JPS6369993A - コバルト−ニツケル合金ストライクめつき液 - Google Patents
コバルト−ニツケル合金ストライクめつき液Info
- Publication number
- JPS6369993A JPS6369993A JP21057586A JP21057586A JPS6369993A JP S6369993 A JPS6369993 A JP S6369993A JP 21057586 A JP21057586 A JP 21057586A JP 21057586 A JP21057586 A JP 21057586A JP S6369993 A JPS6369993 A JP S6369993A
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- JP
- Japan
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- cobalt
- plating
- nickel
- bromide
- alloy
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
上記本発明のコバルト−ニッケル合金ストライクめっき
液中の臭化ニッケルの濃度は１０ ｇ ／ Ｑ〜４００
ｇ ／ Ｑ、臭化コバルトの濃度は１０ｇ／Ｑ〜４０
０ｇ／Ｊ及び臭酸は０．２〜３０ｗｔ％好ましくは０．
５〜２０ｗｔ％とする。
液中の臭化ニッケルの濃度は１０ ｇ ／ Ｑ〜４００
ｇ ／ Ｑ、臭化コバルトの濃度は１０ｇ／Ｑ〜４０
０ｇ／Ｊ及び臭酸は０．２〜３０ｗｔ％好ましくは０．
５〜２０ｗｔ％とする。
上記のように臭化ニッケル及び臭化コバルトの濃度を１
０ ｇ ／ Ｑ以上とするのは、１０ ｇ ／ ０未満
では金属イオンの濃度が低く緻密なめっき被膜を得るこ
とができないからである。また４００ｇ／Ｑを超えると
析出物が粒状となる傾向が認められると共に液の粘性が
増し、汲みだし量が多くなり不経済であるためである。
０ ｇ ／ Ｑ以上とするのは、１０ ｇ ／ ０未満
では金属イオンの濃度が低く緻密なめっき被膜を得るこ
とができないからである。また４００ｇ／Ｑを超えると
析出物が粒状となる傾向が認められると共に液の粘性が
増し、汲みだし量が多くなり不経済であるためである。
臭酸の濃度を０．２ｗｔ％以上としたのは０．２ｗｔ％
未満では活性化の効果が充分ではないからであり、また
３０ｗｔ％を超えると性能の向上が認められないからで
ある。
未満では活性化の効果が充分ではないからであり、また
３０ｗｔ％を超えると性能の向上が認められないからで
ある。
界面活性剤は、析出粒子を微細化し緻密なめっき皮膜を
得るために有効であり、ピット、ピンホール等の発生を
抑制する働きをする。陰イオン性の界面活性剤としては
ポリオキシエチレンアルコールエーテル、ポリオキシエ
チレンアルキルフェノールエーテル等が適当であり、非
イオン性の界面活性剤としてはポリエチレングリコール
アルコールエーテル、ポリエチレングリコールアルキル
フェノールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸等
が適当である。上記界面活性剤は１種または２種以上組
合わせて使用することができる。使用濃度は３０ ｇ
／ Ｑ以下であり好ましくはＬｏｇ／Ｑ以下である。３
０ ｇ ／ Ｑを超えると電着物の特性上は特に問題が
ないが、めっき浴の発泡性が著しくなるので好ましくな
い。
得るために有効であり、ピット、ピンホール等の発生を
抑制する働きをする。陰イオン性の界面活性剤としては
ポリオキシエチレンアルコールエーテル、ポリオキシエ
チレンアルキルフェノールエーテル等が適当であり、非
イオン性の界面活性剤としてはポリエチレングリコール
アルコールエーテル、ポリエチレングリコールアルキル
フェノールエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸等
が適当である。上記界面活性剤は１種または２種以上組
合わせて使用することができる。使用濃度は３０ ｇ
／ Ｑ以下であり好ましくはＬｏｇ／Ｑ以下である。３
０ ｇ ／ Ｑを超えると電着物の特性上は特に問題が
ないが、めっき浴の発泡性が著しくなるので好ましくな
い。
上記本発明のめっき液は電着被膜中の成分の調整を容易
に行うことができ、またその管理も容易である。
に行うことができ、またその管理も容易である。
本発明のコバルト−ニッケルストライク浴を用いてめっ
きを行う際、浴温は５〜５０℃、好ましくは１０〜４０
℃とする。電流密度は０．１〜２０Ａ／ｄボであり好ま
しくは１〜１５Ａ／ｄボである。攪拌は特に必要でなく
、静止状態で行うことができる。陽極はニッケル板、コ
バルト板あるいはコバルト−ニッケル合金板が望ましい
が、不溶性のステンレス板等を用いることもできる。
きを行う際、浴温は５〜５０℃、好ましくは１０〜４０
℃とする。電流密度は０．１〜２０Ａ／ｄボであり好ま
しくは１〜１５Ａ／ｄボである。攪拌は特に必要でなく
、静止状態で行うことができる。陽極はニッケル板、コ
バルト板あるいはコバルト−ニッケル合金板が望ましい
が、不溶性のステンレス板等を用いることもできる。
被めっき材としては、銅又は銅合金、鉄又は鉄合金及び
セラミックのメタライズ材等が使用される。
セラミックのメタライズ材等が使用される。
（実施例）
リン青銅条（０，２ｍｍｔ）をアセトン脱脂後、ジャパ
ンメタルフィニッシング性クリーナー１６０（商品名）
４５ｇ／Ｑ、４０℃で電解脱脂し、次いで硫酸５ｖ０１
％水溶液に浸漬機下記の本発明例及び比較例に示す各種
ストライクめっき及びニッケルーコバルト合金めっきを
施し、更に貴金属めっき（金０．１μ、銀０．５μ）を
施した。
ンメタルフィニッシング性クリーナー１６０（商品名）
４５ｇ／Ｑ、４０℃で電解脱脂し、次いで硫酸５ｖ０１
％水溶液に浸漬機下記の本発明例及び比較例に示す各種
ストライクめっき及びニッケルーコバルト合金めっきを
施し、更に貴金属めっき（金０．１μ、銀０．５μ）を
施した。
これらのめっき材のめっき性を評価するために加熱処理
を４５０℃の大気中で３分間施し、加熱後の半田付は性
及びボンディング性を評価した。
を４５０℃の大気中で３分間施し、加熱後の半田付は性
及びボンディング性を評価した。
貴金属めっきの下地めっきの条件を以下に示す本発明例
（１）ニッケルーコバルト合金ストライクめっき■０．
０２μ （２）ニッケルーコバルト合金ストライクめっき■０．
０３μ 比較例 （３）ニッケルストライクめっき ０．０２μ（４）
ニッケルストライクめっき ０．１μ（５）銅ストラ
イクめっき ０．１μ（６）ニッケルーコバル
ト合金めっき２μ評価結果を第１表に示す。又、各めっ
き条件及び評価方法については以下に示す。
０２μ （２）ニッケルーコバルト合金ストライクめっき■０．
０３μ 比較例 （３）ニッケルストライクめっき ０．０２μ（４）
ニッケルストライクめっき ０．１μ（５）銅ストラ
イクめっき ０．１μ（６）ニッケルーコバル
ト合金めっき２μ評価結果を第１表に示す。又、各めっ
き条件及び評価方法については以下に示す。
ニッケルーコバルト八金ストライクめっき■条゛浴組成
臭化コバルト １２０ ｇ ／ Ｑ臭化ニッ
ケル １８０ｇ／Ω 臭酸 ８．１ｗｔ％ 温度 ２０℃ 電流密度 ５Ａ／ｄイ ・ 王ヱ立西二」ｌ鍾ｄ費■ＬソΣ九套先Δ１１■■
（Ｎｉ２５ｗｔ％、Ｃｏ７５ｗｔ％） 浴組成 臭化コバルト ６０ｇ／Ｑ臭化ニッ
ケル ２４０ ｇ ／ ｎ臭酸
１０ｗｔ％ ポリオキシエチレンラウリルアル−コ ールエーテル ２ｇ／Ω 温度 ２０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄ耐 ニッケルストライクめっき 浴組成 塩化ニッケル ２５０ ｇ ／ Ｑ塩
酸 １５０ ｇ ／ Ｑ温度 ２０
℃ 電流密度 ５Ａ／ｄイ 、ストライクめっき 浴組成 青化銅 ２０ ｇ ／ Ｑ資
化ソーダ ３０ ｇ ／ Ｑ温度 ２０
℃ 電流密度 ５Ａ／ｄｒｒ？ ニッケルーコバルト合金めっき− （Ｎｉ３０ｗｔ％、Ｃｏ ７０ ｗ ｔ％）浴組成
硫酸ニッケル １３５ｇ／Ω硫酸コバルト
１１５ ｇ ／ Ｑはう酸 ２５
ｇ／Ｐｉ塩化カリ １５ｇ／Ω湿度
４０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄボ 金めつき 田中貴金、＠製 テンペレックス４０１（１品名）
湿度 ６５℃ 電流密度 ０．５Ａ／ｄイ 銀めっき 日中貴金属製 ５ＩＶＬＥＸＪＳ−１（商品名）温度
２０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄイ 土四〇ｉ九■族 サンプルを２５％ロジンメタノールに５秒浸漬後、２４
０±５℃に保持された６０／４０（Ｓｎ／Ｐ ｂ）半田
浴中に５秒浸漬し、その時の外観状況及びヌレ曲線より
得られたＴ、（浮力が０になるまでの時間、短い８濡れ
性良好）をもって半田付は性を評価した。
臭化コバルト １２０ ｇ ／ Ｑ臭化ニッ
ケル １８０ｇ／Ω 臭酸 ８．１ｗｔ％ 温度 ２０℃ 電流密度 ５Ａ／ｄイ ・ 王ヱ立西二」ｌ鍾ｄ費■ＬソΣ九套先Δ１１■■
（Ｎｉ２５ｗｔ％、Ｃｏ７５ｗｔ％） 浴組成 臭化コバルト ６０ｇ／Ｑ臭化ニッ
ケル ２４０ ｇ ／ ｎ臭酸
１０ｗｔ％ ポリオキシエチレンラウリルアル−コ ールエーテル ２ｇ／Ω 温度 ２０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄ耐 ニッケルストライクめっき 浴組成 塩化ニッケル ２５０ ｇ ／ Ｑ塩
酸 １５０ ｇ ／ Ｑ温度 ２０
℃ 電流密度 ５Ａ／ｄイ 、ストライクめっき 浴組成 青化銅 ２０ ｇ ／ Ｑ資
化ソーダ ３０ ｇ ／ Ｑ温度 ２０
℃ 電流密度 ５Ａ／ｄｒｒ？ ニッケルーコバルト合金めっき− （Ｎｉ３０ｗｔ％、Ｃｏ ７０ ｗ ｔ％）浴組成
硫酸ニッケル １３５ｇ／Ω硫酸コバルト
１１５ ｇ ／ Ｑはう酸 ２５
ｇ／Ｐｉ塩化カリ １５ｇ／Ω湿度
４０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄボ 金めつき 田中貴金、＠製 テンペレックス４０１（１品名）
湿度 ６５℃ 電流密度 ０．５Ａ／ｄイ 銀めっき 日中貴金属製 ５ＩＶＬＥＸＪＳ−１（商品名）温度
２０℃ 電流密度 ＩＡ／ｄイ 土四〇ｉ九■族 サンプルを２５％ロジンメタノールに５秒浸漬後、２４
０±５℃に保持された６０／４０（Ｓｎ／Ｐ ｂ）半田
浴中に５秒浸漬し、その時の外観状況及びヌレ曲線より
得られたＴ、（浮力が０になるまでの時間、短い８濡れ
性良好）をもって半田付は性を評価した。
ボンディング −去
サンプル上に２５μφの金線を１ｍｍの間隔でボール−
ウェッジボンドを施し、その引張り強度によりボンディ
ング性を評価した。（ｎ＝２０）（効果） このように本発明のニッケルーコバルト合金は従来のニ
ッケルストライク、銅ストライク及びニッケルーコバル
ト合金めっきに比べ貴金属めっきの薄肉化が可能であり
かつ製造コストが安い工業上価れた効果を奏するもであ
る。
ウェッジボンドを施し、その引張り強度によりボンディ
ング性を評価した。（ｎ＝２０）（効果） このように本発明のニッケルーコバルト合金は従来のニ
ッケルストライク、銅ストライク及びニッケルーコバル
ト合金めっきに比べ貴金属めっきの薄肉化が可能であり
かつ製造コストが安い工業上価れた効果を奏するもであ
る。
昭和６２年 ４月２７日
Claims (2)
- （１）臭化ニッケル、臭化コバルト及び臭酸から成るコ
バルト−ニッケル合金ストライクめっき液。 - （２）臭化ニッケル、臭化コバルト及び臭酸並びに界面
活性剤から成るコバルト−ニッケル合金ストライクめっ
き液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21057586A JPS6369993A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | コバルト−ニツケル合金ストライクめつき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21057586A JPS6369993A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | コバルト−ニツケル合金ストライクめつき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6369993A true JPS6369993A (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=16591584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21057586A Pending JPS6369993A (ja) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | コバルト−ニツケル合金ストライクめつき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6369993A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100441748C (zh) * | 2004-10-26 | 2008-12-10 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法 |
-
1986
- 1986-09-09 JP JP21057586A patent/JPS6369993A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100441748C (zh) * | 2004-10-26 | 2008-12-10 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法 |
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