JPS637532A - 光カ−ド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｒ里の旦英 ［産業上の利用分野１ 本発明は、キャッシュカード、クレジットカード、ＩＤ
カードなどにおいて、必要な情報の書き込みおよび読み
出しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カ
ードの改良に関する。

［従来の技術］ たとえばテルルやビスマスのような低融点金属の薄膜を
基材上に設け、レーザービームなどを照射して薄膜の一
部に変化を生じさせて記録を行ない、記録された情報を
光学的に再生する光記録再生の技術を、各種のカード類
に適用することが試みられている。

種々のカードの中でも、発行枚数の多いキャッシュカー
ド、クレジットカード、ＩＤカードなどを対象にこの技
術を実用化するには、量産が容易で、コストの低い光カ
ードを開発する必要がめる。

出願人は、上記の要望にこたえた光カードおよびその製
造方法を発明し、すでに提案した（特願昭６０−２８３
２６８号）。　その光カードは、カード基材上に光情報
パターンを有する金属薄膜層および保護層を積層してな
る。　その製造方法は、カード基材上に金属薄膜層およ
びフォトレジスト層をこの順で積層し、光情報パターン
を書き込んだフォトマスクを介して露光し、現像および
エツチングして光情報パターンを有する金属薄膜層を形
成し、その上に保護層を設け、所定の寸法のカードを打
恢いて、カード素材を得ることを特徴とする。　金属薄
膜層は、保護層上に設けてから、カード基材と貼り合わ
せる製造方法もある。

いずれの方法をとるにせよ、この光カードでは、各カー
ドに共通な情報パターンの形成は一括してフォトレジス
ト層のエツチングで行ない、固有の情報パターンは１枚
ごとにレーザービームにより書き込むわけでおる。

光カードの試用の過程で、多少乱暴な取扱いをすると、
情報の書き込みや読み取りの誤りが生じることが経験さ
れた。

その原因をしらべたところ、金属薄膜層とカード基材ま
たは保護層との間の密着性を向上させるために設けたア
ンダーコート層が部分的に剥離していることが、わかっ
た。　アンダーコート層は、ふつう、アクリル樹脂を溶
剤に溶かした液を塗布して形成してあり、これが上記カ
ード素材の製造において、フォトレジスト層の形成工程
で使用する溶剤、現像工程で使用するアルカリ液および
エツチング工程で使用する酸性液などにおかされるため
、損われるのではないかと推測される。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、キャッシュカード、クレジットカード
、ＩＤカードなどの記録および再生を光学的に行なう光
カードにおいて、長期間使用および携帯しても、金属薄
膜層とカード基材または保護層との間の密着が保たれ、
耐久性が高い光カードを提供することにおる。

発明の構成 【問題点を解決するだめの手段１ 本発明の光カードの第一の態様は、第１図に示すように
、カード基材１上に、耐溶剤性、耐アルカリ性および耐
酸性を有するアンダーコート層２、光情報パターン３を
書き込んだ金属薄膜層４および保護層５を積層してなる
。

本発明の光カードの第二の態様は、第２図に示すように
、カード基材１上に、接着剤層６、光情報パターン３を
書き込んだ金属薄膜層４、耐溶剤性、耐アルカリ性およ
び耐酸性を有するアンダーコート層２および保護層５を
積層してなる。　この場合、実際の製造は、保護層にア
ンダーコート層の形成からはじめることになる。

本発明の光カードは、第１図および第２図に示すように
、保護層５の表面に硬化樹脂層７を設けるとよい。　ざ
らに必要があれば、保護層５と硬化樹脂層７との層間に
、プライマー層（図示してない〉を設けてもよい。

カード基材には、必要に応じて他の記録手段、たとえば
磁気記録層などが施されていてもよい。

カード基材の材質は、常用の磁気カードと同様でよく、
硬質のポリ塩化ビニル樹脂、とくに色彩を施したり印刷
を行なうため、白色のものが適当で必る。　もちろん、
その他の合成樹脂も使用できるし、シート状であれば他
の材料を使用してもよい。　折り曲げに対する抵抗が必
要ならば、金属の仮や網、織布や不織布を用いて補強し
てもよい。

カード基材は、積層材であってもよい。

耐溶剤性、耐アルカリ性および耐酸性を有するアンダー
コート層は、アクリル樹脂にイソシアネートを加え、溶
剤で希釈した溶液を塗布した後、熱硬化させて形成する
とよい。

金属薄膜層は、下記のような金属または合金を使用し、
蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、イオンブレーティング
、あるいは分子線エピタキシー、めっき等の手段により
形成する。

（１）　光反射性のすぐれた金属、たとえばＡ１、Ｎｉ
　、Ｃｒ　、Ａｇ、Ａｕ　、およびこれらを主体とする
合金。

（２）　低融点金属であるＴｅ、Ｚｎ、Ｐｂ。

ｃｄ　、１３ｉ　、３ｎ　、３ｅ、ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ。

およびこれらを主成分とする合金、好ましい合金の例と
しては、Ｔｅ　−３ｅ　、　Ｔｅ　−８ｅ　−Ｐｂ　、
Ｔｅ　−Ｐｂ　、Ｔｅ　−３ｎ−３，Ｓｎ　−ＣＬＪ　
、　Ｔｅ　−ＣＬＩ−ｐｂなトカ挙ケラレル。

レーザービーム等の照射により相転移を生じて光の反射
率が変化する、Ｔｅ酸化物、ｓｂ酸化物、ＭＯＭ化物、
Ｑｅ酸化物、Ｖｌ化物、Ｓｍ酸化物、おるいはＴｅ酸化
物−Ｇｅ　、Ｔｅ−３ｎなどの化合物も、金属薄膜を形
成するものとして使用できる。

上記金属と有機化合物または無機酸化物との複合物たと
えばＴｅ　−ＣＨ、Ｔｅ−Ｃ３２、Ｔｅ４　。

一スチレン、５ｎ−ｓｎ２、ａｅ　３−ｓｎ、ｓｎ　ｓ
−ｓなどの薄膜、あるいはＳｔ　０２　／Ｔ！／Ｓ！０
２／Ａｆ１などの多層膜も、反射性金属薄膜として用い
得る。

ざらに、光磁気記録材料で必るＧｄ　Ｃｏ、Ｔｂ　Ｃｏ
　、Ｇｄ　Ｆｅ　、ａｙ　Ｆｅ　、Ｇｄ　Ｔｂ　Ｆｅ、
Ｇｄ　Ｆｅ　Ｂｉ　、Ｔｂ　Ｄｙ　Ｆｅ　、Ｍｎ　Ｃｕ
　３ｉなども、反射性金属薄膜として使用可能である。

厚さは、２００人〜１０．ＯＱＯ人、好ましくは１，０
００人〜５，０００人である。

光情報パターンを書き込んだ金属薄膜層の形成に当って
は、カード基材の表面または保護層の裏面に、前記特性
を有するアンダーコート層を設けてから金属薄膜層およ
びフォトレジスト層を積層し、フォトマスクを介して露
光した俊、現像およびエツチングして、各カードに共通
の情報を書き込むとよい。　フォトレジスト層は、常用
のフォトレジストの材料を用い、ロールコート法など任
意の方法で塗布して形成すればよい。　エツチングも、
常法に従って実施すればよい。

保護層は、カードの金属薄膜層を保護するものでおる。

　保護層に要求される特性は、透明性が高いこと、平滑
であること、および厚みムラのないことでおる。　最も
好ましい保護層材料の一例として、ポリカーボネート樹
脂のフィルムが挙げられる。　適切な厚さは、数μ〜８
００μ程度である。　そのほかに好ましい保護フィルム
の例としては、セルロース系樹脂（たとえばセルロース
トリアセテート）、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
メチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニ
ル、ポリエーテルサルホン等のポリサルフォン樹脂、ポ
リメチルペンテン等の樹脂のフィルムがある。　また、
これらの樹脂を適宜の溶剤に溶かして金属薄膜層上に塗
布して形成してもよい。

保護フィルムの面には、積層する他の材料との接着力を
向上させるため、コロナ放電、プラズマ処理等の物理的
な処理、酸を用いた酸化処理やプライマーの塗布などの
処理を、必要に応じて行なうとよい。

所望であれば、保護層の上にざらに硬化樹脂層を設けて
、表面の保護の完全をはかることもできる。　硬化樹脂
層は、カードの携帯時や使用時に傷がつくことと、それ
に伴ない傷の中に汚染物質がつまることを防止し、光カ
ードの耐久性、記録精度および再生の精度を向上させる
。

硬化樹脂層の材質としては、保護層の特性を低下させな
い限り、任意のものを使用できる。　たとえば、シリコ
ーン系、アクリル系、メラミン系、ポリウレタン系、エ
ポキシ系等の硬化樹脂、八ρ２ｏ３やＳｉＯ２等の金属
酸化物、プラズマ重合による重合膜が、具体的材質とし
て挙げられる。

接着剤層は、カード基材とその上におる層との間を接着
するために、必要に応じて使用する。

光情報パターンを書き込んだ金属薄膜層が保護層よりも
小さければ、保護層とカード基材とが接着することもめ
る。　従って、接着剤層の接着剤は、カード基材の材質
と金属薄膜層の材質に加えて、保護層の材質も考慮して
選択する。　接着剤の具体的な例は、エポキシ系、ウレ
タン系、アクリル系もしくはシアノアクリレート系のも
のでおる。

［作　用］ 本発明の光カードは、アンダーコート層が耐溶剤性、耐
アルカリ性および耐酸性を有するので、製造時のフォト
レジスト層の形成工程、現像工程およびエツチング工程
で溶剤や酸アルカリにおかされることはない。　そのた
め、金属薄膜層とカード基材または保護層との間の密着
性を高めるアンダーコート層の作用が損われることなく
、情報の書き込みや読み取りの誤りが生じることがない
。

従って、この光カードは、長期間の使用および携帯を可
能にする耐久性がある。

［実施例］ 厚さ４００μの透明ポリカーボネートシートの一方の面
に、アクリル樹脂とイソシアネートとをＭＩＢＫ溶剤で
希釈した溶液を用い、０．５ｙ／尻の量（ｄｒｙ）を塗
布し、加熱により硬化させた後、その上に真空蒸着によ
り厚さ０．３μのアルミニウム層を形成した。

次いで、アルミニウム層の表面にフォトレジスト「ＷＡ
ＹＣＯＡＴ＠ＨＰＲ２０４」　（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー）を、ロールコータ−で、乾燥時の
厚さが１μになるように塗布し、１００℃で２０分間プ
リベーキングしてフォトレジスト層とした。

露光用マスクとして、電子線描画装置により光情報パタ
ーンを書き込んだものを用い、このマスクを上記のフォ
トレジスト層に密着させ、マスクの上から紫外線照射を
行なうことによりパターン露光した。

露光後、現像液ｒＬｓＴＪ　　（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー）に浸漬して露光部のフォトレジス
トを溶解除去した。　続いて１００℃の温度で２０分間
ポストベーキングし、腐食液（リン酸１６部、酢醒２部
、硝酸１部および水１部からなる。　いずれも部は容量
部を示す。）に３分間浸漬し、露光部のアルミニウム層
を除去して、光情報パターンをバターニングした金属薄
膜層を形成した。

一方、厚さ３００μの白色硬質ポリ塩化ビニルシートの
表面にオフセット印刷で印刷を施し、裏面には磁気スト
ライプを転写法で設けたシートを用意した。

このシートの表面と前記のポリカーボネートシートの金
属薄膜層とが相対するようにして、アクリル樹脂系感熱
接着剤を介して貼り合わせ、表面温度１１０’Ｃの熱ロ
ールを用いて圧着し、光カード素材を形成した。

次に、この素材を打法き金型により打扱き、光カードを
得た。

この光カードを長期間使用および携帯したが、書き込み
や読み取りに支障が生じなかった。

発明の効果 本発明の光カードは、どのカードにも共通の情報パター
ンはエツチング方式で与えるという、すでに提案した前
記の発明を利用できるので、その効果である、量産が容
易でコストが安いというメリットを享受できる。　その
上で、長期間使用および携帯しても、金属薄膜層とカー
ド基材または保護層との間の密着が保たれ、耐久性が高
い。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、いずれも本発明の光カードの一
例を示す、模式的な断面図である。 １・・・カード基材 ２・・・アンダーコート層 ３・・・光情報パターン ４・・・金属薄膜層 ５・・・保護層 ６・・・接着剤層 ７・・・硬化樹脂層 特許出願人　　　大日本印刷株式会社 代理人　　弁理士　　須　賀　総　夫 第１図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）　カード基材上に、耐溶剤性、耐アルカリ性およ
   び耐酸性を有するアンダーコート層、光情報パターンを
   書き込んだ金属薄膜層および保護層を積層してなる光カ
   ード。
2. （２）　カード基材上に、接着剤層、光情報パターンを
   書き込んだ金属薄膜層、耐溶剤性、耐アルカリ性および
   耐酸性を有するアンダーコート層および保護層を積層し
   てなる光カード。
3. （３）　耐溶剤性、耐アルカリ性および耐酸性を有する
   アンダーコート層が、アクリル樹脂にイソシアネートを
   加えて熱硬化させて形成したものである特許請求の範囲
   第１項または第２項に記載の光カード。
4. （４）　保護層の表面に硬化樹脂層を設けた特許請求の
   範囲第１項または第２項に記載の光カード。
5. （５）　保護層と硬化樹脂層との層間にプライマー層を
   設けた特許請求の範囲第４項に記載の光カード。