JPS6372866A - 窒化チタンの装飾性コ−テイング方法 - Google Patents
窒化チタンの装飾性コ−テイング方法Info
- Publication number
- JPS6372866A JPS6372866A JP21593686A JP21593686A JPS6372866A JP S6372866 A JPS6372866 A JP S6372866A JP 21593686 A JP21593686 A JP 21593686A JP 21593686 A JP21593686 A JP 21593686A JP S6372866 A JPS6372866 A JP S6372866A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tin
- sputtering
- titanium nitride
- target
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は基板となる材料に窒化チタンのコーティングを
行なって耐腐食性を増すとともに装飾性をもたせる、窒
化チタンの装飾性コーティング方法に関するものである
。
行なって耐腐食性を増すとともに装飾性をもたせる、窒
化チタンの装飾性コーティング方法に関するものである
。
従来の技術
近年、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーテ
ィング法、プラズマＣＶＤ法などのドライコーティング
プロセス技術が進歩し、任意の基板の上に、半導体 金
属、絶縁体などの皮膜をコーティングして装飾性、耐腐
食性、耐摩耗性などの新しい機能を付加する研究がさか
んになされてきている。
ィング法、プラズマＣＶＤ法などのドライコーティング
プロセス技術が進歩し、任意の基板の上に、半導体 金
属、絶縁体などの皮膜をコーティングして装飾性、耐腐
食性、耐摩耗性などの新しい機能を付加する研究がさか
んになされてきている。
ドライコーティングプロセスのうちでもスパッタリング
法は、所望の皮膜と同じ成分構成のスパッタリングター
ゲットを用意することによってすべての固体物質の皮膜
が作成できる最も普遍的な方法である。
法は、所望の皮膜と同じ成分構成のスパッタリングター
ゲットを用意することによってすべての固体物質の皮膜
が作成できる最も普遍的な方法である。
一方、ＴｉＮ （窒化チタン）は金色の物質であり、か
つ硬度も高いことからメガネフレームなどの装飾、ドリ
ルの刃など切削工具の表面処理に用いられている物質で
ある。従来、ＴｉＮのコーティングはイオンブレーティ
ング法あるいはスパッタリング法によって行なわれるの
が普通であり、そのうちでも操作上の筒快さ、再現性の
良さという点ではスパッタリング法が有利である。
つ硬度も高いことからメガネフレームなどの装飾、ドリ
ルの刃など切削工具の表面処理に用いられている物質で
ある。従来、ＴｉＮのコーティングはイオンブレーティ
ング法あるいはスパッタリング法によって行なわれるの
が普通であり、そのうちでも操作上の筒快さ、再現性の
良さという点ではスパッタリング法が有利である。
しかしながら、従来のスパッタリング方法ではターゲッ
トとしてＴｉ板を用い、これにＡｒと隅の混合ガスを流
してスパッターし、金色以外の外観をもつ皮膜を得るこ
とは容易ではなかった。
トとしてＴｉ板を用い、これにＡｒと隅の混合ガスを流
してスパッターし、金色以外の外観をもつ皮膜を得るこ
とは容易ではなかった。
発明が解決しようとする問題点
本発明は基板上にコーティングされたＴｉＮ皮膜が金色
の外観をもつものに限られるという上記の欠点を解消し
、金色のものと同程度の耐腐食性、耐摩耗性を保ちなが
らも、金色をはじめ赤色、紫色、藍色等、多様な色相の
外観をもつ皮膜を得る方法に関するものである。
の外観をもつものに限られるという上記の欠点を解消し
、金色のものと同程度の耐腐食性、耐摩耗性を保ちなが
らも、金色をはじめ赤色、紫色、藍色等、多様な色相の
外観をもつ皮膜を得る方法に関するものである。
問題点を解決するための手段
本発明は、スパッタリング法によって基板上に赤色、紫
色、藍色、金色等種々の色相の外観をもつ皮膜を得る方
法に関するものである。
色、藍色、金色等種々の色相の外観をもつ皮膜を得る方
法に関するものである。
本発明によるＴＡＮコーティング作製作製下体下記おり
である。
である。
すなわち、スパッタリングターゲットとしてＴｉＮ （
窒化チタン）粉末焼結体を用意し、ターゲットおよび基
板をスパッタリング装置にセットする。真空槽内を十分
に排気したのちＡｒガスおよびＮガスを槽内に導入し、
真空槽内の圧力をｔｏ−’〜１０−”Ｔｏｒｒに２！８
Ｉｔｉする。この状態で槽内に高周波プラズマを発生さ
せると、Ａｒ＋イオンがＴｉＮターゲットの表面原子を
たたき出し、励起された為分子あるいはＮｒＸ子と反応
して基板上にＴｉＮ皮膜が生成する。ここではＴｉＮと
総称して書いたが、この場合のＴｉとＮの原子数比はＡ
ｒガスと為ガスの分圧によって微妙に異なり、従って外
観の色相も異なってくる。ＴｉＮの場合、組成比がわず
かに異なるだけでもその色相は赤色、紫色、藍色、金色
などと大きく変化するのが特徴である。
窒化チタン）粉末焼結体を用意し、ターゲットおよび基
板をスパッタリング装置にセットする。真空槽内を十分
に排気したのちＡｒガスおよびＮガスを槽内に導入し、
真空槽内の圧力をｔｏ−’〜１０−”Ｔｏｒｒに２！８
Ｉｔｉする。この状態で槽内に高周波プラズマを発生さ
せると、Ａｒ＋イオンがＴｉＮターゲットの表面原子を
たたき出し、励起された為分子あるいはＮｒＸ子と反応
して基板上にＴｉＮ皮膜が生成する。ここではＴｉＮと
総称して書いたが、この場合のＴｉとＮの原子数比はＡ
ｒガスと為ガスの分圧によって微妙に異なり、従って外
観の色相も異なってくる。ＴｉＮの場合、組成比がわず
かに異なるだけでもその色相は赤色、紫色、藍色、金色
などと大きく変化するのが特徴である。
為ガスを流さずにＡｒガスのみによってスパッタリング
を行なうと、ターゲットと同様の色相である金色の皮膜
ができる。Ｎ２ガスをＡｒと同時に導入した場合にはそ
の量によって赤、紫、藍、金などの多様な色の皮膜がで
きる。
を行なうと、ターゲットと同様の色相である金色の皮膜
ができる。Ｎ２ガスをＡｒと同時に導入した場合にはそ
の量によって赤、紫、藍、金などの多様な色の皮膜がで
きる。
実施例
ＴｉＮ粉末（９９％）を高圧下で焼結した。厚さ６■、
直径 １５２．４ｍｍの円板をターゲットとして用い、
Ａｒと鳥の混合ガスを流すことによってＴｉＮ薄膜をコ
ーティングした。基板には５ＯＳ４３０ステンレス板の
ＢＡ（光輝焼鈍）処理した板で、厚さ０．７ｍｍ、８０
ｍｍ角のものを用いた。 Ａｒと為を流量比２二ｌで真
空槽内に導入し、全圧を５Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒにコン
トロールして、ＲＦプラズマを発生させ、スパッタリン
グを行ない、膜厚約５００ｎ層のＴｉＮ被膜をステンレ
ス板上にコーティングした。生成した皮膜は赤紫色で耐
食性は良好であった。
直径 １５２．４ｍｍの円板をターゲットとして用い、
Ａｒと鳥の混合ガスを流すことによってＴｉＮ薄膜をコ
ーティングした。基板には５ＯＳ４３０ステンレス板の
ＢＡ（光輝焼鈍）処理した板で、厚さ０．７ｍｍ、８０
ｍｍ角のものを用いた。 Ａｒと為を流量比２二ｌで真
空槽内に導入し、全圧を５Ｘ １Ｏ−３Ｔｏｒｒにコン
トロールして、ＲＦプラズマを発生させ、スパッタリン
グを行ない、膜厚約５００ｎ層のＴｉＮ被膜をステンレ
ス板上にコーティングした。生成した皮膜は赤紫色で耐
食性は良好であった。
またＡｒとＮ２の流量比をｌ対ｌにして他の条件は同じ
コーティングをすると、赤色の皮膜が得られた。
コーティングをすると、赤色の皮膜が得られた。
発明の効果
本発明によってＴｉＮ （窒化チタン）の高い硬度と耐
食性を保持しながら、赤色、紫色、藍色など、本来のＴ
ｉＮの色である金色以外の色の外観をもつ材料が作成で
き、厳しい環境条件下での屋根材、壁材などの装飾性材
料として用いることができる。
食性を保持しながら、赤色、紫色、藍色など、本来のＴ
ｉＮの色である金色以外の色の外観をもつ材料が作成で
き、厳しい環境条件下での屋根材、壁材などの装飾性材
料として用いることができる。
Claims (1)
- スパッタリング法によって基板上にＴｉＮ（窒化チタ
ン）のコーティングを行なう際、スパッターターゲット
として、ＴｉＮを用い、スパッターガスとしてＡｒとＮ
＿２の混合気体を流し、このＡｒ／Ｎ＿２分圧比を変化
させることにより、ＴｉＮに特徴的な色の外観をもつ材
料を作ることを特徴とする窒化チタンの装飾性コーティ
ング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21593686A JPS6372866A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 窒化チタンの装飾性コ−テイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21593686A JPS6372866A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 窒化チタンの装飾性コ−テイング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6372866A true JPS6372866A (ja) | 1988-04-02 |
Family
ID=16680710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21593686A Pending JPS6372866A (ja) | 1986-09-16 | 1986-09-16 | 窒化チタンの装飾性コ−テイング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6372866A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024955A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Morimichi Fujiyoshi | 発色金属シートの製造方法、発色金属シートおよび発色金属微小片 |
| JPH0364448A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 有色硬質被膜及びその形成方法 |
| JPH03197662A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-08-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 表面被覆超硬合金の製造方法、及び表面被覆鋼材の製造方法 |
| US5489367A (en) * | 1991-09-27 | 1996-02-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Target for reactive sputtering and film-forming method using the target |
| CN108505004A (zh) * | 2018-05-04 | 2018-09-07 | 武汉理工大学 | 带有彩色TiN涂层的不锈钢刀具制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5067733A (ja) * | 1973-10-23 | 1975-06-06 | ||
| JPS5333759A (en) * | 1976-09-10 | 1978-03-29 | Tanishiyoo Kk | Chair |
-
1986
- 1986-09-16 JP JP21593686A patent/JPS6372866A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5067733A (ja) * | 1973-10-23 | 1975-06-06 | ||
| JPS5333759A (en) * | 1976-09-10 | 1978-03-29 | Tanishiyoo Kk | Chair |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024955A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Morimichi Fujiyoshi | 発色金属シートの製造方法、発色金属シートおよび発色金属微小片 |
| JPH0364448A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 有色硬質被膜及びその形成方法 |
| JPH03197662A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-08-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 表面被覆超硬合金の製造方法、及び表面被覆鋼材の製造方法 |
| US5489367A (en) * | 1991-09-27 | 1996-02-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Target for reactive sputtering and film-forming method using the target |
| CN108505004A (zh) * | 2018-05-04 | 2018-09-07 | 武汉理工大学 | 带有彩色TiN涂层的不锈钢刀具制备方法 |
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