JPS638420B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS638420B2
JPS638420B2 JP53165445A JP16544578A JPS638420B2 JP S638420 B2 JPS638420 B2 JP S638420B2 JP 53165445 A JP53165445 A JP 53165445A JP 16544578 A JP16544578 A JP 16544578A JP S638420 B2 JPS638420 B2 JP S638420B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
cylindrical lens
concave mirror
mirror
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53165445A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5497475A (en
Inventor
Zuitsuku Eruin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Erubin Jitsuku Oputeiku Erekutoroniku GmbH
Original Assignee
Erubin Jitsuku Oputeiku Erekutoroniku GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Erubin Jitsuku Oputeiku Erekutoroniku GmbH filed Critical Erubin Jitsuku Oputeiku Erekutoroniku GmbH
Publication of JPS5497475A publication Critical patent/JPS5497475A/ja
Publication of JPS638420B2 publication Critical patent/JPS638420B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/8901Optical details; Scanning details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光束により照射される帯状体からの
光の発射角を検出する光学装置に関する。少なく
とも1つの光検知器と、帯状体及び光検知器の間
に設けられて所定角度範囲において発する光を該
検知器に集光する光学手段とが設けられ、円筒レ
ンズが該帯状体に平行にかつその焦点距離だけ離
れて設けられ、円筒レンズは検出さるべき光発射
角内の光を受け得るような大きさをもつている。
ここで、「光発射角」なる術語は、ある面から
発する光の角度を意味し、この光は反射光あるい
は透過光である。
西独公開公報第2532603号において、走査光束
によつて走査される帯状体に平行にステツプ状ミ
ラー機構を配置することは開示されている。該ス
テツプ状ミラー機構は、帯状体からの光発射角に
応じて光伝導ロツドの端面に設けられたマトリツ
クス状光検知機構の光検知器に入射する光を偏向
せしめる。しかし作ら、公知の機構においては、
該ステツプ状ミラー機構及び光伝導ロツドの光学
的品質に関し比較的厳しい条件が要求される。更
に、光伝導ロツドの光検知器から遠い部分に光が
入射した場合、受信光が光伝導ロツドの不均一性
若しくはその他の欠陥により散乱したり偏向した
りして光発射角検出用光検知器に達しないという
問題がある。
よつて、本発明の目的は、前記した如き光学装
置であつて低製造コスト及び低組立コストにして
精確な作動をし、走査光束を用いて、入射位置に
関係なく光発射角の精確な測定を能率良く行なう
装置を提供するものである。
本発明による装置は、圧延によりシート状金属
帯状体の表面のキズの検知のために適当である。
かかる金属帯状体にはその走行方向において自然
圧延トラツクの形の溝が存在する。しかし乍ら、
これらのトラツクはこの装置によつては検出され
ない。表面キズや通常の凹凸部はかかる欠陥の検
出のために用いられる。
本発明によれば、光束によつて照射される帯状
体からの光発射角を検出する装置が提供される。
かかる装置は、少なくとも1個の光検知器と、該
帯状体及び光検知器の間に設けられて所定空間角
度内の光束を該光検知器に集光せしめる光学手段
とを有し、該光学手段は、該帯状体に平行にかつ
焦点距離だけ離れた位置に設けられて検出さるべ
き光発射角内において該帯状体から発する光の全
てを受け得るだけの大きさを有する円筒レンズ
と、該円筒レンズの後方にこれに平行に設けられ
て該円筒レンズの軸に対して直角の軸を有する少
なくとも1個の曲面ミラーとからなり、上記した
少なくとも1個の光検知器は、該曲面ミラーのほ
ぼ焦面に配置されて上記所定空間角度範囲内の該
帯状体から発しかつ該光学手段によつて集光せし
められる光を受光する。
1つ以上の空間角度範囲を検出することが望ま
しい故に、検出さるべき空間角度範囲毎に少なく
とも1個の光検知器が配置される。
曲面ミラーは、ほぼ円筒状の凹面ミラーであ
り、以下、単に円筒ミラーと称する。円筒ミラー
は比較的安価に製造され得る。
よつて、本発明は、円筒レンズに平行に設けら
れた帯状体の異なる点から同一角度で発する光は
焦面中の特定点に集束し、異なる角度で同一点か
ら発する光は焦面中の異なる点に達するという現
象を利用している。帯状体、特に圧延シート状金
属の表面の特定タイプのキズは、所定方向から入
射する光を種々の角度で反射せしめる故、適当な
態様にて検知装置により検知される焦面上のパタ
ーンを処理することによりかかるキズを検知する
ことができる。
走査光束の走査範囲の端の帯状体のマージン領
域をトラブルなしに検出するために、円筒ミラー
は通常円筒レンズの両側端からはみ出している。
この点に関し、該円筒ミラーの該円筒レンズの両
側端からはみ出る長さは、円筒レンズの端を通過
して帯状体表面に対する垂直方向から10゜ないし
20゜好ましくは15゜の角度で帯状体から発する光が
円筒ミラーに達するようになる長さである。10゜
ないし20゜の範囲はシート状金属面の検出さるべ
きキズを検出するに十分である。
円筒ミラーは、その長手軸方向において傾斜し
てその反射光は、円筒レンズの側を通過する。こ
のようにして、円筒ミラーへの入射光及び反射光
を簡単に分離することが出来る。
円筒ミラーは、帯状体からほぼ焦点距離だけ離
れて配置され例えば帯状体直上に検知装置を設け
ることを可能にしている。もし、帯状体から安全
な距離に検出装置を配置したい場合は、円筒ミラ
ーは帯状体から焦点距離より遠い位置に設けるこ
ともできる。光学装置が、帯状体の移送方向をよ
ぎる方向に帯状体を走査する光束と協働する限り
において、円筒レンズは走査方向に平行な走査領
域に沿つて伸長しなければならない。
検出装置は、最も単純な方法では、円筒ミラー
の焦面に光検知器のマトリツクスを配列すること
により実現できる。かかる光検出器は好ましくは
フオトマルチプライヤであるが少々高価である。
それ故、圧延金属シートのキズを検出するため
に少なくとも1個の光伝導ロツドを用いるのが好
ましい。この光伝導ロツドは、好ましくは円形断
面を有し円筒ミラーの長手軸に対して平行にかつ
円筒ミラーの焦面に配置されている。光伝導ロツ
ドが用いられる場合、該ロツドは焦面に存在する
光束の外に好ましくは設けられ、帯状体表面が無
キズの場合光伝導ロツドが暗い領域にあるように
するのが好ましい。
しかし、異なるタイプのキズを十分識別するた
めには、互いに平行に配列された3本の光伝導ロ
ツドを用いるのが好ましく、中央のロツドに無キ
ズの表面からの光が通過するように配置する。光
伝導ロツドの端部にミラー機構若しくは光検知器
が公知の態様で設けられる。かかる実施態様にお
いて、中央の光伝導ロツドの光検知器からの信号
は、隣の光伝導ロツドの光検知器からの信号と比
較さるべき基準信号として用い得る。入射光を全
て光伝導ロツドに導くために公知の態様にて光伝
導路の前に光伝導ロツドに平行に円筒レンズを設
けるのが好ましい。光伝導ロツドは、公知のステ
ツプミラー機構と組み合わされるのが好ましい。
該ステツプミラー機構には、光伝導ロツド及び円
筒レンズによつて光が集束せしめられる。しかし
乍ら、本発明によればかかるステツプミラー機構
は不要である。なぜならば、該機構は角度を識別
することに重点はなく、むしろ全反射角で光伝導
ロツドに入射する光を出来るだけ多く反射するこ
とを目的としているからである。
帯状体表面の均一な凹部や凸部を識別するため
に、好ましい実施例においては側方の光伝導ロツ
ドの中央部直上に設けられた偏向ミラーが用いら
れ、該偏向ミラーは、光検知器に向つてその入射
光を反射する。
該側方光伝導ロツド近傍の光検知器は、圧延方
向に対してよぎる方向の成分を有するキズを認識
することを可能にする。偏向ミラーからの光を受
ける2個の光検知器は帯状体凸部若しくは凹部を
識別する。
走査用光束は、ストリツプ状円筒ミラー及び円
筒レンズを介してミラーホイール等の偏向装置に
より発生され、円筒レンズのアパーチヤ及び円筒
ミラーの一部は光を伝送するために有用であり他
の部分は光の検出に有用である。よつて2つの光
学的要素は2回用いられる。最も単純な場合、検
出装置はその回転軸から見て光偏向装置の近傍に
設けられる。しかし乍ら、検出装置を光偏向装置
から離れた位置に設けることが望ましく、他の実
施例においては、光偏向は光偏向装置と円筒ミラ
ーの間において互いに傾斜した平面ミラーによつ
て行なわれ、検出装置は、平面ミラーの傾斜に応
じて光偏向装置から離れて設けられる。
以下、図面を参照して、本発明を詳細に説明す
る。
第1ないし3図において、帯状体11が矢印F
の方向に連続的に移動する。帯状体11は、例え
ば圧延機から出てくるシート状金属である。第1
図において、帯状体11の移動方向は図に対して
直角方向である。
例えば、第7図の実施例におけるレーザ24か
ら発せられるが如き光点16は、第1図の矢印f
の方向に沿つて帯状体11を間欠的に走査する。
走査速度と帯状体の移動速度は、光点16の大き
さを考慮して該走査光点によつて帯状体の全面が
順次走査されるように互いに関連づけられる。
円筒レンズ12は、その焦点距離だけ帯状体1
1から離れて帯状体11に平行に伸長する。よつ
て、円筒レンズ12の焦線は走査光点の位置にあ
る。円筒レンズの焦線は、光点16の走査線に一
致する。
円筒ミラー13は、円筒レンズ12よりかなり
遠く帯状体11から離れて設けられ、円筒ミラー
の円筒軸は、円筒レンズの軸に直角である。円筒
ミラー13は、一点鎖線15の伸長方向に伸長し
た細長い長方形形状を有し、その細長の鏡面が凹
形の円筒曲面を成している。円筒ミラー13の伸
長方向15は、帯状体11及び円筒レンズ12の
軸に平行である。かかる円筒ミラーはその鏡面が
焦線を有する凹形の凹面ミラーであり、その鏡面
が放物面をなしていてもよいことは明らかであ
る。
第2図から明らかに、円筒ミラー13はその伸
長方向15の周りにおいて帯状体11に平行な位
置から傾斜しており、円筒レンズ12よつて集光
せしめられたすべての光束は偏向されて円筒レン
ズ12の横側を越えて円筒ミラー13の焦点位置
に等しい距離の像平面に設けられた検出装置20
に達する。かかる像平面は、円筒レンズ12と円
筒ミラー13とがかなり離れている故に円筒ミラ
ーの焦面と略等しい。該検出装置は、第1ないし
3図の実施例においては、光検知器14a,14
b,14c…,14a′,14b′,14c′,…,1
4a″,14b″,14c″,…からなるマトリツクス
構成となつている。第3図の如く光検知器は各々
導線により電子回路25へ接続され、電子回路2
5は検出信号を所望の態様で組み合わせることが
できる。
第1図において、帯状体11から直角に出るす
べての光は中央の光検知器14dに集光せしめら
れる。第1図の矢印fの方向に沿つて光点16は
帯状体11を走査しているので、光点16はある
瞬間は帯状体11上のある特定の位置を検知して
いる。光検知器14dへの入射光は、光点16か
らの光は帯状体11に直角に出ているということ
を示す。
第1図において、光点16は、例として、帯状
体11の2つの点に生じている。実際上、光点1
6は走査移動をし、かかる2つの点を照射する
が、同時にではなく、相前後する時刻に照射する
のである。
第1図の左方において破線及び一点鎖線で示す
2つの光線が、帯状体11上にて垂直方向に対し
て角度α及びβにて光点16から発するとしてい
る。これらの2つの光線は、帯状体11上の光点
16の位置に関係なく光検知器14b及び14f
に各々達する。
第2図は、第1図に対して直角な面内に於ける
光発射角の光はどの光検知器に達するかを示して
いる。第2図において帯状体11から垂直に発す
る光は光検知器14dに達し、例えば角度γ及び
δで発する光は、光検知器14d′及び14d″に
各々達する。若し、該2つの平面内の偏位、例え
ば、第1図における偏位α及び第2図における偏
位γが重畳されると、第3図のマトリツクス中の
他の検知器、例えば光検知器14b′に達する。
このような態様で、マトリツクス構成の解像度
に応じて、光点16の走査位置に関係なく光点1
6から発する光線の空間角度範囲を識別すること
ができる。
第1ないし3図の実施例に示されたような多数
の光検知器を用いた構成は、多数の空間角度範囲
の識別が必要な場合に用いられるのであるが、シ
ート状金属のキズを発見するため等の場合、数個
の空間角度範囲が識別できれば十分である。
第4ないし6図の実施例は、圧延シート状金属
の表面キズの検出に特にふさわしい検出装置であ
る。
検出装置20は、3個の光伝導ロツド17a,
17b,17cを有し、該光伝導ロツドは互いに
平行で、これらに平行な円筒レンズ18a,18
b,18cからの光を受ける。光伝導ロツドは、
光入射側と反対側の内面にステツプミラー構造2
6を有する。該ステツプミラー構造26は、第4
図に示すように入射光を光伝導ロツド内に全反射
角度にて偏向せしめる。
第4及び5図から明らかなように、光伝導ロツ
ド17a,17cとこれらに協働する円筒レンズ
18a,18cとは同一レンズに配置される一方
光伝導ロツド17bとこれに協働する円筒レンズ
18bとはいくらか低く配置される。これは構造
上好ましいからである。かかる構成により、3個
の光伝導ロツド若しくは円筒レンズの接触なしに
光伝導ロツドの受光領域が隣接するようになすこ
とが可能である。光軸方向における光伝導ロツド
の変位は、円筒ミラー13の焦点距離が長いため
にあまり大きな影響を及ぼさない。
第4ないし6図の光伝導ロツドの構成は、第2
ないし5図の面内での3つの異なる角度範囲の識
別を可能にするが、キズの検出にはこれで十分で
ある。帯状体11の表面が無キズのとき、中央の
光伝導ロツドが円筒レンズ13の焦面に生ずる光
を受ける。第6図に示す如く、圧延金属表面のキ
ズ検出のためには横に拡がつた光点27を用い
る。光点27内にある光は帯状体11の移動方向
における自然の溝から生ずるものである。このよ
うにして生ずる伸長光点は、中央の光伝導ロツド
17bのみに入射する故、無キズの帯状体11か
ら反射した光は光伝導ロツド17bの端面の光検
知器14′′′′に達する。
帯状体11の移動方向をよぎる大きさのキズが
ある場合、側方の光伝導ロツド17a,17cに
光が入射し各々の端面の光検知器14,14
′′′′から電気信号が発生する。
第4図において明らかな如く、角度α及びβで
帯状体11を発する光は、同一の光伝導ロツド1
7bに入射する故、この面内においては、異なる
角度の識別はできない。
第4ないし6図において、円筒レンズ18a,
18cの直上に平面偏位ミラー19a,19cが
走査範囲の中央部に設けられ、それらへの入射光
を光検知器14′,14″に偏向する。偏向ミラー
19a,19cの長さは該光伝導ロツドの長さに
比して小さい。偏向ミラー19a,19cは、設
けられた該偏向ミラーの面積の範囲においてのみ
第4図の面内で偏向した光が光伝動ロツド17
a,17cに入射するのを防止する。
連続的に上昇若しくは下降する側面を有する凹
部若しくは凸部が帯状体11に生じた場合、偏向
ミラー19a,19cが光を受けて光検知器1
4′,14″に電気信号が発生する。
光検知器14′ないし14′′′′は、適当な第1な
いし3図の例と同様な電気的処理装置25に接続
される。
第7図の実施例における光学装置及び検知装置
20は、第4ないし6図のそれらと対応する。し
かし乍ら、円筒ミラー13及び円筒レンズには、
送出される光28の走査方向をよぎる方向におけ
る部分を用いて走査光点16を発生するためと、
残りの部分を用いて光を検出するためとに用いら
れる。レーザ24は、光分散のための2つの交叉
した円筒レンズ29及び30を介して前段対物レ
ンズ31に平行光線を供給する。供給された光ビ
ーム28は、軸21の周りに回転自在なミラーホ
イール22によつて平面ミラー23aに向けられ
る。平面ミラー23aは供給される光を円筒ミラ
ー13の下部の領域に送る。円筒ミラー13及び
円筒レンズ12は走査点16上に光ビームを集光
せしめる。
第7図において、検出装置20の構成の2つの
可能性を示している。実線で描かれた1の実施例
において、受光ビーム32は円筒ミラー13を介
して平面ミラー23aに隣接して設けられた平面
ミラー23a上に投射される。平面ミラー23b
は、第7図の面に直角な軸の周りに図示した如
く、平面ミラー23aから傾斜している。このよ
うにして受光ビーム32は上方に偏向せしめら
れ、検出装置20は円筒ミラー13及びミラーホ
イール22から十分な距離だけ離れて設けられ得
る。
点線で描かれた実施例においては、2つのビー
ムのために単一の平面ミラー23が用いられる。
平面ミラー23は、供給光ビーム28を反射して
円筒ミラー13の下部に向ける。円筒ミラー13
の上部は受光ビーム32をミラーホイール22の
近傍にある検出装置に送る。この実施例はコンパ
クトな構造に特徴を有する。
平面ミラー23を省略し、ミラーホイール22
に光を供給する光学素子を組み合せてミラーホイ
ールで反射した光を円筒ミラー13に直接送るこ
ともできる。このような場合、検出装置は第7図
の点線で示される如くミラーホイールの隣に設け
られる。
第6図から明らかなように偏向ミラー19a,
19cの近傍でかつ両側にストツパ34すなわち
遮断板を設けてもよい。ストツパ34は、入射光
がストツパに沿つて、更に偏向ミラーに沿つて光
伝動ロツドに達し得ないように設けられていい
る。かかる手段により、偏向ミラー19a,19
cに入射する光と光伝動ロツド17a,17cに
入射する光との間の所定角度の分離がなされる。
光伝動ロツドの軸方向におけるストツパ34間の
長さは、偏向ミラー19の長さのにほぼ同じであ
る。第6図は、ストツパ34を付加したことを除
いて第5図の配置と同じであり、第5図は第6図
の平面に直角な面から見た様子を示している。
第8図は、帯状体11のキズの検出に特に適当
な伝送及び検出装置を示す。
レーザ24は、ビーム拡散素子29′,30′を
介して約0.1×1mmないし1×10mmの範囲の光点
をもたらす供給ビームを発生する。該ビームは軸
21の周りに回転自在なミラーホイール22によ
つて偏向されて平面ミラー35に送られ、更に平
面ミラー36を経て、図面に直角な軸を有する円
形若しくは楕円形等の凹面ミラー31′に達する。
ストリツプ状に図面に直角に配置されたミラー3
5,36による2回の偏向を計算に入れると、凹
面ミラー31′はミラーホイール22からその焦
点距離だけ離れている。ビーム28は、凹面ミラ
ー31′から偏向して帯状体11に走査光点16
を角度εにて入射せしめる。角度εは、好ましく
は10゜ないし80゜の間にある。凹面ミラー31′と
走査光点との間には何らの光学素子が存在しない
ということが重要である。走査光点16の大きさ
は約0.1×1mmないし1×10mmの範囲内にある。
凹面ミラー31′と走査光点16との間の距離は
凹面ミラー31′の焦点距離の1/2ないし1/10の範
囲にある。
円筒レンズ12及びその光軸33はビーム28
の反射角εに配置される。円筒レンズから発する
光は円筒ミラー13及び平面ミラー23を介して
第1ないし4図に示された如き検出装置に向けら
れる。
円筒レンズ12は、ビーム28に対して反射角
εの位置に設けられている故、帯状体11の表面
から普通に反射した光は、実際上その全部が中央
の光伝導ロツド17bに達し、第6図のパターン
27が形成される。よつて、第4ないし6図の検
出装置は、第8図に示す如くビーム28に対して
角度εの位置に設けられる。
ビーム28と円筒レンズとの間に、帯状体11
の直上に円筒レンズ37が設けられ、円筒レンズ
37の後に光伝導ロツド38が設けられる。これ
らの2つの光学素子は、円筒レンズ12と同様に
走査方向に平行に伸長する。光伝導ロツド38は
帯状体11の表面から発した光を受光する。この
よう受光系は、帯状体表面の班点(fleck)を検
出するのに好ましい。
以上、本発明を実施例によつて説明したが、本
発明の技術的範囲は上記実施例に限定されること
なく、本発明の範囲内において、種々の変形が可
能であることは当業者にとつて明白である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例の全体概略図、第2
図は、第1図の装置を−方向から見た断面
図、第3図は、第1図の装置を−方向から見
た断面図、第4図は、本発明の更に好ましい実施
例を示す第1図と同様な図、第5図は、第4図の
装置についての第2図と同様な断面図、第6図は
第4図の装置についての第3図と同様な断面図、
第7図は入反射光に共用される光学素子を含む本
発明による更に他の実施例の全体概略図、第8図
は、本発明による更に他の実施例の第2ないし5
図と同様な図である。 主要部分の符号の説明、11……帯状体、12
……円筒レンズ、13……円筒ミラー、16……
走査用光点、17a,17b,17c……光伝導
ロツド、18a,18b,18c……円筒レン
ズ、19a,19c……偏向ミラー、20……検
出装置、22……ミラーホイール、25……処理
回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 帯状体上に走査される照射光点の走査線から
    の光の発射角度を検出する光学装置であつて、 前記走査線と一致する焦線を有し、かつ検出さ
    れるべき光発射角範囲内に前記帯状体から発する
    光を全て受光し得る大きさを有する円筒レンズ
    と、 前記円筒レンズの前記焦線に直角な焦線を有す
    るように前記円筒レンズの光学的後方に位置し、
    かつ一平面において凹形に湾曲した少なくとも1
    つの凹面ミラーと、 前記凹面ミラーの像平面内に位置して前記光発
    射角範囲内の光を受光する複数の受光面を有しか
    つ、該光を電気信号に変換する複数の光検知手段
    とからなり、 前記凹面ミラーは、前記円筒レンズの両端部よ
    り外側方に突出していること、 前記凹面ミラーは、前記円筒レンズから前記凹
    面ミラーに入射しこれから反射した光が前記円筒
    レンズの側方を通過するように、前記円筒レンズ
    に対して傾斜して配置されていること、 前記凹面ミラーは、前記帯状体からその焦点距
    離にほぼ等しい距離だけ離れて配置されているこ
    とを特徴とする装置。 2 前記凹面ミラーの前記円筒レンズ両側から突
    出している部分の長さは、前記円筒レンズ端部を
    通過して前記帯状体表面に対する垂直方向から
    20゜までの角度で発した光が前記凹面ミラーに達
    し得る長さになつていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の装置。 3 前記凹面ミラーの焦点距離は、前記光点に走
    査線の長さとほぼ等しくなつていることを特徴と
    する特許請求の範囲第2項記載の装置。 4 前記凹面ミラーの焦点距離は、前記光点に走
    査線の長さよりいくらか長くなつていることを特
    徴とする特許請求の範囲第2項記載の装置。 5 前記複数の光検知手段は、前記凹面ミラーの
    焦面に設けられた複数の光検知器のマトリツクス
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の装置。 6 前記複数の光検知手段は、複数の光伝導ロツ
    ドからなることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の装置。 7 前記光検知手段は、複数の偏向ミラー及び複
    数の補助光検知器を有していることを特徴とする
    特許請求の範囲第6項記載の装置。 8 前記光伝導ロツドが円形断面を有することを
    特徴とする特許請求の範囲第6項記載の装置。 9 前記複数の光伝導ロツドは、互いに平行に設
    けられた第1、第2及び第3の光伝導ロツドから
    なり、前記帯状体の無キズの表面からの光がその
    中央の第2光伝導ロツドに達するようになされて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
    の装置。 10 個別の円筒レンズが各光伝導ロツドの前に
    これらと平行に伸長していることを特徴とする特
    許請求の範囲第9項記載の装置。 11 前記偏向ミラーが側方の前記第1及び第3
    の光伝導ロツドの中央付近に設けられて入射光が
    前記補助光検知器に向つて偏向されることを特徴
    とする特許請求の範囲第10項記載の装置。 12 前記円筒レンズは前記帯状体の表面を離れ
    る光を実質的に斜角にて受けるように配置されて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の装置。 13 前記走査線上の光点が、前記凹面ミラー及
    び前記円筒レンズを介して光偏向装置により生ぜ
    しめられている光ビームによつて形成されている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
    置。 14 前記光ビームは、前記帯状体に対して10゜
    ないし80゜の角度で傾斜していることを特徴とす
    る特許請求の範囲第13項記載の装置。 15 前記光偏向装置による前記帯状体への照射
    用の光ビーム光路と、前記円筒レンズ、凹面ミラ
    ー光検知器によつて画定される検出用の光ビーム
    光路とを分離する光路分離手段を有していること
    を特徴とする特許請求の範囲第13項記載の装
    置。 16 前記光偏向装置による光ビーム光路は前記
    円筒レンズ及び凹面ミラーを通過するように配置
    されていることを特徴とする特許請求の範囲第1
    5項記載の装置。 17 前記光偏向装置による光ビーム光路は、前
    記凹面ミラー、前記円筒レンズの順に通過する光
    ビーム光路と、前記円筒レンズ、前記凹面ミラ
    ー、前記光検知手段に向かうの順に通過する光ビ
    ーム光路とからなることを特徴とする特許請求の
    範囲第16項記載の装置。 18 前記光偏向装置による光ビーム光路には平
    面ミラーが設けられ、該平面ミラーは光偏向装置
    により生ぜしめられた光ビームを反射する第1部
    分と、光ビームを前記光検知手段に向かわせる第
    2部分とを有していることを特徴とする特許請求
    の範囲第17項記載の装置。 19 前記平面ミラーの第1部分は、その第2部
    分に関して角度を有しているを特徴とする特許請
    求の範囲第18項記載の装置。
JP16544578A 1978-01-04 1978-12-29 Rays radiation angle detecting optical device from beltlike body scanned by rays Granted JPS5497475A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2800351A DE2800351B2 (de) 1978-01-04 1978-01-04 Optische Vorrichtung zur Bestimmung des Lichtaustrittswinkels bei einer mit einem Lichtfleck abgetasteten Materialbahn

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5497475A JPS5497475A (en) 1979-08-01
JPS638420B2 true JPS638420B2 (ja) 1988-02-23

Family

ID=6028981

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16544578A Granted JPS5497475A (en) 1978-01-04 1978-12-29 Rays radiation angle detecting optical device from beltlike body scanned by rays

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4248537A (ja)
JP (1) JPS5497475A (ja)
DE (1) DE2800351B2 (ja)
FR (1) FR2422933A1 (ja)
GB (1) GB2023868B (ja)
SE (1) SE428973B (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2827704C3 (de) * 1978-06-23 1981-03-19 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optische Vorrichtung zur Bestimmung der Lichtaustrittswinkel
DE2827705C3 (de) * 1978-06-23 1981-07-30 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Gerät zur Feststellung von Fehlern an Bahnmaterial
SE440405B (sv) * 1979-03-02 1985-07-29 Svenska Textilforskningsinst Anordning for bestemning av riktningsfordelningen av fibrer i planet for ett dukformigt material
DE3006072C2 (de) * 1980-02-19 1984-11-29 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Fehlstellenermittlungsvorrichtung für Materialbahnen
DE3037622C2 (de) * 1980-10-04 1987-02-26 Theodor Prof. Dr.-Ing. 1000 Berlin Gast Einrichtung zur Bestimmung der Oberflächengüte
DE3307591C2 (de) * 1983-03-03 1986-06-05 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Verfahren zur optischen Kontrolle der Oberfläche eines Prüfgutes
DE3411934C2 (de) * 1983-04-22 1986-04-24 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Fehlerfeststellungsvorrichtung
DE3472300D1 (en) * 1983-04-22 1988-07-28 Sick Optik Elektronik Erwin Device for the detection of faults
DE3408106A1 (de) * 1984-03-05 1985-09-12 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Optischer rauheits-scanner
DE3428435A1 (de) * 1984-08-01 1986-02-06 Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch Rauheitssonde
US5448364A (en) * 1993-03-22 1995-09-05 Estek Corporation Particle detection system with reflective line-to-spot collector
EP1241466A1 (fr) * 2001-03-13 2002-09-18 Daniel Malaise Dispositif et procédé optoélectronique de mesure en temps réel de la lumière diffusée par une surface en défilement

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL279098A (ja) * 1961-05-31
DE1473746A1 (de) * 1964-06-15 1969-01-09 Eastman Kodak Co Vorrichtung zum photoelektrischen Abtasten eines gefuehrten Bandes
US3618063A (en) * 1970-02-11 1971-11-02 Eastman Kodak Co Defect inspection apparatus
DE2051908A1 (de) * 1970-10-22 1972-04-27 Licentia Gmbh Photoelektronische Oberflachenabtast einrichtung
GB1347777A (en) * 1970-12-12 1974-02-27 Sick Optik Elektronik Erwin Photoelectric length measuring apparatus
GB1389444A (en) * 1971-03-09 1975-04-03 Sira Institute Apparatus for automatic inspection of materials
JPS4879686A (ja) * 1972-01-28 1973-10-25
JPS5035437A (ja) * 1973-07-31 1975-04-04
US3866054A (en) * 1973-09-28 1975-02-11 Du Pont Defect size discriminator circuit for web inspection system
US3919531A (en) * 1974-05-16 1975-11-11 Libbey Owens Ford Co Method of and apparatus for inspecting the contours of moving bent articles
GB1496765A (en) * 1974-12-19 1978-01-05 Ciba Geigy Ag Examining sheet material photoelectrically
JPS5210793A (en) * 1975-07-15 1977-01-27 Yaskawa Electric Mfg Co Ltd Fault detector

Also Published As

Publication number Publication date
FR2422933B1 (ja) 1984-03-02
JPS5497475A (en) 1979-08-01
US4248537A (en) 1981-02-03
DE2800351C3 (ja) 1980-07-31
GB2023868A (en) 1980-01-03
DE2800351A1 (de) 1979-07-05
GB2023868B (en) 1982-06-23
SE428973B (sv) 1983-08-01
FR2422933A1 (fr) 1979-11-09
SE7813256L (sv) 1979-07-05
DE2800351B2 (de) 1979-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6223250B2 (ja)
US4085322A (en) Optical apparatus
JPS6036908A (ja) 三角測量原理に基づく測定法を用いる、物体表面上の点と基準レベルとの間の距離を非接触的に測定するための測量方法
JPS6275233A (ja) 光学式板状素材モニタ装置
JPS638420B2 (ja)
US4924086A (en) Optical scanning apparatus for detecting faults on a surface
JPH0762614B2 (ja) 光センサ
US4116527A (en) Device for concentrating light from a linear field on to a receiver
US3675016A (en) Flying spot scanning
US3931525A (en) Detection of blemishes in surfaces
JPH06160288A (ja) 検出装置、特に紙巻き煙草の表面検査をするための装置
US3062965A (en) Photoelectric scanning device
JPS6218667B2 (ja)
US4259013A (en) Optical method for inspecting spherical parts
US4293776A (en) Banknote condition monitoring apparatus
US3617756A (en) Optical measuring apparatus using measuring and comparison light beams
US4108533A (en) Apparatus for combining light emanating from a linear scanning field
US4768878A (en) Test arrangement for non-contacting identification of defects in non-structured surfaces
EP0244102B1 (en) Inspection apparatus
US4291987A (en) Hole seeking apparatus
US4705957A (en) Wire surface monitor
US5815272A (en) Filter for laser gaging system
US3490253A (en) Stop motions for warp knitting machines
JPH11138278A (ja) 加工不良判別機構を備えた加工用レーザー出射装置
JP3040131B2 (ja) 球体表面の傷検査装置