JPS638419B2 - - Google Patents

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JPS638419B2
JPS638419B2 JP2844479A JP2844479A JPS638419B2 JP S638419 B2 JPS638419 B2 JP S638419B2 JP 2844479 A JP2844479 A JP 2844479A JP 2844479 A JP2844479 A JP 2844479A JP S638419 B2 JPS638419 B2 JP S638419B2
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JP
Japan
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white
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Expired
Application number
JP2844479A
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English (en)
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JPS55121137A (en
Inventor
Yoshifusa Wada
Yasuhide Hisamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHO ERU ESU AI GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Original Assignee
CHO ERU ESU AI GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by CHO ERU ESU AI GIJUTSU KENKYU KUMIAI filed Critical CHO ERU ESU AI GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Priority to JP2844479A priority Critical patent/JPS55121137A/ja
Publication of JPS55121137A publication Critical patent/JPS55121137A/ja
Publication of JPS638419B2 publication Critical patent/JPS638419B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパターン検査方法にかかり、とくに集
積回路のマスク等の被検査試料をレーザビームも
しくは電子ビーム等を検査プローブとして用い
て、パターンの欠陥や寸法の検査を行うパターン
検査方法に関するものである。
最近の集積回路の高密度化にともなつて集積回
路のマスクのパターンはますます微細化高集積化
してきている。このためマスクの検査は、集積回
路の歩留りを上げるために不可欠の工程となる。
しかし、このような微細パターンの検査は、分解
能が不足している理由から、従来から用いられて
いる光学技術を使つた装置では行えない。従来の
光に代る装置としてレーザビームや電子ビームを
検査プローブとする装置が最近いくつか提案され
た。しかし、これらの装置は検査時間が著しく長
い、全自動による検査が行えない等の制約のため
まだ実用化されていない。
レーザビームや電子ビームを検査プローブとす
るこれらの装置では、パターンから得られる信号
が微弱なため、微小信号の増巾と、信号処理の高
速化が検査時間を短縮するための一つの重要な問
題となつている。このような微小信号の増巾を行
う増巾器では、S/Nを下げないで周波数特性を
良くするために低域しや断周波数を数+Hz程度以
上にとるのが普通である。このため、信号の直流
成分が増巾器でしや断され、信号の零レベルは第
1図に示すように信号の波形により著しく変化す
る。たとえば黒パターン中の小さな白パターン1
1を見ている時には、第1図aのように零レベル
12は黒パターンのレベルの少し上になるが、逆
に白パターン13中の小さな黒パターンを見てい
る時の零レベル14は、第1図bのように白パタ
ーンのレベルの少し下になる。一方白パターンと
黒パターンとが短い時間の間にほぼ同等の割合で
現われると第1図cの波形15のように零レベル
16は白レベルと黒レベルとのちようど中間とな
る。
従つてパターンの白黒を判定するための白黒判
定レベルの設定を白レベルと黒レベルの間の或る
固定されたレベルに設定できなかつた。たとえ
ば、白パターン中の小さな黒パターンと黒パター
ン中の小さな白パターンが交互に現われるとする
と、出力信号の波形は第1図dの波形17のよう
になる。この波形の零レベル18を白黒判定レベ
ルとして白黒の判定を行うとすると、白黒判定レ
ベルがパターン位置によつて変化し、S/Nが第
1図cの場合に比して低下する。又このように判
定レベルが変化することは、パターン巾の測定を
行う時の測定誤差を大きくする。
第2図に示すように検査プローブでパターンを
走査して得られる信号21は、パターンの端の部
分で傾斜を有するのが普通である。これは検査プ
ローブで照射する部分が有限の面積を有すること
と、パターン自体がこのような傾斜を有している
ことによる。このように端部で傾いている波形を
異つた白黒判定レベル22,23,24で白黒判
定し、パターン巾を測定すると、その判定値はそ
れぞれl1、l2、l3と測定される。図から明らかな
ように、l1≠l2≠l3となり測定値に最大l3−l1だけ
の誤差が少なくとも常に生じることになり測定精
度をl3−l1以上に上げることができなかつた。
本発明の第1の目的は、白黒判定レベルが被検
査試料のパターンによつても変化しないように
し、S/N比の低下を防ぎ、信号処理速度を速く
してマスクの検査時間を短縮することにある。
本発明の第2の目的は、白黒判定レベルを黒も
しくは白パターンのレベルからある一定のレベル
に固定し、パターン巾測定誤差を小さくし測定精
度を向上させることにある。
本発明によるパターン検査方法は、検査プロー
ブ発生源から放出される検査プローブを制御して
被検査試料上を走査し、前記検査プローブが前記
被検査試料上を走査することにより生ずる信号を
検出するパターン検査方法において、前記信号検
出手段が、前記の検査プローブをブランキングし
てしや断した時の検出信号レベルをパターン検査
を行う規準レベルとして保持し、この規準レベル
から或る値だけずらしたレベルを白黒判定レベル
として設定することを特徴とするパターン検査方
法である。
より具体的には、検査プローブとしてのレーザ
ビームもしくは電子ビームをしや断し、その時の
出力信号のレベルを規準レベルとして保持し、こ
の規準レベルから或る値だけずらしたレベルを白
黒判定レベルとすることにより、被検査パターン
によつて白黒判定レベルが変動せず、S/Nが低
下しない検査方法を得ることができる。
以下図面により本発明の実施例を説明する。第
3図は本発明によるパターン検査方法を用いた装
置の実施例をブロツク図で示したものである。本
発明の方法を実施した装置例は、検査プローブ発
生源30と、ブランキング手段31と、走査手段
32と、被検査試料から得られるパターン信号を
検出する検出器34と、増幅器35と、レベル推
移回路36とアナログデイジタル変換回路37
と、装置制御及び信号処理部38とから構成され
ている。この実施装置例では検出器34と増幅器
35と、レベル推移回路36とアナログデイジタ
ル変換回路37とにより本発明の規準レベルの保
持と、白黒判定レベルの設定が行なわれる。
レーザビーム又は電子ビーム等の検査プローブ
は検査プローブ発生源30で発生され、検査プロ
ーブをしや断するブランキング手段31、検査プ
ローブが試料上を走査するように制御する走査手
段32を通り、被検査試料33を照射する。被検
査試料を検査プローブで照射することにより得ら
れるパターンの情報は、パターン信号として検出
器34で検出され、さらに増巾器35で増巾され
る。増巾器35の出力信号41は、直流再生回路
等のレベル推移回路36で、検査プローブをしや
断した時のレベルを基準レベルとして固定され
る。レベル推移回路36の出力信号42は、振巾
比較回路等のアナログデイジタル変換回路(A/
D変換回路)37で検査パターンの白黒に対応す
る2値の信号43に変換され装置制御及び信号処
理部38へ入力される。装置制御及び信号処理部
38は、得られたパターンの白黒に対応する2値
信号43を処理し、被検査試料の欠陥の検出及び
パターン幅寸法の測定を行い、その結果を検査デ
ータとして出力する。
装置制御及び信号処理部38がら出力されるブ
ランキング信号44は、検査プローブをしや断す
るタイミングをブランキング手段31に、基準レ
ベルを設定するタイミングをレベル推移回路36
にそれぞれ与える。ブランキング手段31は、タ
イミング信号が入力された時刻に、検査プローブ
としてレーザビームを用いている場合には光路中
に挿入された鏡を機械的に回転させてレーザビー
ムを偏向させる方法、もしくは、検査プローブと
して電子ビームを用いている場合には電界等によ
つて電子ビームを偏向させる方法等により、レー
ザビームもしくは電子ビーム等から成る検査プロ
ーブをプローブの軸からずらし、試料に検査プロ
ーブが照射されないように制御する。さらに、レ
ーザビームを偏向させる方法として、光路中に挿
入した鏡を一方向に平行に機械的に移動させる手
法もある。ブランキング信号44は、第1図dに
示す検出器34と、増幅器35と、レベル推移回
路37のレベル変動の時定数に比して十分小さい
時間間隔で、たとえば十分の一以下の時間間隔、
装置制御及び信号処理部38において発生されて
いる。このブランキング信号44が発生されてい
る期間中はパターンの検出は休止される。従つて
より好ましくは、試料上を走査する検査プローブ
か一走査の終点から次走査の始点へ移る期間内
に、ブランキング期間が設定され、ブランキング
信号44が発生される。このように、検査プロー
ブを一走査の終点から次走査の始点に位置づける
期間内にブランキング信号44を発生させレベル
保持を行うと、検査時間の増大をともなわずに本
発明が実施される。なお、前述の期間以外にもレ
ーザビームもしくは電子ビームをしや断する必要
がある場合には、一走査の途中にビームをしや断
する期間が設けられる。
レーザビームもしくは電子ビームをしや断する
時刻は、原理的には、前述した検出器34と、増
幅器35と、レベル推移回路37等から成る信号
検出手段内における検出信号の零レベルの変動の
時定数に比して十分小さい時間間隔で設定され
る。ビームをしや断する時間間隔内の検出信号の
零レベルの変動分は、検出信号の振幅変動の雑音
として検出される。従つて、検出信号を誤まつて
認識し、パターンの白黒を誤判定しない範囲内
で、検出信号の零レベルの変動量が許容され、こ
の許容量に基づいてレーザビームもしくは電子ビ
ームをしや断する時間間隔が設定される。
なお、第3図では検査プローブのスポツトサイ
ズ等を制御する光学系もしくは電子光学系の部分
は省略した。これはこれら光学系の配置及び構成
はパターン検査装置の装置構成により種々に異な
り、かつ、本発明の実施において、これらの構成
は何らの重要な役割を持たないためである。
第4図は本発明の方法を実施した装置例の動作
を説明するための各部の動作波形を示したもので
ある。第4図aは第3図のブランキング信号44
の波形でブランキング手段31と、レベル推移回
路36とを制御するタイミングを表わしている。
増巾器35の出力信号41には、パターン信号に
検査プローブをしや断されたことによる信号が重
畳される。たとえば、検査プローブのしや断を行
わない時、第1図dのパターン信号が得られたと
する。次に、第4図aのタイミングで検査プロー
ブをしや断する。するとパターン信号の波形は、
検査プローブをしや断した時検出信号は零となる
ので、第4図bのパターン信号となる。この信号
はレベル推移回路36に入り、検査プローブをし
や断した時の信号レベルが規準レベルとして一定
のレベルに固定される。よつてこの回路の出力信
号42として第4図cの波形が得られる。次に
A/D変換回路37で規準レベル51から或る値
だけ異なる所に白黒判定レベル52が設定され
る。レベル推移回路の出力42とA/D変換器の
出力との比較により第4図dの2値信号が出力さ
れる。従つて検査パターンが変化しても白黒判定
レベルは変化しない。これは第4図cを同図bも
しくは第1図dとくらべることによつても容易に
分る。よつて白黒判定レベルが、白レベルと黒レ
ベるを或る一定の割合で分割したレベル、第2図
のたとえばレベル23に固定されるので白黒判定
レベルの変動によるパターン巾の測定誤差をなく
することができる。
次に信号のS/Nをみる。ここで白パターンの
信号と黒パターンの信号との差をS0と定義する。
S0に対する雑音Nの比S0/Nは主に検出器34と
増巾器35とできまり、レベル推移回路を通つて
も変化しない。一方A/D変換回路で2値信号に
変換する時の信号の大きさSは、白黒判定レベル
と白パターン又は黒パターンとの差によつて決ま
る。第1図cの理想的な場合にはS=1/2S0とな り最大のS/Nが得られる。しかし第1図dの波
形では最小のSはS=1/4S0程度となり、S/N が約半分に低下している。このS/Nの低下は、
白パターンと黒パターンとのパターン巾の比が増
大すればさらに大きくなる。100%白パターン又
は100%黒パターンでは、S/N=0となり白黒
判定ができなくなる。しかし本発明の方法では、
どのようなパターンに対しても第4図dのような
波形となり、S=1/2S0程度を得ることができ、 どのようなパターンを検査してもS/Nを低下さ
せないでA/D変換を行うことができる。
以上本発明の方法を実施した装置例では電子ビ
ーム又はレーザビームを検査プローブとして用い
たパターン検査方法について説明を行つたが、検
査プローブは、プローブがしや断できるものであ
れば他の光を用いて本発明は実施できる。
【図面の簡単な説明】
第1図a乃至第1図dはそれぞれ従来の検査方
法のパターン信号の波形と零レベルとの関係を示
す図であり、第2図はパターンの端の傾斜による
パターン巾測定誤差を示す図である。第3図は本
発明の実施例として本方法を実施したパターン検
査装置を示すブロツク図であり、ブランキング手
段と、レベル推移回路とがブランキング信号によ
つて制御されている。第4図a乃至第4図dは本
発明の方法の原理を説明するための図である。 図において、12,14,16,18……零レ
ベル、11,13,15,17……波形、21…
…パターンを走査して得られる信号、22,2
3,24……判定レベル、30……検査プローブ
発生源、31……ブランキング手段、32……走
査手段、33……被検査試料、34……検出器、
35……増巾器、36……推移回路、37……
A/D変換回路、38……信号処理部、41,4
2……出力信号、43……2値の信号、44……
ブランキング信号、51……規準レベル、52…
…白黒判定レベルである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 検査プローブ発生源から放出される検査プロ
    ーブを制御して被検査試料上を走査し、前記検査
    プローブが前記被検査試料上を走査することによ
    り生ずる信号を検出するパターン検査方法におい
    て、前記信号検出手段が、前記の検査プローブを
    ブランキングしてしや断した時の検出信号レベル
    をパターン検査を行う規準レベルとして保持し、
    この規準レベルから或る値だけずらしたレベルを
    白黒判定レベルとして設定することを特徴とする
    パターン検査方法。
JP2844479A 1979-03-12 1979-03-12 Pattern check unit Granted JPS55121137A (en)

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JP2844479A JPS55121137A (en) 1979-03-12 1979-03-12 Pattern check unit

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JP2844479A JPS55121137A (en) 1979-03-12 1979-03-12 Pattern check unit

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JPS55121137A JPS55121137A (en) 1980-09-18
JPS638419B2 true JPS638419B2 (ja) 1988-02-23

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