸化ナトリウ
ムによるPH7.0までの滴定により総酸度を測定す
る。30分の第1次分泌の後に、犬にヒスタミン2
塩酸塩の食塩水溶液を1.0mg/時の投薬量で注入
する。拡散量は役13ml/時に保持する。ヒスタミ
ンの注入を始めて約1時間で胃液分泌の一定のプ
ラトー状態が得られる。この時間の終りに、エタ
ノール性−等張リン酸塩緩衝溶液中に溶解した被
験化合物を単次静脈注射により投与する。分泌抑
制作用の持続時間を測定し、そして生じる場合
に、副作用を記録する。分泌パラメーターの統計
学的に有意な抑制が化合物処置の後に生じた場合
に、この化合物を活性であると評価する。
除去したハイデンハインのう基底部(fundic
Heidenhain pouches)を準備する。手術して少
なくとも4週間の回復期間の後に、動物を約20時
間、絶食させ、次にパブロフスタンドに置き、食
塩水を静脈に注入する。のう内の分泌物を15分毎
に採取し、その容量および0.1N水酸化ナトリウ
ムによるPH7.0までの滴定により総酸度を測定す
る。30分の第1次分泌の後に、犬にヒスタミン2
塩酸塩の食塩水溶液を1.0mg/時の投薬量で注入
する。拡散量は役13ml/時に保持する。ヒスタミ
ンの注入を始めて約1時間で胃液分泌の一定のプ
ラトー状態が得られる。この時間の終りに、エタ
ノール性−等張リン酸塩緩衝溶液中に溶解した被
験化合物を単次静脈注射により投与する。分泌抑
制作用の持続時間を測定し、そして生じる場合
に、副作用を記録する。分泌パラメーターの統計
学的に有意な抑制が化合物処置の後に生じた場合
に、この化合物を活性であると評価する。
本発明の化合物の製造に適する原料化合物は次
式 〔式中YおよびR′は前記定義のとおりであり、
そしてR2はトリ(低級アルキル)シリル、テト
ラヒドロフラニルまたはテトラヒドロピラニルの
ような保護基である〕のシクロペント−1−エン
アルカン酸およびエステルである。これらの原料
化合物の製造を例1〜12で説明し、次の反応式で
概述する: シクロペンタン環の2位への酸素化トランス−
ビニル側鎖の導入は適当な有機金属試剤との反応
により行なう。酸素化トランス−ビニル側鎖基は
相当するアセチレンからPappo等により
Chemistry、Biochemistry、and
Pharmacological Actiuity of Prostanoids、17
−26(1979)に記載されている方法により製造す
る。例13は相当するアセチレンからのトランス−
ビニルスタナン原料化合物の製造を説明する。こ
の側鎖を導入した後に、酸素保護基は酢酸のよう
な弱酸溶液により都合良く除去できる。
式 〔式中YおよびR′は前記定義のとおりであり、
そしてR2はトリ(低級アルキル)シリル、テト
ラヒドロフラニルまたはテトラヒドロピラニルの
ような保護基である〕のシクロペント−1−エン
アルカン酸およびエステルである。これらの原料
化合物の製造を例1〜12で説明し、次の反応式で
概述する: シクロペンタン環の2位への酸素化トランス−
ビニル側鎖の導入は適当な有機金属試剤との反応
により行なう。酸素化トランス−ビニル側鎖基は
相当するアセチレンからPappo等により
Chemistry、Biochemistry、and
Pharmacological Actiuity of Prostanoids、17
−26(1979)に記載されている方法により製造す
る。例13は相当するアセチレンからのトランス−
ビニルスタナン原料化合物の製造を説明する。こ
の側鎖を導入した後に、酸素保護基は酢酸のよう
な弱酸溶液により都合良く除去できる。
Rがヒドロキシメチル基である化合物は例17お
よび18に例示されているように、相当するエステ
ルのエノールエーテルから製造する。原料化合物
の反応により生成された保護されたプロスタン酸
エステルをトリエチルオキソニウムテトラフルオ
ロボレートで処理し、相当するエノールエーテル
を生成する。このエノールエーテルをリチウムア
ルミニウム水素化物で還元し、次いで弱酸で酸性
化して、相当する9−オキソ−11,16−ジヒドロ
キシプロスト−4,13−ジエン−1−オールを生
成する。
よび18に例示されているように、相当するエステ
ルのエノールエーテルから製造する。原料化合物
の反応により生成された保護されたプロスタン酸
エステルをトリエチルオキソニウムテトラフルオ
ロボレートで処理し、相当するエノールエーテル
を生成する。このエノールエーテルをリチウムア
ルミニウム水素化物で還元し、次いで弱酸で酸性
化して、相当する9−オキソ−11,16−ジヒドロ
キシプロスト−4,13−ジエン−1−オールを生
成する。
ラセミ形側鎖の代りに分割された側鎖が存在す
ると、ジアステレオ異性体の混合物が形成される
(例20および21)。このジアステレオ異性体の混合
物は次いでクロマトグラフイにより個別の立体異
性体生成物を得ることができる(例22)。
ると、ジアステレオ異性体の混合物が形成される
(例20および21)。このジアステレオ異性体の混合
物は次いでクロマトグラフイにより個別の立体異
性体生成物を得ることができる(例22)。
本発明は次例からさらに十分に認識されるであ
ろう。これらの例は説明のために示すものであつ
て、本発明をその精神または範囲のどちらでも制
限することを意図するものではない。物質および
方法の両方における多くの変更は本明細書の記載
から当業者にとつて明白であろう。これらの例で
別記しないかぎり温度は摂氏度(℃)でそして物
質の量は重量部で示す。
ろう。これらの例は説明のために示すものであつ
て、本発明をその精神または範囲のどちらでも制
限することを意図するものではない。物質および
方法の両方における多くの変更は本明細書の記載
から当業者にとつて明白であろう。これらの例で
別記しないかぎり温度は摂氏度(℃)でそして物
質の量は重量部で示す。
なお、例1〜13および20は原料化合物の製造を
例示し、例14、17および21は中間体の製造を例示
し、そして例15、16、18、19、22および23は本願
化合物の製造を例示する。
例示し、例14、17および21は中間体の製造を例示
し、そして例15、16、18、19、22および23は本願
化合物の製造を例示する。
例 1
5−クロル−2−ペンタノンエチレンケタール
4.0部を、リチウムアルミニウム水素化物から蒸
留したテトラヒドロフラン30容量部中のジイソプ
ロピルエチルアミン2.0部および臭化リチウム9.0
部と混合する。混合物を窒素雰囲気下に48時間還
流し、冷却させ、次いでエーテルと水との混合物
に注ぎ入れて抽出する。エーテル層を水で2回、
次いで1N塩酸で、次にさらに水で2回、洗浄す
る。エーテル層を次に硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、減圧下に蒸発乾固し、式 を有する5−ブロモ−2−ペンタノンエチレンケ
タールを得る。
4.0部を、リチウムアルミニウム水素化物から蒸
留したテトラヒドロフラン30容量部中のジイソプ
ロピルエチルアミン2.0部および臭化リチウム9.0
部と混合する。混合物を窒素雰囲気下に48時間還
流し、冷却させ、次いでエーテルと水との混合物
に注ぎ入れて抽出する。エーテル層を水で2回、
次いで1N塩酸で、次にさらに水で2回、洗浄す
る。エーテル層を次に硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、減圧下に蒸発乾固し、式 を有する5−ブロモ−2−ペンタノンエチレンケ
タールを得る。
例 2
p−トルエンスルホン酸0.1部を4−ペンチン
−1−オール4.2部およびジヒドロピラン5.0部の
撹拌した混合物に加える。約30分後に、混合物を
トリエチルアミン0.5部で処理し、次いで減圧蒸
留し、式 を有する2−テトラヒドロピラニル−4−ペンチ
ニルエーテルを得る。
−1−オール4.2部およびジヒドロピラン5.0部の
撹拌した混合物に加える。約30分後に、混合物を
トリエチルアミン0.5部で処理し、次いで減圧蒸
留し、式 を有する2−テトラヒドロピラニル−4−ペンチ
ニルエーテルを得る。
例 3
リチウムアルミニウム水素化物から新たに蒸留
したテトラヒドロフラン125容量部中に例2の2
−テトラヒドロピラニル−4−ペンチニルエーテ
ル18.5部を含有する溶液を約−30℃に冷却し、次
いでn−ブチルリチウムの2.4モルヘキサン溶液
46容量部で処理する。溶液を室温まで放置する。
室温で約30分後に、例1の5−ブロモ−2−ペン
タノンエチレンケタール21部を、次いでヘキサメ
チルリン酸トリアミド30容量部を撹拌しながら加
える。1時間後に、反応混合物をエーテルと1N
塩酸との混合物中に注ぎ入れる。エーテル層を水
で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に溶媒
を減圧でストリツピング除去して式 を有する生成物を無色の粘性液体として得る。
したテトラヒドロフラン125容量部中に例2の2
−テトラヒドロピラニル−4−ペンチニルエーテ
ル18.5部を含有する溶液を約−30℃に冷却し、次
いでn−ブチルリチウムの2.4モルヘキサン溶液
46容量部で処理する。溶液を室温まで放置する。
室温で約30分後に、例1の5−ブロモ−2−ペン
タノンエチレンケタール21部を、次いでヘキサメ
チルリン酸トリアミド30容量部を撹拌しながら加
える。1時間後に、反応混合物をエーテルと1N
塩酸との混合物中に注ぎ入れる。エーテル層を水
で洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に溶媒
を減圧でストリツピング除去して式 を有する生成物を無色の粘性液体として得る。
例 4
例3のデシニルケタール30部を1N塩酸150容量
物、テトラヒドロフラン200容量部およびメタノ
ール50容量部の混合物に溶解する。溶液を48時間
室温に保持した後、5〜6時間還流する。溶液を
室温にまで冷却し、固形炭酸カリウムをPHが7に
達するまで加える。溶液を次にその容量の1/2ま
でストリツピング除去し、水で稀釈し次にエーテ
ルで2回抽出する。エーテル抽出液を集め、水で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に溶媒を
ストリツピング除去し、9−オキソデシ−4−イ
ン−1−オールを得る。生成物は精製せずに例5
で使用する。
物、テトラヒドロフラン200容量部およびメタノ
ール50容量部の混合物に溶解する。溶液を48時間
室温に保持した後、5〜6時間還流する。溶液を
室温にまで冷却し、固形炭酸カリウムをPHが7に
達するまで加える。溶液を次にその容量の1/2ま
でストリツピング除去し、水で稀釈し次にエーテ
ルで2回抽出する。エーテル抽出液を集め、水で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に溶媒を
ストリツピング除去し、9−オキソデシ−4−イ
ン−1−オールを得る。生成物は精製せずに例5
で使用する。
例 5
例4の9−オキソデシ−4−イン−1−オール
20部をアセトン200容量部に溶解し、0℃に冷却
させる。冷却した溶液を撹拌し、2.67モルジヨン
ズ試薬(硫酸および水中のクロム酸)90容量部を
滴下して処理する。固形クロミウム塩からアセト
ン溶液をデカンテーシヨンにより採取し、固形ク
ロミウム塩は新鮮なアセトンですすぐ。アセトン
溶液を集め、エーテルと水との混合物中に注ぎ入
れる。エーテル層を水から分離し、水で1回洗浄
し、次に5%炭酸カリウム溶液で3回抽出する。
アルカリ抽出液を集め、濃塩酸で酸性にし次いで
エーテルで2回、次に酢酸エチルで1回抽出す
る。抽出液を集め、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去して、純粋な
生成物、9−オキソデシ−4−イン酸を得る。
20部をアセトン200容量部に溶解し、0℃に冷却
させる。冷却した溶液を撹拌し、2.67モルジヨン
ズ試薬(硫酸および水中のクロム酸)90容量部を
滴下して処理する。固形クロミウム塩からアセト
ン溶液をデカンテーシヨンにより採取し、固形ク
ロミウム塩は新鮮なアセトンですすぐ。アセトン
溶液を集め、エーテルと水との混合物中に注ぎ入
れる。エーテル層を水から分離し、水で1回洗浄
し、次に5%炭酸カリウム溶液で3回抽出する。
アルカリ抽出液を集め、濃塩酸で酸性にし次いで
エーテルで2回、次に酢酸エチルで1回抽出す
る。抽出液を集め、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去して、純粋な
生成物、9−オキソデシ−4−イン酸を得る。
例 6
例5の9−オキソデシ−4−イン酸10部を触媒
として硫酸バリウム上の5%パラジウムを用い
て、約0.5%キノリン含有トルエン中で水素添加
する。このトルエン溶液を1N塩酸、次に水で洗
浄する。溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次
いで溶媒をストリツピング除去し、生成物シス−
9−オキソデシ−4−エン酸を黄色油として得
る。
として硫酸バリウム上の5%パラジウムを用い
て、約0.5%キノリン含有トルエン中で水素添加
する。このトルエン溶液を1N塩酸、次に水で洗
浄する。溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次
いで溶媒をストリツピング除去し、生成物シス−
9−オキソデシ−4−エン酸を黄色油として得
る。
例 7
カリウム金属3.2部をt−ブチルアルコール50
容量部に加え、アルゴン雰囲気下に還流する。カ
リウムを溶解させた後、t−ブチルアルコール25
容量部中のシス−9−オキソデシ−4−エン酸
2.52部およびヘキサンから再結晶したジメチルオ
キザレート4.85部の溶液を還流している溶液に1
時間にわたつて滴下して加える。反応混合物をさ
らに2時間還流し、室温に冷却させ、次にアルゴ
ン雰囲気下に過する。オレンジ色フイルターケ
ーキをクロロホルムと1N塩酸との混合物に加え
る。クロロホルム層を塩化ナトリウム飽和溶液で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去し、式 を有する生成物7−(2,3,5−トリオキソ−
4−メトオキザリルシクロペンタン)ヘプト−4
−シス−エン酸およびその各種の互変異性エノー
ル形生成物を得る。
容量部に加え、アルゴン雰囲気下に還流する。カ
リウムを溶解させた後、t−ブチルアルコール25
容量部中のシス−9−オキソデシ−4−エン酸
2.52部およびヘキサンから再結晶したジメチルオ
キザレート4.85部の溶液を還流している溶液に1
時間にわたつて滴下して加える。反応混合物をさ
らに2時間還流し、室温に冷却させ、次にアルゴ
ン雰囲気下に過する。オレンジ色フイルターケ
ーキをクロロホルムと1N塩酸との混合物に加え
る。クロロホルム層を塩化ナトリウム飽和溶液で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去し、式 を有する生成物7−(2,3,5−トリオキソ−
4−メトオキザリルシクロペンタン)ヘプト−4
−シス−エン酸およびその各種の互変異性エノー
ル形生成物を得る。
例 8
例7の7−(2,3,5−トリオキソ−4−メ
トオキザリル−シクロペンタン)ヘプト−4−シ
ス−エン酸4.0部を1N塩酸100容量部に加え、ア
ルゴン雰囲気下に3時間還流する。この溶液を室
温に冷却させ、過し、次に酢酸エチルで2回抽
出する。抽出液を集め、飽和食塩水で2回洗い、
乾燥させ、次いで溶媒をストリツピング除去し、
赤色油を得る。赤色油をシリカゲル上でクロマト
グラフイ処理し(溶出液として60%酢酸エチル、
39%ヘキサンおよび1%酢酸)、78〜80℃の融点
を有する黄色固体として、式 を有する7−(2,3,5−トリオキソシクロペ
ンタン)ヘプト−4−シス−エノン酸およびその
各種互変異性エノール形生成物を得る。
トオキザリル−シクロペンタン)ヘプト−4−シ
ス−エン酸4.0部を1N塩酸100容量部に加え、ア
ルゴン雰囲気下に3時間還流する。この溶液を室
温に冷却させ、過し、次に酢酸エチルで2回抽
出する。抽出液を集め、飽和食塩水で2回洗い、
乾燥させ、次いで溶媒をストリツピング除去し、
赤色油を得る。赤色油をシリカゲル上でクロマト
グラフイ処理し(溶出液として60%酢酸エチル、
39%ヘキサンおよび1%酢酸)、78〜80℃の融点
を有する黄色固体として、式 を有する7−(2,3,5−トリオキソシクロペ
ンタン)ヘプト−4−シス−エノン酸およびその
各種互変異性エノール形生成物を得る。
例 9
7−(2,3,5−トリオキソシクロペンタン)
ヘプト−4−シス−エン酸1.15部をエタノール35
容量部および水30容量部に溶解し、0℃に冷却さ
せる。ホウ素水素化ナトリウム0.55部を水5.0容
量部に溶解し、次にエタノール溶液に滴下して加
える。添加の完了後に、溶液を0℃で30分間撹拌
する。溶液を酢酸エチルおよび1N塩酸中に注ぎ
入れる。水性層を追加の酢酸エチルで3回抽出す
る。酢酸エチル抽出液を集め、飽和食塩水で1回
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去し、式 を有する(±)7−(2,5−ジオキソ−3−ヒ
ドロキシシクロペンタン)ヘプト−4−シス−エ
ン酸およびその各種互変異性エノール形生成物を
粘性黄色油として得る。
ヘプト−4−シス−エン酸1.15部をエタノール35
容量部および水30容量部に溶解し、0℃に冷却さ
せる。ホウ素水素化ナトリウム0.55部を水5.0容
量部に溶解し、次にエタノール溶液に滴下して加
える。添加の完了後に、溶液を0℃で30分間撹拌
する。溶液を酢酸エチルおよび1N塩酸中に注ぎ
入れる。水性層を追加の酢酸エチルで3回抽出す
る。酢酸エチル抽出液を集め、飽和食塩水で1回
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去し、式 を有する(±)7−(2,5−ジオキソ−3−ヒ
ドロキシシクロペンタン)ヘプト−4−シス−エ
ン酸およびその各種互変異性エノール形生成物を
粘性黄色油として得る。
例 10
乾燥メタノール30容量部中の(±)7−(2,
5−ジオキソ−3−ヒドロキシシクロペンタン)
ヘプト−4−シス−エン酸2.0部の溶液に、2,
2−ジメトキシプロパン10容量部および1%メタ
ノール性塩酸4容量部を加える。混合物を室温で
48時間放置し、次いで減圧下に室温でストリツピ
ングし乾固する。エーテル約4容量部を加え、混
合物を室温でさらに48時間放置する。固化した混
合物を1%トリエチルアミン含有トルエンに取り
入れ、溶液を稀炭酸カリウムおよび水で連続的に
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去する。残留物をエーテルか
ら再結晶させ、式 を有する生成物、(±)メチル7−(4−ヒドロキ
シ−2−メトキシ−5−オキソシクロペント−1
−エン)ヘプト−4−シス−エノエートを融点82
〜84℃の白色固体として得る。
5−ジオキソ−3−ヒドロキシシクロペンタン)
ヘプト−4−シス−エン酸2.0部の溶液に、2,
2−ジメトキシプロパン10容量部および1%メタ
ノール性塩酸4容量部を加える。混合物を室温で
48時間放置し、次いで減圧下に室温でストリツピ
ングし乾固する。エーテル約4容量部を加え、混
合物を室温でさらに48時間放置する。固化した混
合物を1%トリエチルアミン含有トルエンに取り
入れ、溶液を稀炭酸カリウムおよび水で連続的に
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去する。残留物をエーテルか
ら再結晶させ、式 を有する生成物、(±)メチル7−(4−ヒドロキ
シ−2−メトキシ−5−オキソシクロペント−1
−エン)ヘプト−4−シス−エノエートを融点82
〜84℃の白色固体として得る。
例 11
乾燥トルエン100容量部を三ツ頚フラスコに入
れ、イソプロピルアルコール−ドライアイス浴中
で−70℃に冷却させる。別々の滴下ロートにトル
エン100容量部で稀釈した1.83モルナトリウムジ
ヒドロビス−(2−メトキシエトキシ)アルミネ
ート15.5容量部およびトルエン200容量部中の
(±)メチル7−(4−ヒドロキシ−2−メトキシ
−5−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−
4−シス−エノエート6.92部の溶液を入れる。こ
の2種の溶液をフラスコに滴下して同時に加え
る。フラスコの温度は添加中に−60℃を越えさせ
るべきではない。混合物を−70℃で3.5時間、次
に0℃で15分間撹拌し、トルエン10容量部中のメ
タノール5.0容量部の溶液で冷却し、次に1N塩酸
150容量部で酸性にする。有機相を分離し、水で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去する。残留物をシリカゲル
上でクロマトグラフイ処理する(溶離液70%酢酸
エチル、30%ヘキサン)。式 を有する(±)メチル7−(3−ヒドロキシ−5
−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−
シス−エノエートを粘性油として得る。
れ、イソプロピルアルコール−ドライアイス浴中
で−70℃に冷却させる。別々の滴下ロートにトル
エン100容量部で稀釈した1.83モルナトリウムジ
ヒドロビス−(2−メトキシエトキシ)アルミネ
ート15.5容量部およびトルエン200容量部中の
(±)メチル7−(4−ヒドロキシ−2−メトキシ
−5−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−
4−シス−エノエート6.92部の溶液を入れる。こ
の2種の溶液をフラスコに滴下して同時に加え
る。フラスコの温度は添加中に−60℃を越えさせ
るべきではない。混合物を−70℃で3.5時間、次
に0℃で15分間撹拌し、トルエン10容量部中のメ
タノール5.0容量部の溶液で冷却し、次に1N塩酸
150容量部で酸性にする。有機相を分離し、水で
洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒
をストリツピング除去する。残留物をシリカゲル
上でクロマトグラフイ処理する(溶離液70%酢酸
エチル、30%ヘキサン)。式 を有する(±)メチル7−(3−ヒドロキシ−5
−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−
シス−エノエートを粘性油として得る。
例 12
(±)メチル7−(3−ヒドロキシ−5−オキ
ソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−シス−
エノエート2.6部をジメチルホルムアミド20容量
部に溶解し、イミダゾール1.0部、次いでトリエ
チルシリルクロリド1.9部で連続的に処理する。
溶液を室温で1時間撹拌し、エーテルで稀釈し、
水で3〜4回洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。式 を有する(±)メチル7−(3−トリエチルシリ
ルオキシ−5−オキソシクロペント−1−エン)
ヘプト−4−シス−エノエートを得る。この生成
物を例14で直接使用する。
ソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−シス−
エノエート2.6部をジメチルホルムアミド20容量
部に溶解し、イミダゾール1.0部、次いでトリエ
チルシリルクロリド1.9部で連続的に処理する。
溶液を室温で1時間撹拌し、エーテルで稀釈し、
水で3〜4回洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。式 を有する(±)メチル7−(3−トリエチルシリ
ルオキシ−5−オキソシクロペント−1−エン)
ヘプト−4−シス−エノエートを得る。この生成
物を例14で直接使用する。
例 13
4(RS)−トリメチルシロキシ−4−メチル−
1−オクチン2.12部およびトリ−n−ブチル錫水
素化物3.0部を混合し、アルゴン雰囲気下に0℃
で2時間、次に55℃で2時間、大陽灯で照射す
る。生成する生成物を例14で直接使用する。
1−オクチン2.12部およびトリ−n−ブチル錫水
素化物3.0部を混合し、アルゴン雰囲気下に0℃
で2時間、次に55℃で2時間、大陽灯で照射す
る。生成する生成物を例14で直接使用する。
例 14
例13のトランス−ビニルスタナン生成物1.0部
を乾燥テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し−
60℃に冷却させ、次にヘキサン中のn−ブチルリ
チウムの2.3モル溶液0.87容量部で処理する。溶
液を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペンチ
ニリド0.26部およびヘキサメチルリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。溶液
を次に−60℃でさらに10分間撹拌し、例12の
(±)メチル7−(3−トリエチルシリルオキシ−
5−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4
−シス−エノエート0.35部含有エーテル溶液を加
える。溶液を1時間撹拌し、エーテルと1N塩酸
との混合物中に注入する。エーテル層を分離採取
し、水で2回洗い、過し、硫酸ナトリウム上で
乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去する。
残留物をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理す
る(溶離液10%酢酸エチル、90%ヘキサン)。式 を有する生成物、ラセミ体メチル7−〔3α−トリ
エチルシリルオキシ−2β−(4(RS)−4−トリメ
チルシリルオキシ−4−メチル−1−トランス−
オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕−1α
−ヘプト−4−シス−エノエートを得る。
を乾燥テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し−
60℃に冷却させ、次にヘキサン中のn−ブチルリ
チウムの2.3モル溶液0.87容量部で処理する。溶
液を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペンチ
ニリド0.26部およびヘキサメチルリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。溶液
を次に−60℃でさらに10分間撹拌し、例12の
(±)メチル7−(3−トリエチルシリルオキシ−
5−オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4
−シス−エノエート0.35部含有エーテル溶液を加
える。溶液を1時間撹拌し、エーテルと1N塩酸
との混合物中に注入する。エーテル層を分離採取
し、水で2回洗い、過し、硫酸ナトリウム上で
乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去する。
残留物をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理す
る(溶離液10%酢酸エチル、90%ヘキサン)。式 を有する生成物、ラセミ体メチル7−〔3α−トリ
エチルシリルオキシ−2β−(4(RS)−4−トリメ
チルシリルオキシ−4−メチル−1−トランス−
オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕−1α
−ヘプト−4−シス−エノエートを得る。
例 15
メチル7−〔3α−トリエチルシリルオキシ−2β
−(4(RS)−4−トリメチルシリルオキシ−4−
メチル−1−トランス−オクテニル)−5−オキ
ソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エ
ノエート0.30部を酢酸:テトラヒドロフラン:水
の3:1:1混合物5.0容量部に溶解し、室温で
約30分間放置する。溶液をエーテルで稀釈し、水
で5回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次
いで溶媒をストリツピング除去する。残留物をシ
リカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶離液
100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体メチル7−〔3α−ヒドロ
キシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチ
ル−1−トランス−オクテニル)−5−オキソシ
クロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエ
ートを粘性の無色油として得る。
−(4(RS)−4−トリメチルシリルオキシ−4−
メチル−1−トランス−オクテニル)−5−オキ
ソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エ
ノエート0.30部を酢酸:テトラヒドロフラン:水
の3:1:1混合物5.0容量部に溶解し、室温で
約30分間放置する。溶液をエーテルで稀釈し、水
で5回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次
いで溶媒をストリツピング除去する。残留物をシ
リカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶離液
100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体メチル7−〔3α−ヒドロ
キシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチ
ル−1−トランス−オクテニル)−5−オキソシ
クロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエ
ートを粘性の無色油として得る。
例 16
ラセミ体メチル7−〔3α−ヒドロキシ−2β−
(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−ト
ランス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエート1.0部を
95%エタノール50容量部に溶解し7.8PHトリス
(2−アミノ−ヒドロキシメチル−1,3−プロ
パンジオール)緩衝液300容量部に加える。この
混合物を豚肝臓エステラーゼ(Sigma Chemical
Co.No.E−3128)0.15部で処理し、室温で3〜4
時間撹拌する。混合物をエーテルで稀釈し、1N
塩酸で、次に水で洗い硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。残留物
をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶
離液100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ−
2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロペ
ンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エン酸を得
る。
(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−ト
ランス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエート1.0部を
95%エタノール50容量部に溶解し7.8PHトリス
(2−アミノ−ヒドロキシメチル−1,3−プロ
パンジオール)緩衝液300容量部に加える。この
混合物を豚肝臓エステラーゼ(Sigma Chemical
Co.No.E−3128)0.15部で処理し、室温で3〜4
時間撹拌する。混合物をエーテルで稀釈し、1N
塩酸で、次に水で洗い硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。残留物
をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶
離液100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ−
2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1
−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロペ
ンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エン酸を得
る。
例 17
例13のトランス−ビニルスタナン1.0部を乾燥
テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し、−60℃に
冷却させ、次にヘキサン中のn−ブチルリチウム
の2.3モル溶液0.87容量部で処理する。反応混合
物を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペンチ
ニリド0.26部およびヘキサメチルリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。この
溶液を次に−60℃でさらに10分間撹拌し、次に例
12の(±)メチル7−(3−トリエチルオキシ−
5−オキソシクロペンタン)ヘプト−4−シス−
エノエート0.35部を含有するエーテル溶液を加え
る。溶液を1時間撹拌し、次にトリエチルオキソ
ニウムテトラフルオロボレート(塩化メチレン中
1モル)3.0容量部で処理する。混合物を−50℃
で30分撹拌し、次に0℃にまでゆつくり上がるま
まに放置する。混合物をエーテルおよび重炭酸カ
リウム溶液中に注ぎ入れる。層を分離させ、エー
テル層を追加の稀重炭酸カリウム溶液で洗い、硫
酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒をストリ
ツピング除去する。残留物をシリカゲル上でクロ
マトグラフイ処理する〔溶離液10%酢酸エチル、
90%ヘキサン(0.2%トリエチルアミン含有)〕。
式 を有するラセミ体メチル7−〔3−トリエチルシ
リルオキシ−2β−(4(RS)−4−トリメチルシリ
ルオキシ−4−メチル−1−トランス−オクテニ
ル)−5−エチルオキシシクロペント−1(5)−エ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエートを得
る。
テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し、−60℃に
冷却させ、次にヘキサン中のn−ブチルリチウム
の2.3モル溶液0.87容量部で処理する。反応混合
物を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペンチ
ニリド0.26部およびヘキサメチルリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。この
溶液を次に−60℃でさらに10分間撹拌し、次に例
12の(±)メチル7−(3−トリエチルオキシ−
5−オキソシクロペンタン)ヘプト−4−シス−
エノエート0.35部を含有するエーテル溶液を加え
る。溶液を1時間撹拌し、次にトリエチルオキソ
ニウムテトラフルオロボレート(塩化メチレン中
1モル)3.0容量部で処理する。混合物を−50℃
で30分撹拌し、次に0℃にまでゆつくり上がるま
まに放置する。混合物をエーテルおよび重炭酸カ
リウム溶液中に注ぎ入れる。層を分離させ、エー
テル層を追加の稀重炭酸カリウム溶液で洗い、硫
酸ナトリウム上で乾燥させ、次いで溶媒をストリ
ツピング除去する。残留物をシリカゲル上でクロ
マトグラフイ処理する〔溶離液10%酢酸エチル、
90%ヘキサン(0.2%トリエチルアミン含有)〕。
式 を有するラセミ体メチル7−〔3−トリエチルシ
リルオキシ−2β−(4(RS)−4−トリメチルシリ
ルオキシ−4−メチル−1−トランス−オクテニ
ル)−5−エチルオキシシクロペント−1(5)−エ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエートを得
る。
例 18
ラセミ体メチル7−〔3−トリメチルシリルオ
キシ−2β−(4(RS)−4−トリメチルシリルオキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−エチルオキシシクロペント−1(5)−エン〕−
1α−ヘプト−4−シス−エノエート2.0部を乾燥
テトラヒドロフラン100容量部に溶解し、0℃に
冷却させ、次にリチウムアルミニウム水素化物
0.3部で処理する。0℃で15分後に、反応混合物
をエーテルおよび水中に注ぎ入れる。エーテル層
を分離採取し、水で再び洗い、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去す
る。残留物を酢酸、水およびテトラヒドロフラン
の3:1:1混合物50容量部中に取り、室温で30
分間放置する。溶液をエーテルで稀釈し、水で4
〜5回洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に
溶媒をストリツピング除去する。残留物をシリカ
ゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶離液100
%酢酸エチル)。式 を有する生成物、ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクチル)−5−オキソシクロペ
ンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エン−1−オ
ールを無色の粘性油として得る。
キシ−2β−(4(RS)−4−トリメチルシリルオキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−エチルオキシシクロペント−1(5)−エン〕−
1α−ヘプト−4−シス−エノエート2.0部を乾燥
テトラヒドロフラン100容量部に溶解し、0℃に
冷却させ、次にリチウムアルミニウム水素化物
0.3部で処理する。0℃で15分後に、反応混合物
をエーテルおよび水中に注ぎ入れる。エーテル層
を分離採取し、水で再び洗い、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去す
る。残留物を酢酸、水およびテトラヒドロフラン
の3:1:1混合物50容量部中に取り、室温で30
分間放置する。溶液をエーテルで稀釈し、水で4
〜5回洗い、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、次に
溶媒をストリツピング除去する。残留物をシリカ
ゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶離液100
%酢酸エチル)。式 を有する生成物、ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクチル)−5−オキソシクロペ
ンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エン−1−オ
ールを無色の粘性油として得る。
例 19
本発明の△4,5トランス−プロスタン酸誘導体を
次の方法により製造する: ドライアイスコンデンサーを具備し、ドライア
イス−イソプロパノール浴に浸した三ツ頚フラス
コで、リチウム金属0.10部を無水アンモニア15容
量部に加える。例3の生成物1.5部およびt−ブ
タノール0.5容量部を混合し、アンモニア溶液に
滴下して加える。添加の完了後に、反応混合物を
2時間撹拌する。フラスコをドライアイス浴から
取出し、反応混合物を固形塩化アンモニウムで冷
却させる。エーテルを次に滴下して加え、アンモ
ニアを蒸発させる。溶液をエーテルおよび稀塩酸
中に注ぎ入れる。エーテル層を分離採取し稀塩酸
で2回、次に水で、洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去する
と、式 を有する生成物が得られる。
次の方法により製造する: ドライアイスコンデンサーを具備し、ドライア
イス−イソプロパノール浴に浸した三ツ頚フラス
コで、リチウム金属0.10部を無水アンモニア15容
量部に加える。例3の生成物1.5部およびt−ブ
タノール0.5容量部を混合し、アンモニア溶液に
滴下して加える。添加の完了後に、反応混合物を
2時間撹拌する。フラスコをドライアイス浴から
取出し、反応混合物を固形塩化アンモニウムで冷
却させる。エーテルを次に滴下して加え、アンモ
ニアを蒸発させる。溶液をエーテルおよび稀塩酸
中に注ぎ入れる。エーテル層を分離採取し稀塩酸
で2回、次に水で、洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥させ、次に溶媒をストリツピング除去する
と、式 を有する生成物が得られる。
例4のアセチレン化合物の代りに上記トランス
化合物を使用し、例5、7、8、9、10、11、
12、14および15を通して行なうと、式 を有する生成物、ラセミ体メチル7−〔3α−ヒド
ロキシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メ
チル−1−トランス−オクテニル)−5−オキソ
シクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−
エノエートが得られる。
化合物を使用し、例5、7、8、9、10、11、
12、14および15を通して行なうと、式 を有する生成物、ラセミ体メチル7−〔3α−ヒド
ロキシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メ
チル−1−トランス−オクテニル)−5−オキソ
シクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−
エノエートが得られる。
例16で上記エステルを代りに使用すると、式
を有する生成物、ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロ
ペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−エン酸
が得られる。
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロ
ペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−エン酸
が得られる。
例4のアセチレン化合物の代りに上記トランス
原料化合物を使用し、例5、7、8、9、10、
11、12、17および18を通して行なうと、式 を有する生成物、ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロ
ペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−エン−
1−オールが得られる。
原料化合物を使用し、例5、7、8、9、10、
11、12、17および18を通して行なうと、式 を有する生成物、ラセミ体7−〔3α−ヒドロキシ
−2β−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−
1−トランス−オクテニル)−5−オキソシクロ
ペンタン〕−1α−ヘプト−4−トランス−エン−
1−オールが得られる。
例 20
R.Rappo等によりChemistry、Biochemistry
and Phanmacological Activity of
Prostanoids1979の「Recent Developments in
the Synthesis of Antisecretory
Prostaglandins」に記載された方法により製造し
た(4S)−4−トリメチルシリルオキシ−4−メ
チル−1−オクチン2.12部およびトリ−n−ブチ
ル錫水素化物3.0部を混合し、アルゴン雰囲気下
に0℃で2時間、次に55℃で2時間太陽灯照射す
る。生成する生成物を例21で直接使用する。
and Phanmacological Activity of
Prostanoids1979の「Recent Developments in
the Synthesis of Antisecretory
Prostaglandins」に記載された方法により製造し
た(4S)−4−トリメチルシリルオキシ−4−メ
チル−1−オクチン2.12部およびトリ−n−ブチ
ル錫水素化物3.0部を混合し、アルゴン雰囲気下
に0℃で2時間、次に55℃で2時間太陽灯照射す
る。生成する生成物を例21で直接使用する。
例 21
例20のトランス−ビニルスタナン生成物1.0部
を乾燥テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し−
60℃に冷却し、次いでヘキサン中のn−ブチルリ
チウム2.3モル溶液0.87容量部で処理する。この
溶液を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペン
チニリド0.26部およびヘキサメチリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。溶液
を次いで−60℃でさらに10分間撹拌し、例12のラ
セミ体メチル7−(3−トリエチルオキシ−5−
オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−シ
ス−エノエート0.35部含有エーテル溶液を加え
る。溶液を撹拌し、エーテルと1N塩酸との混合
物中に注ぎ入れる。エーテル層を分離採取し、水
で2回洗い、過し、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。残留物
をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶
離液10%酢酸エチル、90%ヘキサン)。式 を有するメチル7−〔3(S)−トリエチルシリル
オキシ−2β−(4(S)−トリメチルシリルオキシ
−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−5
−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シ
ス−エノエートおよび式 を有するメチル7−〔3(R)−トリエチルシリル
オキシ−2β−(4(S)−トリルメチルシリルオキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−
シス−エノエートのジアスレオ異性体の混合物を
得る。
を乾燥テトラヒドロフラン3.0容量部に溶解し−
60℃に冷却し、次いでヘキサン中のn−ブチルリ
チウム2.3モル溶液0.87容量部で処理する。この
溶液を−60℃で1時間撹拌し、次いで銅1−ペン
チニリド0.26部およびヘキサメチリントリアミド
0.64部を含有するエーテル溶液で処理する。溶液
を次いで−60℃でさらに10分間撹拌し、例12のラ
セミ体メチル7−(3−トリエチルオキシ−5−
オキソシクロペント−1−エン)ヘプト−4−シ
ス−エノエート0.35部含有エーテル溶液を加え
る。溶液を撹拌し、エーテルと1N塩酸との混合
物中に注ぎ入れる。エーテル層を分離採取し、水
で2回洗い、過し、硫酸ナトリウム上で乾燥さ
せ、次に溶媒をストリツピング除去する。残留物
をシリカゲル上でクロマトグラフイ処理する(溶
離液10%酢酸エチル、90%ヘキサン)。式 を有するメチル7−〔3(S)−トリエチルシリル
オキシ−2β−(4(S)−トリメチルシリルオキシ
−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−5
−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シ
ス−エノエートおよび式 を有するメチル7−〔3(R)−トリエチルシリル
オキシ−2β−(4(S)−トリルメチルシリルオキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−
シス−エノエートのジアスレオ異性体の混合物を
得る。
例 22
例21のジアステレオ異性体0.30部を酢酸:テト
ラヒドロフラン:水の3:1:1混合物5.0容量
部に溶解し、室温で約30分放置する。溶液をエー
テルで稀釈し、水で5回洗い、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、次いで溶媒をストリツピング除去す
る。残留物をヒドロキシアパタイト上でクロマト
グラフイ処理する(溶離液6%n−ブタノール、
94%シクロヘキサン)。メチル7−〔3(S)−ヒド
ロキシ−2β−(4(S)−ヒドロキシ−4−メチル
−1−トランス−オクテニル)−5−オキソシク
ロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエー
ト、続いてメチル7−〔3(R)−ヒドロキシ−2β
−(4(S)−ヒドロキシ−4−メチル−1−トラ
ンス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕
−1α−ヘプト−4−シス−エノエートを得る。
ラヒドロフラン:水の3:1:1混合物5.0容量
部に溶解し、室温で約30分放置する。溶液をエー
テルで稀釈し、水で5回洗い、硫酸ナトリウム上
で乾燥させ、次いで溶媒をストリツピング除去す
る。残留物をヒドロキシアパタイト上でクロマト
グラフイ処理する(溶離液6%n−ブタノール、
94%シクロヘキサン)。メチル7−〔3(S)−ヒド
ロキシ−2β−(4(S)−ヒドロキシ−4−メチル
−1−トランス−オクテニル)−5−オキソシク
ロペンタン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエー
ト、続いてメチル7−〔3(R)−ヒドロキシ−2β
−(4(S)−ヒドロキシ−4−メチル−1−トラ
ンス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕
−1α−ヘプト−4−シス−エノエートを得る。
例 23
例16のラセミ体7−〔3(α)−ヒドロキシ−2β
−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−
トランスオクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノン酸0.365部を
ジメチルスルホキシド5.0容量部に溶解し、次い
でヨウ化イソプロピル1.0部およびN,N−ジイ
ソプロピルエチルアミン0.35部で処理する。この
溶液を一夜撹拌する。溶液をエーテルで稀釈し、
冷い稀塩酸で、次に水で2〜3回洗浄し、乾燥さ
せ、次にシリカゲル上でクロマトグラフイ処理す
る(溶離液100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体イソプロピル7−〔3
(α)−ヒドロキシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−
シス−エノエートを得る。
−(4(RS)−4−ヒドロキシ−4−メチル−1−
トランスオクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノン酸0.365部を
ジメチルスルホキシド5.0容量部に溶解し、次い
でヨウ化イソプロピル1.0部およびN,N−ジイ
ソプロピルエチルアミン0.35部で処理する。この
溶液を一夜撹拌する。溶液をエーテルで稀釈し、
冷い稀塩酸で、次に水で2〜3回洗浄し、乾燥さ
せ、次にシリカゲル上でクロマトグラフイ処理す
る(溶離液100%酢酸エチル)。式 を有する生成物ラセミ体イソプロピル7−〔3
(α)−ヒドロキシ−2β−(4(RS)−4−ヒドロキ
シ−4−メチル−1−トランス−オクテニル)−
5−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト−4−
シス−エノエートを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中Rは−CH2OHまたは【式】であり、 R′は水素または炭素原子1〜6個を有するアル
キルであり;R1は水素または炭素原子1〜6個
を有するアルキルであり;nは2〜4の整数であ
り;Yはシス−ビニレンまたはトランス−ビニレ
ン基であり;そして(±)は示された化合物、そ
の鏡像体およびラセミ体混合物を表わす〕で示さ
れる化合物。 2 式 〔式中R′は水素または炭素原子1〜6個を有す
るアルキルであり;R1は水素または炭素原子1
〜6個を有するアルキルであり;nは2〜4の整
数であり;そしてYはシス−ビニレンまたはトラ
ンス−ビニレン基である〕で示される、特許請求
の範囲第1項に記載の化合物。 3 ラセミ体形の7−〔3α−ヒドロキシ−2β−
(4(RS)−ヒドロキシ−1−トランス−オクテニ
ル)−5−オキソシクロペンタン〕−1α−ヘプト
−4−シス−エン酸である、特許請求の範囲第2
項に記載の化合物。 4 式 (式中nは2〜4の整数であり、そしてYはシス
−ビニレンまたはトランス−ビニレン基である)
で示される特許請求の範囲第2項に記載の化合
物。 5 ラセミ体形のメチル7−〔3α−ヒドロキシ−
2β−(4(RS)−ヒドロキシ−4−メチル−1−ト
ランス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−シス−エノエートであ
る、特許請求の範囲第2項に記載の化合物。 6 ラセミ体形のメチル7−〔3α−ヒドロキシ−
2β−(4(RS)−ヒドロキシ−4−メチル−1−ト
ランス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタ
ン〕−1α−ヘプト−4−トランス−エノエートで
ある、特許請求の範囲第2項に記載の化合物。 7 式 (式中R1は水素または炭素原子1〜6個を有す
るアルキルであり;nは2〜4の整数であり;そ
してYはシス−ビニレンまたはトランス−ビニレ
ン基である)で示される、特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。 8 ラセミ体形の7−〔3α−ヒドロキシ−2β−
(4(RS)−ヒドロキシ−4−メチル−1−オクテ
ニル)−5−オキソシクロペンタン〕−7α−ヘプ
ト−4−シス−エン−1−オールである特許請求
の範囲第7項に記載の化合物。 9 メチル7−〔3(S)−ヒドロキシ−2β−(4
(S)−ヒドロキシ−4−メチル−1−トランス−
オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕−1α
−ヘプト−4−シス−エノエートである、特許請
求の範囲第1項に記載の化合物。 10 メチル7−〔3(R)−ヒドロキシ−2β−
(4(S)−ヒドロキシ−4−メチル−1−トラン
ス−オクテニル)−5−オキソシクロペンタン〕−
1α−ヘプト−4−シス−エノエートである特許
請求の範囲第1項に記載の化合物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/098,290 US4271314A (en) | 1979-11-28 | 1979-11-28 | 4,5-Unsaturated prostanoic acid derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5699457A JPS5699457A (en) | 1981-08-10 |
| JPS6366832B2 true JPS6366832B2 (ja) | 1988-12-22 |
Family
ID=22268646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16791280A Granted JPS5699457A (en) | 1979-11-28 | 1980-11-28 | Prostanoic acid derivative |
Country Status (23)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4271314A (ja) |
| JP (1) | JPS5699457A (ja) |
| AT (1) | AT379144B (ja) |
| AU (1) | AU539192B2 (ja) |
| BE (1) | BE886370A (ja) |
| CA (1) | CA1192903A (ja) |
| CH (1) | CH646147A5 (ja) |
| DE (1) | DE3044794A1 (ja) |
| DK (2) | DK504680A (ja) |
| ES (2) | ES497260A0 (ja) |
| FI (1) | FI71552C (ja) |
| FR (1) | FR2473516A1 (ja) |
| GB (1) | GB2065117B (ja) |
| GR (1) | GR72283B (ja) |
| IE (1) | IE50574B1 (ja) |
| IL (1) | IL61575A (ja) |
| IT (1) | IT1207155B (ja) |
| NL (1) | NL191386C (ja) |
| NO (1) | NO155289C (ja) |
| NZ (1) | NZ195666A (ja) |
| PT (1) | PT72129B (ja) |
| SE (1) | SE436873B (ja) |
| ZA (1) | ZA807415B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4529811A (en) * | 1981-03-02 | 1985-07-16 | G. D. Searle & Co. | Process for isolating organic compounds and lithium salt complexes useful in said process |
| US4312994A (en) * | 1981-03-25 | 1982-01-26 | G. D. Searle & Co. | α Chain dienic prostanoic acid derivatives |
| US4499296A (en) * | 1983-11-14 | 1985-02-12 | G. D. Searle & Co. | Omega cycloalkyl prostaglandins |
| US4754059A (en) * | 1984-11-07 | 1988-06-28 | G. D. Searle & Co. | Omega cycloalkyl prostaglandins |
| GB8410396D0 (en) * | 1984-04-24 | 1984-05-31 | Glaxo Group Ltd | Carbocyclic compounds |
| US5011958A (en) * | 1987-06-08 | 1991-04-30 | G. D. Searle & Co. | Process for preparing higher order cuprate complexes |
| US4785124A (en) * | 1987-06-08 | 1988-11-15 | G. D. Searle & Co. | Process for preparing higher order cuprate complexes |
| US4777275A (en) * | 1987-06-09 | 1988-10-11 | G. D. Searle & Co. | Process of preparing higher order cuprate complexes |
| US5191109A (en) * | 1990-02-02 | 1993-03-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for preparing optically active cyclopentenones |
| US6103765A (en) | 1997-07-09 | 2000-08-15 | Androsolutions, Inc. | Methods for treating male erectile dysfunction |
| CA2295595A1 (en) | 1997-07-09 | 1999-01-21 | Androsolutions, Inc. | Improved methods and compositions for treating male erectile dysfunction |
| AU2227401A (en) * | 2000-01-05 | 2001-07-16 | Ono Pharmaceutical Co. Ltd. | 5-thia-omega-(substituted phenyl)-prostaglandin e alcohols, process for preparing the alcohols and pharmaceutical preparations containing the same as the activeingredient |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3965143A (en) * | 1974-03-26 | 1976-06-22 | G. D. Searle & Co. | 16-Oxygenated prostanoic acid derivatives |
| US4028419A (en) * | 1976-01-08 | 1977-06-07 | The Upjoin Company | 2-Decarboxy-2-hydroxymethyl-cis-4,5-didehydro-PGE, compounds |
| GB1595118A (en) * | 1977-05-31 | 1981-08-05 | Sumitomo Chemical Co | Prostadienoic acids processes for producing them and compositions containing them |
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1979
- 1979-11-28 US US06/098,290 patent/US4271314A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-11-27 BE BE0/202950A patent/BE886370A/fr not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 NL NL8006473A patent/NL191386C/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 IE IE2471/80A patent/IE50574B1/en not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 SE SE8008300A patent/SE436873B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 AT AT0579280A patent/AT379144B/de not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 FI FI803685A patent/FI71552C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-11-27 ZA ZA00807415A patent/ZA807415B/xx unknown
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-
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-
1987
- 1987-11-23 DK DK613487A patent/DK162281C/da active
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