JPS6370088A - 焼結方法およびその装置 - Google Patents
焼結方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS6370088A JPS6370088A JP21338686A JP21338686A JPS6370088A JP S6370088 A JPS6370088 A JP S6370088A JP 21338686 A JP21338686 A JP 21338686A JP 21338686 A JP21338686 A JP 21338686A JP S6370088 A JPS6370088 A JP S6370088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- gas
- cooling
- sintering
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005245 sintering Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 73
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 33
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 23
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000009770 conventional sintering Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、被処理物を均一に加熱して焼結させろ方法
、およびその装置に関する。
、およびその装置に関する。
U従来の技術]
従来の焼結炉は、被処理物の周りに備えたヒータを一斉
に発熱させることによって、加熱室内の被処理物を加熱
ピて焼結させるようになっており、加熱室内における上
下の熱バランスをコントロールする手段を何等備えてい
なかった。
に発熱させることによって、加熱室内の被処理物を加熱
ピて焼結させるようになっており、加熱室内における上
下の熱バランスをコントロールする手段を何等備えてい
なかった。
[発明が解決しようとする問題点]
従来の焼結炉は、加熱室内の上下の熱バランスをコント
ロールする手段を備えていないがために、次のような問
題があった。
ロールする手段を備えていないがために、次のような問
題があった。
すなわち、低圧または真空加熱時は、炉内の対流伝熱に
比べて輻射伝熱の割合が大きくて、炉内の温度が均一に
なりやすものの、高圧ガスを封入して加熱する高圧加熱
時は、対流伝熱の割合が輻射伝熱に比べて非常に大きく
なり、高温ガスが上部に滞留しやすくなる。したがって
、後者の高圧加熱時は、圧力が大きくなるにしたがって
、炉内の上方がより高温、その下方がより低温となって
、大きな温度差を生じていた。その結果、被処理物を均
一に加熱することができず、その品質に悪影響を与える
と共に、製品の歩留りを低下させるという問題があった
。しかも、被処理物全体の焼結のためには、比較的低温
の下部の温度を加熱温度の基準としなければならず、そ
のため全体の平均温度が高くなって、熱効率が悪いとい
う問題もあった。
比べて輻射伝熱の割合が大きくて、炉内の温度が均一に
なりやすものの、高圧ガスを封入して加熱する高圧加熱
時は、対流伝熱の割合が輻射伝熱に比べて非常に大きく
なり、高温ガスが上部に滞留しやすくなる。したがって
、後者の高圧加熱時は、圧力が大きくなるにしたがって
、炉内の上方がより高温、その下方がより低温となって
、大きな温度差を生じていた。その結果、被処理物を均
一に加熱することができず、その品質に悪影響を与える
と共に、製品の歩留りを低下させるという問題があった
。しかも、被処理物全体の焼結のためには、比較的低温
の下部の温度を加熱温度の基準としなければならず、そ
のため全体の平均温度が高くなって、熱効率が悪いとい
う問題もあった。
この発明は、このような問題を解決するものである。
[問題点を解決するための手段]
第1の発明の焼結方法は、被処理物の入った加熱室内を
真空加熱しrこ後、加熱室内に加圧ガスを導入し、加熱
室内を高圧加熱して被処理物を焼結させ、その後、加熱
室内に冷却ガスを導入して被処理物を冷却する焼結方法
において、加熱室内にガスが導入されているときに、当
該加熱室の上側を冷却することを特徴とする。
真空加熱しrこ後、加熱室内に加圧ガスを導入し、加熱
室内を高圧加熱して被処理物を焼結させ、その後、加熱
室内に冷却ガスを導入して被処理物を冷却する焼結方法
において、加熱室内にガスが導入されているときに、当
該加熱室の上側を冷却することを特徴とする。
第2の発明の焼結装置は、加熱室内の被処理物を加熱す
るヒータと、加熱室内を真空にする真空手段と、加熱室
内に加圧ガスを導入する加圧ガス導入手段と、加熱室内
に冷却ガスを導入する冷却ガス導入手段を備えた焼結装
置において、加熱室の上側に、その周辺部を冷却する冷
却装置を備えたことを特徴とする。
るヒータと、加熱室内を真空にする真空手段と、加熱室
内に加圧ガスを導入する加圧ガス導入手段と、加熱室内
に冷却ガスを導入する冷却ガス導入手段を備えた焼結装
置において、加熱室の上側に、その周辺部を冷却する冷
却装置を備えたことを特徴とする。
[作用 ]
この発明は、加熱室内にガスを導入している焼結処理中
に、その加熱室の上側を冷却することにより、被処理物
の高圧加熱時は、対流を促進して被処理物を均一に加熱
させ、また冷却ガスによる被処理物の冷却時は、その冷
却を助けて冷却時間を短縮させる。
に、その加熱室の上側を冷却することにより、被処理物
の高圧加熱時は、対流を促進して被処理物を均一に加熱
させ、また冷却ガスによる被処理物の冷却時は、その冷
却を助けて冷却時間を短縮させる。
[実施例]
以下、この発明の実施例を図面に基づいて説明する。
まず、第2の発明の焼結装置の構成について説明する。
第1図および第2図は、その焼結装置の第1の実施例を
表す。
表す。
図において1は断熱材であり、その内部には加熱室Rが
形成されている。加熱室R内には、被処理物(図示せず
)の納まるインナーケース2が入るようになっており、
また加熱室R内におけるインナーケース2の外側には、
そのインナーケース2の周方向に沿って並ぶように複数
のヒータ3が備えられている。また、断熱材lの外側は
容器4によって囲まれている。この容器4にはフランジ
部5があり、この部分にて、容器4と断熱材lのそれぞ
れが2分して開閉されるようになっている。
形成されている。加熱室R内には、被処理物(図示せず
)の納まるインナーケース2が入るようになっており、
また加熱室R内におけるインナーケース2の外側には、
そのインナーケース2の周方向に沿って並ぶように複数
のヒータ3が備えられている。また、断熱材lの外側は
容器4によって囲まれている。この容器4にはフランジ
部5があり、この部分にて、容器4と断熱材lのそれぞ
れが2分して開閉されるようになっている。
以上の構成は従来のものと同様である。
この発明の場合は、加熱室Rの上側に冷却装置6を装備
し、この冷却装置6を図示しないコントローラによって
コントロールするようになっている。本例の場合、冷却
装置6は、加熱室Rの上部に当たる断熱Utの外側に装
備されている。冷却装置6は、内部を通る冷媒(水やガ
スなど)によって吸熱作用するようになっており、例え
ばジャケットあるいはパイプ構造となっている。
し、この冷却装置6を図示しないコントローラによって
コントロールするようになっている。本例の場合、冷却
装置6は、加熱室Rの上部に当たる断熱Utの外側に装
備されている。冷却装置6は、内部を通る冷媒(水やガ
スなど)によって吸熱作用するようになっており、例え
ばジャケットあるいはパイプ構造となっている。
次に、このような構成の焼結装置の作用と併せて、第1
の発明の焼結方法について説明する。
の発明の焼結方法について説明する。
まず、加熱室R内を真空加熱する。この時は、加熱室R
内にて対流が生じない輻射加熱となるため、従前どおり
ヒータ3を発熱させ、冷却装置6は作動させない。
内にて対流が生じない輻射加熱となるため、従前どおり
ヒータ3を発熱させ、冷却装置6は作動させない。
次に、加熱室R内に高温ガスを封入して加熱室R内を高
圧加熱する。この高圧加熱時は、対流が生じるために、
ヒータ3の発熱のみでは圧力の大きさに応じて加熱室R
内の上下に大きな温度差を生じることになる。そこで、
コントローラによって冷却装置6を作動させる。冷却装
置6は、断熱材1と容器4との間の空間の上部と、断熱
材1の上部を直接的に冷却する。ところで、断熱材1と
容器4との間のガスは、加熱室R内のガスよりは低温で
あるものの、やはり高温となったものが上部に滞留して
、断熱材lの上部を比較的高温とし、加熱室R内の温度
分布を不均一化するといった悪影響を及ぼず。冷却装置
6は、その断熱材lと容器4との間の空間の上部に滞留
した高温のガスを冷却することによって、その空間内の
対流伝熱を促進すると共に、断熱材1の上部を直接冷却
して、加熱室R内に対する悪影響を回避する。また、断
熱材lを通して間接的に加熱室R内の上部が冷却される
ことにもなる。このため、加熱室R内の上部に滞留して
いる高温ガスが冷却されて、その対流伝熱が促進される
。これらの結果、加熱室Rの温度が均一となり、被処理
物が均一加熱されることになる。
圧加熱する。この高圧加熱時は、対流が生じるために、
ヒータ3の発熱のみでは圧力の大きさに応じて加熱室R
内の上下に大きな温度差を生じることになる。そこで、
コントローラによって冷却装置6を作動させる。冷却装
置6は、断熱材1と容器4との間の空間の上部と、断熱
材1の上部を直接的に冷却する。ところで、断熱材1と
容器4との間のガスは、加熱室R内のガスよりは低温で
あるものの、やはり高温となったものが上部に滞留して
、断熱材lの上部を比較的高温とし、加熱室R内の温度
分布を不均一化するといった悪影響を及ぼず。冷却装置
6は、その断熱材lと容器4との間の空間の上部に滞留
した高温のガスを冷却することによって、その空間内の
対流伝熱を促進すると共に、断熱材1の上部を直接冷却
して、加熱室R内に対する悪影響を回避する。また、断
熱材lを通して間接的に加熱室R内の上部が冷却される
ことにもなる。このため、加熱室R内の上部に滞留して
いる高温ガスが冷却されて、その対流伝熱が促進される
。これらの結果、加熱室Rの温度が均一となり、被処理
物が均一加熱されることになる。
このようにして、加熱室R内の被処理物を加熱して焼結
させた後は、断熱材lと容器4との間、および加熱室R
内に冷却ガスを導入して、被処理物を冷却させる。その
際、冷却装置6は引き続き作動させることが有利である
。すなわち、冷却装置6を作動さけることにより、冷却
速度が早まって冷却時間が短くなる訳である。
させた後は、断熱材lと容器4との間、および加熱室R
内に冷却ガスを導入して、被処理物を冷却させる。その
際、冷却装置6は引き続き作動させることが有利である
。すなわち、冷却装置6を作動さけることにより、冷却
速度が早まって冷却時間が短くなる訳である。
ところで、インナーケース2は、被処理物Wからの脱脂
または脱ガスを低温で行う場合に、断熱材lおよびヒー
タ6が汚染されることを防ぐ。
または脱ガスを低温で行う場合に、断熱材lおよびヒー
タ6が汚染されることを防ぐ。
以上の一連の動作を第3図に表す。
図中Iは真空加熱工程、■は、高圧ガスを導入して被処
理物を加熱する高圧加熱工程、■は、冷却ガスを導入し
て被処理物を冷却する冷却工程であり、またAは加熱室
Rの温度、Bは加熱室R内の圧力を表す。本実施例の場
合は、高圧加熱工程■と冷却工程■の時に冷却装置6が
作動する。
理物を加熱する高圧加熱工程、■は、冷却ガスを導入し
て被処理物を冷却する冷却工程であり、またAは加熱室
Rの温度、Bは加熱室R内の圧力を表す。本実施例の場
合は、高圧加熱工程■と冷却工程■の時に冷却装置6が
作動する。
第4図は、焼結装置の他の構成例を表す。
本例の場合は、冷却装置6を断熱材lの上部外側に埋め
込んだ構造となっている。また、冷却装置6の耐熱性に
問題がなければ、その冷却装置6を加熱室R内における
上方の位置に装備してもよい。
込んだ構造となっている。また、冷却装置6の耐熱性に
問題がなければ、その冷却装置6を加熱室R内における
上方の位置に装備してもよい。
なお、この発明は、インナーケース2を備えていない焼
結装置に対しても適用が可能である。また、加熱室R内
における断熱材Iとヒータ3との間に、インナーケース
2と同様の形状のアウターケースを装備して、そのアウ
ターケースの上部と下部に、雰囲気ガスが流通できる開
口部を設けてもよい。この場合には、アウターケースの
外側がその内側よりも低温となって、加熱室R内にて好
適な対流が起きる。すなわち、アウターケース内におい
て上昇した高温のガスは、冷却装置6により冷やされた
後、アウターケースの上部の開口部から、比較的低温の
アウターケースの外側に入って下降し、そしてアウター
ケースの下部の開口部 ゛から再びアウターケース内に
入って積極的に循環する。このような対流により、加熱
室R内の温度が一層均一化する。
結装置に対しても適用が可能である。また、加熱室R内
における断熱材Iとヒータ3との間に、インナーケース
2と同様の形状のアウターケースを装備して、そのアウ
ターケースの上部と下部に、雰囲気ガスが流通できる開
口部を設けてもよい。この場合には、アウターケースの
外側がその内側よりも低温となって、加熱室R内にて好
適な対流が起きる。すなわち、アウターケース内におい
て上昇した高温のガスは、冷却装置6により冷やされた
後、アウターケースの上部の開口部から、比較的低温の
アウターケースの外側に入って下降し、そしてアウター
ケースの下部の開口部 ゛から再びアウターケース内に
入って積極的に循環する。このような対流により、加熱
室R内の温度が一層均一化する。
また、冷却装置6の形式、形状などは任意であり、要は
、加熱室Rの上側に備えられて、その周辺部を冷却する
ものであればよい。
、加熱室Rの上側に備えられて、その周辺部を冷却する
ものであればよい。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明は、加熱室内にガスを導
入している焼結処理中に、その加熱室の上側を冷却する
から、被処理物の高圧加熱時は、対流を促進し被処理物
を均一に加熱して被処理物の品質と歩留まりを向上させ
ることができ、また冷却ガスによる被処理物の冷却時は
、その冷却を助けて冷却時間を短縮することができる。
入している焼結処理中に、その加熱室の上側を冷却する
から、被処理物の高圧加熱時は、対流を促進し被処理物
を均一に加熱して被処理物の品質と歩留まりを向上させ
ることができ、また冷却ガスによる被処理物の冷却時は
、その冷却を助けて冷却時間を短縮することができる。
図はこの発明の詳細な説明するための図であり、第1図
は焼結装置の一実施例の縦断面図、第2図は同焼結装置
の横断面図、第3図は焼結方法を説明するためのタイム
チャート、第4図は焼結装置の他の実施例の横断面図で
ある。 ■・・・・・・断熱材、 2・・・・・・インナーケー
ス。 3・・・・・・ヒータ、 4・・・・・・容器。 5・・・・・・フランジ部、 6・・・・・冷却装置。 R・・・・・加熱室。 第1図 第3図
は焼結装置の一実施例の縦断面図、第2図は同焼結装置
の横断面図、第3図は焼結方法を説明するためのタイム
チャート、第4図は焼結装置の他の実施例の横断面図で
ある。 ■・・・・・・断熱材、 2・・・・・・インナーケー
ス。 3・・・・・・ヒータ、 4・・・・・・容器。 5・・・・・・フランジ部、 6・・・・・冷却装置。 R・・・・・加熱室。 第1図 第3図
Claims (4)
- (1)被処理物の入った加熱室内を真空加熱した後、加
熱室内に加圧ガスを導入し、加熱室内を高圧加熱して被
処理物を焼結させ、その後、加熱室内に冷却ガスを導入
して被処理物を冷却する焼結方法において、加熱室内に
ガスが導入されているときに、当該加熱室の上側を冷却
することを特徴とする焼結方法。 - (2)加熱室内に加圧ガスを導入して、被処理物を高圧
加熱しているときに、当該加熱室の上側を冷却すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の焼結方法。 - (3)加熱室内に冷却ガスを導入して、被処理物を冷却
しているときに、当該加熱室の上側を冷却することを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載の焼結方法。 - (4)加熱室内の被処理物を加熱するヒータと、加熱室
内を真空にする真空手段と、加熱室内に加圧ガスを導入
する加圧ガス導入手段と、加熱室内に冷却ガスを導入す
る冷却ガス導入手段を備えた焼結装置において、加熱室
の上側に、その周辺部を冷却する冷却装置を備えたこと
を特徴とする焼結装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21338686A JPS6370088A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 焼結方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21338686A JPS6370088A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 焼結方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370088A true JPS6370088A (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=16638341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21338686A Pending JPS6370088A (ja) | 1986-09-10 | 1986-09-10 | 焼結方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6370088A (ja) |
-
1986
- 1986-09-10 JP JP21338686A patent/JPS6370088A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3916490B2 (ja) | 熱間等方圧プレス装置および熱間等方圧プレス方法 | |
| US9657992B2 (en) | System for maintaining interior volume integrity in an induction vacuum furnace and method of making same | |
| US5267257A (en) | Vacuum furnace with convection heating and cooling | |
| US4359336A (en) | Isostatic method for treating articles with heat and pressure | |
| US4217087A (en) | Isostatic apparatus for treating articles with heat and pressure | |
| US4612064A (en) | Method for heat-treating a charge using a vacuum furnace | |
| US6947467B2 (en) | Cooling system for heat treating furnace | |
| US3548062A (en) | Gas pressure bonding furnace | |
| US6533997B1 (en) | Method and device for hot isostatic pressing | |
| JPS6370088A (ja) | 焼結方法およびその装置 | |
| JPS6224237Y2 (ja) | ||
| JPS5987032A (ja) | 加工品処理装置 | |
| EP1232824B1 (en) | Radiation furnace with independently controlled heating elements | |
| JP3875322B2 (ja) | 真空熱処理炉 | |
| US5616297A (en) | Annealing base for hood-type annealing furnaces | |
| JPH0829069A (ja) | 熱間等方圧加圧装置の冷却方法 | |
| JPH05140614A (ja) | 熱間静水圧加圧装置及びその制御方法 | |
| JPH01291090A (ja) | 焼結炉 | |
| JP2000055566A (ja) | 多室熱処理炉の冷却装置 | |
| JPH0445031Y2 (ja) | ||
| JP2519835B2 (ja) | 熱間等方圧加圧方法および装置 | |
| JP2683603B2 (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| JPS63121232A (ja) | 陰極線管処理用循環炉 | |
| JPH07238354A (ja) | 核融合装置用部品の熱処理方法およびその熱処理装置並びにその超電導コイルの熱処理方法およびその熱処理装置並びにそのダイバータの熱処理方法およびその熱処理装置 | |
| JPH04114429A (ja) | 半導体薄板の処理方法 |