JPS6376817U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6376817U JPS6376817U JP17118786U JP17118786U JPS6376817U JP S6376817 U JPS6376817 U JP S6376817U JP 17118786 U JP17118786 U JP 17118786U JP 17118786 U JP17118786 U JP 17118786U JP S6376817 U JPS6376817 U JP S6376817U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- laser beam
- light source
- source device
- main scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Description
第１図は本考案に係る放射線画像情報読取装置
の光学系配置を示す概略斜視図である。第２図お
よび第３図は本考案による光源装置ユニツトの一
実施例を示す斜視図および側断面図である。第４
図は本考案による他の実施例を示す光源装置ユニ
ツトの斜視図である。第５図および第６図は本考
案による更に他の実施例による主走査光学系の正
面図および側面図である。第７図および第８図は
本考案による更に他の実施例による光源装置ユニ
ツトの斜視図である。第９図は放射線画像情報読
取装置の構成図である。 ３……放射線画像変換パネル、４……画像情報
読取装置、１０……光源装置、１６……ハウジン
グ本体、１７……レンズホルダ、１８……マウン
ト部材、１９……ビーム整形光学系（プリズムペ
ア）、４０，５０……取付台、４２，５１，６１
，６３……取付台、４３……基台、４４……基準
ゲージ、４５Ａ，４５Ｂ……基準ピン、６０，６
２……偏光ビームスプリツタ、ＣＬ，ＣＬ１，Ｃ
Ｌ２……コリメートレンズ、ＳＬ，ＳＬ１，ＳＬ
２……レーザ発生器。
の光学系配置を示す概略斜視図である。第２図お
よび第３図は本考案による光源装置ユニツトの一
実施例を示す斜視図および側断面図である。第４
図は本考案による他の実施例を示す光源装置ユニ
ツトの斜視図である。第５図および第６図は本考
案による更に他の実施例による主走査光学系の正
面図および側面図である。第７図および第８図は
本考案による更に他の実施例による光源装置ユニ
ツトの斜視図である。第９図は放射線画像情報読
取装置の構成図である。 ３……放射線画像変換パネル、４……画像情報
読取装置、１０……光源装置、１６……ハウジン
グ本体、１７……レンズホルダ、１８……マウン
ト部材、１９……ビーム整形光学系（プリズムペ
ア）、４０，５０……取付台、４２，５１，６１
，６３……取付台、４３……基台、４４……基準
ゲージ、４５Ａ，４５Ｂ……基準ピン、６０，６
２……偏光ビームスプリツタ、ＣＬ，ＣＬ１，Ｃ
Ｌ２……コリメートレンズ、ＳＬ，ＳＬ１，ＳＬ
２……レーザ発生器。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 走査面上を光源装置からのレーザ光により
主走査する主走査手段と、前記走査面を主走査方
向とほぼ直角な方向に相対的に移動させて副走査
する副走査手段とを有するレーザ光走査装置にお
いて、前記主走査手段を構成する光源装置が半導
体レーザ素子とコリメートレンズとこれらを収容
する保持部材とから成り、該保持部材が位置決め
基準を有する基板上に固定して一体化ユニツトに
なしたことを特徴とするレーザ光走査装置。 (2) 前記保持部材を固定した位置決め基準を有
する基板上にビーム整形光学系を設置・固定して
これらを一体化ユニツトになしたことを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項記載のレーザ光
走査装置。 (3) 前記光源装置を構成する複数の半導体レー
ザ素子と、コリメートレンズと、該レーザ素子か
ら射出される複数の光ビームを集束させる偏光ビ
ームスプリツトとを、位置決め基準を有する基板
上に配設して、これらを一体化ユニツトになした
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項
記載のレーザ光走査装置。 (4) 前記一体化ユニツトの基板が前記主走査手
段の本体基準面に着脱可能であることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第１項ないし第３項の
いずれか１項に記載のレーザ光走査装置。 (5) 前記走査装置が、放射線画像情報が蓄積記
録された輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換
パネルであり、前記光源装置が、該光源装置のレ
ーザ光の励起光により主走査露光し、走査面の放
射線画像情報に応じた輝尽発光光を光検出器によ
り光電変換して画像情報を読み取る放射線画像読
取装置における励起光主走査手段の光源装置であ
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第１
項ないし第４項のいずれか１項に記載のレーザ光
走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986171187U JPH0446257Y2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986171187U JPH0446257Y2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6376817U true JPS6376817U (ja) | 1988-05-21 |
| JPH0446257Y2 JPH0446257Y2 (ja) | 1992-10-30 |
Family
ID=31106587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986171187U Expired JPH0446257Y2 (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0446257Y2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028732U (ja) * | 1983-08-02 | 1985-02-26 | キヤノン株式会社 | レ−ザ走査光学装置 |
| JPS61175617A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
-
1986
- 1986-11-06 JP JP1986171187U patent/JPH0446257Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028732U (ja) * | 1983-08-02 | 1985-02-26 | キヤノン株式会社 | レ−ザ走査光学装置 |
| JPS61175617A (ja) * | 1985-01-30 | 1986-08-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0446257Y2 (ja) | 1992-10-30 |
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