JPS6369534U - - Google Patents

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JPS6369534U
JPS6369534U JP14974787U JP14974787U JPS6369534U JP S6369534 U JPS6369534 U JP S6369534U JP 14974787 U JP14974787 U JP 14974787U JP 14974787 U JP14974787 U JP 14974787U JP S6369534 U JPS6369534 U JP S6369534U
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JP
Japan
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base board
coils
center
magnetic field
coil
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JP14974787U
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  • Mixers With Rotating Receptacles And Mixers With Vibration Mechanisms (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の撹拌装置の回転磁界発生部の
一例を示す平面図、第２図はＡ―Ａ線断面図、第
３図はコイルに電流が流れる状態を示す説明図、
第４図は本考案の撹拌装置の電子回路の一例を示
す説明図、第５図は回転磁界発生部に試料容器を
載置して撹拌している状態を示す説明図である。 １……円盤状のベース、Ｌ１〜Ｌ６……コイル
、２……鉄心、３……外部調整用つまみ、４……
クロツクパルス発生回路、５……リングカウンタ
、６……切換回路、７……ＳＣＲ、８……フオト
カプラ、９……回転磁界発生部、１０……試料容
器、１１……被撹拌溶液、１２……回転子、１３
……配線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ベース盤と、このベース盤の同一円周上に埋め
    込まれた複数個のコイルと、各コイルの中心に固
    定された強磁性体からなる心材と、これらのコイ
    ルに接続されたフオトカプラまたはフオトサイリ
    スタを有する切換装置と、この切換装置に接続さ
    れコイルの数に応じた出力端子を有するリングカ
    ウンタと、このリングカウンタに接続されたクロ
    ツクパルス発生回路と、このクロツクパルス発生
    回路に接続された外部調整用つまみとからなり、
    各コイルに順次極性の異なる電流を流してベース
    盤の中心を対称点にして対応するコイルに極性の
    異なる電流が流れるようにして、ベース盤の中心
    を対称点にして逆向きの磁界が生ずるようにし、
    この磁界を順次切り換えて回転磁界を形成させて
    、ベース盤上に被撹拌溶液および永久磁石からな
    る回転子を収容した試料容器を載置して回転子を
    回転させるようにしてなることを特徴とする撹拌
    装置。
JP14974787U 1987-09-30 1987-09-30 Expired JPH039791Y2 (ja)

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JP14974787U JPH039791Y2 (ja) 1987-09-30 1987-09-30

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JP14974787U JPH039791Y2 (ja) 1987-09-30 1987-09-30

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Publication Number Publication Date
JPS6369534U true JPS6369534U (ja) 1988-05-10
JPH039791Y2 JPH039791Y2 (ja) 1991-03-12

Family

ID=31065252

Family Applications (1)

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JP14974787U Expired JPH039791Y2 (ja) 1987-09-30 1987-09-30

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003527873A (ja) * 2000-03-24 2003-09-24 ビージェイエス カンパニー リミテッド 供試体キャリアの加熱方法及び装置
JP2012111060A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Seiko Epson Corp 流体噴射装置とその流体撹拌方法、及び流体貯溜装置とその流体撹拌方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003527873A (ja) * 2000-03-24 2003-09-24 ビージェイエス カンパニー リミテッド 供試体キャリアの加熱方法及び装置
JP4965786B2 (ja) * 2000-03-24 2012-07-04 ビージェイエス カンパニー リミテッド 供試体キャリアの加熱方法及び装置
JP2012111060A (ja) * 2010-11-22 2012-06-14 Seiko Epson Corp 流体噴射装置とその流体撹拌方法、及び流体貯溜装置とその流体撹拌方法

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Publication number Publication date
JPH039791Y2 (ja) 1991-03-12

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