JPS6389330A

JPS6389330A - 薄膜張付装置

Info

Publication number: JPS6389330A
Application number: JP23416786A
Authority: JP
Inventors: Mitsuhiro Seki; 光博関
Original assignee: Somar Corp
Current assignee: Somar Corp
Priority date: 1986-10-01
Filing date: 1986-10-01
Publication date: 1988-04-20
Also published as: JPH0436542B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（１）発明の目的〔産業上の利用分野〕本発明は、簿膜の張付技術に関し、特に、連続した薄膜
を所定の寸法に切断して基板に張り付ける薄膜張付装置
に適用して有効な技術に関するものである。

〔従来技術〕

コンピュータ等の電子機器に使用されるプリント配線板
は、銅等の所定パターンの配線が絶縁性基板の片面又は
両面に形成されたものである。

この種のプリント配線板は１次の製造工程によす製造す
ることができる。

まず、絶縁性基板上に設けられた導電層上に、感光性樹
脂（フォトレジスト）層とそれを保護する透光性樹脂フ
ィルム（保護膜）とからなる積層体を熱圧着ラミネート
する。この熱圧着ラミネートは、薄膜張付装置所謂ラミ
ネータにより量産的に行われる。この後、前記積層体に
配線パターンフィルムを重ね、この配線パターンフィル
ム及び透光性樹脂フィルムを通して、感光性樹脂層を所
定時間露光する。そして、透光性樹脂フィルムを剥離装
置で剥離した後、露光された感光性樹脂層を現像してエ
ツチングマスクパターンを形成する。この後、前記導電
層の不必要部分をエツチングにより除去し、さらに残存
する感光性樹脂層を除去し、所定の配線パターンを有す
るプリント配線板を形成する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

前述のプリント配線板の製造工程においては、絶縁性基
板の導電層上に、薄膜張付装置で自動的に積層体を熱圧
着ラミネートする工程が必要とされている。この熱圧着
ラミネート工程の概要は次のとおりである。

まず、薄膜張付装置の供給ローラに連続的に巻回されて
いる積層体を、メインバキュームプレートで基板に供給
する。メインバキュームプレートは、積層体供給面に複
数の吸着孔が設けられており、この吸着孔に積層体を吸
着し供給するように構成されている。基板に供給される
積層体の先端部は、メインバキュームプレートの供給方
向先端側に設けられた円孤形状の仮付部で絶縁性基板の
導電層上に仮り付け（偏熱圧着）される。積層体の先端
部は、積層体の供給経路に近接又は離反するサブバキュ
ームプレートにより、仮付部に吸着させることができる
。メインバキュームプレート及びサブバキュームプレー
トは、積層体の供給及び仮付動作が行えるように、基板
に対して近接及び離反する支持部材を介して装置本体に
取り付けられている。

次に、先端部が仮り付けされた積層体は、熱圧着ローラ
で基板に熱圧着ラミネートされる。積層体が一定量熱圧
着ラミネートされると、切断装置により基板に対応した
所定寸法に積層体が切断される。切断装置は、メインバ
キュームプレート及びサブバキュームプレートと共に、
前記支持部材に設けられている。

この種の薄膜張付装置では、前述のように、重量のある
メインバキュームプレート、サブバキュームプレート及
び切断装置を同一の支持部材に取り付けている。このた
め、支持部材を移動させる駆動源（例えば、エアーシリ
ンダ）に、大きな駆動能力（容量）が必要になるという
問題があった。

そこで、先に本願出願人により出願された特願昭６１−
１０４３９１号には、前記問題点を解決する技術が提案
されている。この技術は、サブバキュームプレート、切
断装置の夫々を装置本体に固定したものである。つまり
、前記技術は、前記支持部材にメインバキュームプレー
トだけを取り付け、支持部材を移動させる駆動源の駆動
能力を小さくしている。

しかしながら、１１Ｍ体の切断に際しては、常時、供給
される積層体の後端部の切断位置を、切断装置の切断位
置に実質的に静止させる必要がある。

この積層体の後端部の静止は、熱圧着ラミネートの速度
よりも速い速度で積層体の切断位置を切断装置の切断位
置に供給し、この供給された積層体の切断位置をサブバ
キュームプレートで吸着し保持することにより行われる
。積層体の先端側は、サブバキュームプレートと熱圧着
ローラとの間にたるみが形成され、このたるみにより後
端部が静止した状態のまま、熱圧着ラミネートを進行さ
せることができる。

このように構成される薄膜張付装置においては、積層体
を吸着して熱圧着ラミネートの速度よりも速い速度でメ
インバキュームプレートを移動した後、積層体の切断位
置をサブバキュームプレートで吸着させるので、両者の
動作タイミングを一致させることが非常に難しい。この
ため、メインバキュームプレートとの間にたるみを生じ
た状態でサブバキュームプレートに積層体の切断位置が
吸着され保持されるので、切断装置の切断位置に対して
実際のＭ層体の切断位置にずれを生じるという問題があ
った。この切断位置のずれは、熱圧着ラミネートされる
積層体の寸法が短くなり、正確な熱圧着ラミネートが行
えないので、プリント配線板の製造上の歩留りが低下す
るという問題を生じる。

本発明の目的は、薄膜張付装置において、薄膜の切断位
置と切断装置の切断位置とを正確に一致させると共に、
薄膜供給部材を取り付けている支持部材を駆動能力の小
さな駆動源で駆動させることが可能な技術を提供するこ
とにある。

本発明の他の目的は、前記目的を達成すると共に１ｗｉ
膜を正確な寸法で切断し、製造上の歩留りを向上するこ
とが可能な技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。

（２）発明の構成ｒ問題点を解決するための手段〕本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば１次のとおりである。

本発明は、連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切
断された薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置において
、前記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部材を支
持部材に取り付け、該支持部材を基板に近接及び離反す
るように装置本体に設け、前記連続した薄膜の切断部分
を薄膜供給経路内に保持する薄膜保持部材を前記支持部
材に設け、該薄膜保持部材で保持される連続した薄膜を
所定寸法に切断する切断装置を、前記薄膜供給部材と基
板との間の薄膜供給経路の近傍の装置本体に固定したこ
とを特徴とするものである。

〔作用〕

上述した手段によれば、前記薄膜供給部材と薄膜保持部
材とを支持部材に設け、薄膜供給部材で薄膜を保持する
と同時に、薄膜保持部材で薄膜の切断位置を保持し、こ
の状態で前記切断装置で薄膜を切断することができるの
で、薄膜供給部材と薄膜保持部材との間の薄膜のたるみ
をなくシ、薄膜の切断位置と切断装置の切断位置とを正
確に一致させることができると共に、前記切断装置を装
置本体に固定し、眞記支持部材の重量を軽くしたので、
駆動能力の小さな駆動源で支持部材を駆動することがで
きる。

また、前記薄膜の切断位置と切断装置の切断位置とを正
確に一致させることができるので、薄膜を正確な寸法で
切断し、製造上の歩留りを向上することができる。

〔発明の実施例〕

以下、プリント配線用基板に感光性樹脂層と透光性樹脂
フィルムとからなる積層体を熱圧着ラミネートする薄膜
張付装置に適用した本発明の一実施例について１図面を
用いて具体的に説明する。

なお、実施例を説明するための全図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。

本発明の一実施例である薄膜張付装置を第１図（概略構
成図）で示す。

第１図に示すように、透光性樹脂フィルム、感光性樹脂
層及び透光性樹脂フィルムの３層構造からなる積層体１
は、供給ローラ２に連続的に巻回されている。供給ロー
ラ２の積層体１は、薄膜分離ローラ３で、透光性樹脂フ
ィルム（保護膜）ＩＡと、−面（接着面）が露出された
感光性樹脂層及び透光性樹脂フィルムからなる積層体Ｉ
Ｂとに分離される０分離された透光性樹脂フィルムＩＡ
は、巻取ロー、う４により巻き取られるように構成され
ている。

供給ローラ２は、第２図（要部斜視図）に示すように、
その軸部２Ａと円孤状凹部５Ａとを嵌合させ、ローラ支
持部材５に支持されている。ローラ支持部材５は、装置
本体７のカバーフレームの外側に、例えばネジ等の接続
部材（又は接着剤）によって取り付けられている。

巻取ローラ４は、その軸部４ＡとＵ字状四部６Ａとを嵌
合させ、ローラ支持部材６に支持されている。ローラ支
持部材６は、装置本体７のカバーフレームの外側に、ロ
ーラ支持部材５と同様に取す付けられている。

ローラ支持部材５は、左側（作業者に近い側）に供給ロ
ーラ２の仮置場としての円孤状凹部５Ｂが設けられてい
る。一方、ローラ支持部材６は、右側（作業者に遠い側
）に巻取ローラ４の仮置場としての円孤状凹部６Ｂ、６
Ｃが設けられている。

ローラ支持部材５．６の夫々に設けら九た仮置場として
の円孤状凹部５Ｂ、６Ｂ、６Ｃの夫々は。

例えば、次のように使用される。積層体１がなくなり、
供給ローラ２を交換する場合、巻取ローラ４の軸部４Ａ
をＵ字状凹部６Ａから仮置場としての円孤状凹部６Ｂ又
は６Ｃに嵌合させる。この状態において、供給ローラ２
の軸部２Ａを円孤状凹部５Ａから仮置場としての円孤状
凹部５Ｂに一旦嵌合させ、この後、ローラ支持部材５か
ら取り外す。次に、新しい供給ローラ２を一旦仮置場と
しての円孤状凹部５Ｂに嵌合させ、この後、供給ローラ
２の軸部２Ａと円孤状凹部５Ａとを嵌合させる。そして
、ローラ支持部材６の円孤状凹部６Ｂ又は６Ｃに嵌合さ
せてあった巻取ローラ４の軸部４ＡをＵ字状凹部６Ａに
嵌合させる。

このように、ローラ支持部材５に設けられた仮置場とし
ての円孤状凹部５Ｂ、ローラ支持部材６に設けられた仮
置場としての円孤状凹部６Ｂ又は６Ｃの夫々は、かなり
の重量がある供給ローラ２や巻取ローラ４を完全に取り
外す必要がなく、少し移動するだけで夫々の取り付け、
取り外し作業を行うことができる。つまり、薄膜張付装
置において、作業能率を向上することができ、又、作業
上の安全性を向上することができる。

前記薄膜分離ローラ３の一端部には、第２図及び第３図
（要部拡大斜視図）に示すように、薄膜供給検出装置８
が設けられている。薄膜分離ローラ３は、積層体１の供
給経路内に設けられており、薄膜供給検出装置８は、Ｖ
Ｃ層体！及びＩＢの供給経路（供給ローラ２から基板ま
での経路）内に設けられている。薄膜供給検出装置８は
、薄膜分離ローラ３の回転で矢印Ａ方向に回転し、その
円周部にスリット部８Ａを有する回転板８Ｂと、前記ス
リット部８Ａを検出する検出部８Ｃとを有するエンコー
ダで構成されている。つまり、薄膜供給検出装置８は、
薄膜分離ローラ３の回転数に対応して所定の信号を出力
するように構成されている。

回転板８Ｂは、例えば、樹脂材料、軽金属材料。

合金材料等で構成されている。検出部８Ｃは、例えば、
光、超音波等でスリット部８Ａが存在するか否かを検出
できるように構成されている。薄膜供給検出装置８は、
積層体１及びＩＢの供給に際し、邪魔にならないように
、その供給経路以外の装置本体７のカバーフレームの内
部に取り付けられている。

このように、積層体１及びＩＢの供給経路に薄膜供給検
出装置８を設けることにより、積層体１及びＩＢの供給
時の供給状態を検出することができる。つまり、薄膜供
給検出装置８は、後述する偏熱圧着動作時、熱圧着うミ
ネート動作時、積層体ＩＢの切断動作時等、積層体１又
はＩＢが供給される時に、その供給が正確に行われてい
るが否かを検出することができる。積層体１又はＩＢの
供給が正確に行われていない場合は、検出部８Ｃの出力
信号でアラーム等の異常警報装置（図示していない）を
動作させ、作業者に知らせることができる。また、自動
的に、薄膜張付装置を停止させることができる。すなわ
ち、薄膜供給検出装置８は、プリント配線板の製造上の
歩留りを向上することができる。

なお、薄膜供給検出装置８は、積層体１及びＩＢの供給
経路内のどの場所に設けてもよいが、薄膜分離ローラ３
に設けることが有利である。つまり、薄膜分離ローラ３
は、複雑な構成を必要とせず、又、回転以外の可動を必
要としないので、簡単に薄膜供給検出装置８を取り付け
ることができる。

前記薄膜分離ローラ３で分離された積層体ＩＢの供給方
向の先端部は、第１図及び第２図に示すテンションロー
ラ９を通してメインバキュームプレート１０に吸着され
るように構成されている。

テンションローラ９は、供給ローラ２とメインバキュー
ムプレート１０との間の積層体ＩＢに適度なテンション
を与えるように構成されている。つまり、テンションロ
ーラ９は、供給されるｖｔ層体ＩＢにしわ等を生じない
ように構成されている。

メインバキュームプレート（薄膜供給部材）１０は。

積層体ＩＢを供給ローラ２から絶縁性基板１１の導電層
（例えば、Ｃｕ層）上に供給するように構成されている
。メインバキュームプレート１０は、第１図及び第４図
（要部拡大構成図）で示すように、絶縁性基板１１に近
接しかつ離反する（矢印Ｂ方向に移動する）支持部材１
２に設けられている。支持部材１２は、ガイド部材７Ａ
を矢印Ｂ方向に摺動可能なように、装置本体（薄膜張付
装置の筐体）７に設けられている。支持部材１２は、絶
縁性基板１１の搬送経路を中心に、上下、一対に設けら
れている。

上部の支持部材１２と下部の支持部材１２とは、ラック
アンドピニオン機構により連動的に動作する（両者が同
時に近接又は離反する）ように構成されている。つまり
、上下、一対の支持部材１２は。

夫々に設けられたラック１２Ａと、このラック１２Ａと
嵌合するピニオン１２Ｂとで連動的に動作する。

この支持部材１２の動作は、下部の支持部材１２に設け
られた駆動源１２Ｇで行われる。駆動源１２Ｃは、例え
ば、エアーシリンダで構成する。また、駆動源１２Ｇは
、油圧シリンダ又は電磁シリンダ、或はステップモータ
及びその変位を支持部材１２に伝達する伝達機構等で構
成することができる。

前記メインバキュームプレート１０は、絶縁性基板１１
に近接しかつ離反する（矢印Ｃ方向に移動する）ように
、支持部材１２に設けられている。メインバキュームプ
レート１０は、支持部材１２に設けられた駆動源１２Ｄ
と、ラックアンドピニオン機構とで動作するように構成
されている。このラックアンドピニオン機構は、駆動源
１２Ｄに設けられたピニオン１２Ｅ、支持部材１２に設
けられたラック１２Ｆ、メインバキュームプレート１０
に設けられたラック１０Ａで構成されている。駆動源１
２Ｄは、駆動源１２Ｃと同様のもので構成する。

メインバキュームプレート１０には、第５図（部分断面
斜視図）で示すように、積層体ＩＢの供給方向と略直交
する供給幅方向に延在する溝部１０Ｂが搬送方向に複数
設けられている。溝部１０Ｂの長さく積層体ＩＢの供給
幅方向と同一方向の長さ）は、供給幅方向の積層体ＩＢ
の寸法と略同−の寸法で構成され、溝部１０Ｂを積層体
ＩＢが覆うように構成されている。溝部１０Ｂの底部に
は、積層体ＩＢを吸着させるための吸着孔１０Ｃが複数
設けられている。図示していないが、吸着孔１０Ｃは、
排気管を通して、真空ポンプ等の真空源に接続されてい
る。メインバキュームプレート１０の吸着動作、後述す
る仮付部１０Ｅの吸着動作の夫々は、独立に制御される
ように構成されている。溝部１０Ｂの端部１０Ｄは、メ
インバキュームプレート１０の端部から中央部に掘り下
げたテーパ形状に構成されている。

この端部１０Ｄ（テーパ部）には、メインバキュームプ
レート１０に吸着される積層体ＩＢの端部が位置するよ
うになっている。

このテーパ形状に構成された端部１０Ｄは、溝部１０Ｂ
と積層体ＩＢとの吸着面積を最大限に確保して吸着効果
を高めると共に、積層体ＩＢの吸着時に、溝部１０Ｂと
積層体ＩＢとの吸着位置にずれが若干生じても、溝部１
０Ｂの端部１０Ｄで、　ｆＪ層体１Ｂの端部と端部１０
Ｄとの吸着性を向上することができる。

積層体ＩＢの供給方向におけるメインバキュームプレー
ト１０の先端部には、積層体ＩＢを吸着する面が円孤形
状に形成された仮付部１０Ｅが設けられている。仮付部
１０Ｅは、メインバキュームプレート１０と一体に構成
されている。仮付部１０Ｅの内部には、第１図及び第４
図に示すように、円孤形状部分を加熱するヒータＩＯＦ
が設けられている。

仮付部１０Ｅは、メインバキュームプレート１０で供給
される積層体ＩＢの先端部を、絶縁性基板１１に仮り付
け（偏熱圧着）するように構成されている。

なお１本発明は、メインバキュームプレート１０と仮付
部１０Ｅとを、夫々、別部材で構成し１両者を支持部材
１２に構成してもよい。

前記仮付部１０Ｈに近接した位置、つまり、仮付部１０
Ｅと絶縁性基板１１との間の積層体ＩＢの供給経路の近
傍には、サブバキュームプレート（薄膜保持部材）１３
が設けられている。サブバキュームプレート１３は、吸
引孔を図示していないが、第４図に示すように、上部吸
着部１３ａと下部吸着部１３ｂとを有し、コの字形状に
構成されている（このコの字部分は積層体ＩＢの切断位
置に相当する）。

サブバキュームプレート１３の上部吸着部１３ａは、主
に、供給方向の積層体ＩＢの先端部を吸着し、仮付部１
０Ｅに吸着（保持）させるように構成されている。サブ
バキュームプレート１３は、積層体ＩＢの先端部を仮付
部１０Ｅに吸着可能なように、積層体ＩＢの供給経路に
対して近接及び離反（矢印り方向に移動）する例えばエ
アーシリンダからなる駆動源１３Ａを介して、支持部材
１２に取り付けられている。

また、サブバキュームプレート１３の下部吸着部１３ｂ
は、連続した積層体ＩＢを切断装置１４で切断し、この
切断された積層体ＩＢの後端部を吸着し、積層体ＩＢの
供給経路内に保持するように構成されている。下部吸着
部１３ｂは、熱圧着ラミネート開始後１回転バキューム
プレート１５との間において、第４図に示すように、積
層体ＩＢにたるみを形成する（たるみを持たせた積層体
ＩＢ’　を形成する）ように構成されている。このたる
みを持たせた積層体ＩＢ’は、熱圧着ローラ１６の周速
度（熱圧着ラミネート速度）に対して、メインバキュー
ムプレート１０の積層体ＩＢの供給速度を速く制御する
ことにより形成することができる。両者の制御は、図示
していないが、シーケンス制御回路により行われるよう
になっている。

なお、サブバキュームプレート１３の駆動源１３Ａとし
ては、エアーシリンダの他に前記駆動源１２Ｃと同様に
、油圧シリンダ等で構成することができる。

前記仮付部１０Ｅと絶縁性基板１１との間（実際には、
仮付部１０Ｅと回転バキュームプレート１５との間）の
積層体ＩＢの供給経路の近傍の装置本体７には、切断装
置１４が設けられている。詳述すれば、切断装置１４は
、積層体ＩＢの後端部を切断位置まで供給した時のサブ
バキュームプレート１３に対向した位置に構成されてい
る。切断装置１４は、絶縁性基板１１を搬送する前段搬
送装置１７側に構成されている（又はこの前段搬送装置
１７に構成してもよい）、切断装置１４は、メインバキ
ュームプレート１０で連続的に供給される積層体ＩＢを
絶縁性基板１１の寸法に対応して所定の長さに切断する
ように構成されている。

この切断装置１４の具体的な構成を第６図（第４図の矢
印■方向から見た概略平面図）及び第７図（第６図の■
−■線で切った断面図）で示す。

切断装置１４は、第６図及び第７図に示すように。

主に、ガイド部材１４Ａと、移動部材１４Ｂと、円板状
カッター１４Ｃとで構成されている。

ガイド部材１４Ａは、積層体ＩＢの供給幅方向に延在し
、その両端部（又は一端部）が装置本体７に固定されて
いる。この固定は、ねじ、ボルト、ナツト、ビス、接着
剤等の固定手段で行なわれる。

ガイド部材１４Ａには、積層体ＩＢの供給幅方向（第６
図に示す矢印Ｅ方向）において、移動部材１４Ｂを正確
に移動できるように、移動部材１４Ｂの凸部（又は凹部
）１４ｂと嵌合する凹部（又は凸部）１４ａが設けられ
ている。

移動部材１４Ｂは、ガイド部材１４Ａに沿って矢印Ｅ方
向に移動するように構成されている。移動部材１４Ｂは
、ガイド部材１４Ａに沿って延在しかつ両端部が装置本
体７に支持された中空管１４Ｄ内を、矢印Ｅ゛方向移動
する中空管内移動部材１４Ｅと接続されている。中空管
内移動部材１４Ｅの移動は。

中空管１４Ｄの夫々の端部から空気（ａｉｒ）等の流体
を吹き込む（又は吸引する）ことにより行われる。

つまり、中空管内移動部材１４Ｅは、第６図において、
中空管１４Ｄの左側から流体を吹き込むと左側から右側
に移動し、中空管１４Ｄの右側から流体を吹き込むと右
側から左側に移動するように構成されている。中空管内
移動部材１４Ｅは、移動部材１４Ｂを移動させるように
構成されている。中空管１４Ｄ内に吹き込む流体として
は、空気の他に、不活性ガス等の気体、水、油等の液体
を用いてもよい。

また、移動部材１４Ｂは、エアーシリンダ、油圧シリン
ダ、モータ等で移動するように構成してもよい。

円板状カッター１４Ｃは、移動部材１４Ｂの移動に従っ
て回転し、少なくともその円周部に積層体１Ｂを切断す
る刃部が設けられている８円板状カッター１４Ｃの回転
は、回転軸１４Ｆに設けられた歯車（ピニオン）１４Ｇ
を介在し、回転軸１４Ｈに設けられた歯車１１とラック
１４Ｊとの嵌合により与えられる。ラック１４Ｊは１両
端部（又は一端部）が装置本体７に固定されている。ラ
ック１４Ｊと歯車１４Ｉとの嵌合は、移動部材１４Ｂに
設けられた保持ローラ１４Ｌにより安定に保持される。

円板状カッター１４Ｇは例えば高速度工具鋼等の金属材
料で構成されており、少なくとも刃部の表面にはポリテ
トラフルオロエチレンが塗布されている。ポリテトラフ
ルオロエチレンは、化学薬品に対する不活性、熱的安定
性に優れており、摩擦係数が小さく、又、他の材料へ付
着しづらい特徴がある。特に、薄膜張付装置においては
、積層体ＩＢの切断により生じる微小で種々の化学薬品
を含有する切り屑が刃部に付着し１円板状カッター１４
Ｃの切れ味を劣化し易いので、ポリテトラフルオロエチ
レンの塗布は有効である。

円板状カッター１４Ｇの近傍の移動部材１４Ｂには、主
に１作業者の安全を確保するために、円板状カッター１
４Ｃを覆う保護カバー１４Ｋが設けられている。

この切断装置１４は、移動部材１４Ｂがガイド部材１４
Ａを一方向に移動することにより、この移動で与えられ
る円板状カッター１４Ｃの回転で、絶縁性基Ｆｉｉｉの
長さに対応した寸法に積層体ＩＢを切断することができ
る。また１円板状カッター１４Ｃは。

往復の移動によりｆ１！層体ＩＢを２個所切断すること
ができるので、積層体ＩＢの切断時間を短縮することが
できる。

このように構成される薄膜張付装置において、メインバ
キュームプレート１０とサブバキュームプレート１３と
を支持部材１２に設け、この支持部材１２を絶縁性基板
１１に近接及び離反するように装置本体７に設け、積層
体ＩＢを切断する切断装置１４を仮付部１０Ｅと絶縁性
基板１１との間の積層体ＩＢの供給経路の近傍の装置本
体７に固定したことにより、前記支持部材１２で支持す
る部材の重量を軽くしたので、駆動能力（容量）の小さ
な駆ａｉｌＷ１２ｃで支持部材１２を駆動することがで
きる。

また、支持部材１２に支持される部品点数を低減するこ
とができるので、支持部材１２及びその周辺の構成を簡
単化し、薄膜張付装置を小型化することができる。

また、駆動源１２Ｃ等を小型化することができるので、
薄膜張付装置の製造上のコストを低減することができる
。

また、切断装置１４は１円板状カッター１４Ｇを移動さ
せる構成に代えて、超音波、レーザビーム等を使用した
ビームカッターで構成してもよい、さらに、切断装置１
４は、積層体ＩＢの供給幅方向に、積層体ＩＢの供給幅
寸法と略同等又はそれよりも大きな寸法の刃部を有する
カッター、例えばギロチンカッター、帯状カッター、加
熱もしくは非加熱ワイヤー状カッター、ナイフ状カッタ
ー等で構成してもよい、これらの切断装置１４は、−度
の動作で、略瞬時に、積層体ＩＢの切断部分の全域を切
断することができる。

前記メインバキュームプレート１０の仮付部１０Ｅで絶
縁性基板１１の導電層上に先端部が仮り付け（偏熱圧着
）される積層体ＩＢは、熱圧着ローラ１６でその全体が
熱圧着ラミネートされるように構成されている。熱圧着
ローラ１６は、積層体ＩＢの先端部を仮付部１０Ｅで仮
り付けする仮付動作時は、第１図に符号１６′　を符し
た点線で示す位置に配置されかつ回転している。熱圧着
ローラ１６は、仮付動作時に、仮付部１０Ｅと接触しな
いように構成されている。仮付動作後の熱圧着ローラ１
６は、符号１６′　を示す点線で示した位置から実線で
示す位置。

つまり、積層体ＩＢを介在して絶縁性基板１１を挟持す
る位置に移動するように構成されている。積層体ＩＢを
介在して絶縁性基板１１を挟持した熱圧着ローラ１６は
、第４図に示す矢印Ｆ方向に回転し、積層体ＩＢを絶縁
性基板１１の導電層上に熱圧着ラミネートすると共に、
この絶縁性基板１１を搬送するように構成されている。

熱圧着ラミネート工程中においては、メインバキューム
プレート１０及びサブバキュームプレート１３の積層体
ＩＢの吸着動作は停止している。すなわち、熱圧着ロー
ラ１６には、その回転力と、絶縁性基板１１との挟持力
とで、積層体ＩＢが供給ローラ２から自動的に供給され
るように構成されている。

前記切断装置１４で切断された積層体ＩＢの後端部は、
三角形状の回転バキュームプレート１５でしわ等を生じ
ないようにガイドされ、熱圧着ローラ１６で熱圧着ラミ
ネートされるように構成されている０回転バキュームプ
レート１５は、熱圧着ローラ１６と同一軸に支持されか
つそれを中心に回転するように構成されており、図示し
ていないが、積層体ＩＢと対向する吸着面には、複数の
吸引孔１５Ａが設けられている。前記吸着孔１５Ａが配
設された吸着面の構造は、第５図に示すメインバキュー
ムプレート１０の吸着面と同様の構造になっている。

図示しないが１回転バキュームプレート１５の上面にも
吸引孔を設けてもよく、このように構成することにより
、第４図に示すように、たるみを持たせた積層体ＩＢ’
　をより形成し易くすることができる。

前記絶縁性基板１１は、搬送ローラ（下段）１７Ａと搬
送ローラ（上段）１７Ｂとで構成される前段搬送装置１
７により、ｙａ膜膜付付装置積層体ＩＢの仮付位置まで
搬送される。また、搬送ローラ（下段）１８Ａと搬送ロ
ーラ（上段）１８Ｂとで構成される後段搬送装置１８は
、薄膜張付装置の熱圧着ローラ１６で積層体ＩＢが熱圧
着ラミネートされた絶縁性基板１１を配線パターンを形
成する露光装置まで搬送するように構成されている。

前記メインバキュームプレート１０の仮付部１０Ｅの移
動経路（Ｖ＃膜供給経路）近傍の装置本体７（又は前段
搬送装置１７、或は支持部材１２）には、第１図及び第
４図に示すように、薄膜矯正装Ｅ１１９が設けられてい
る。薄膜矯正装置１９は、仮付部１０Ｅに密着させる方
向に積層体ＩＢの供給方向の先端部を矯正するように構
成されている。薄膜矯正装置１９は、積層体ＩＢの供給
幅方向に延在して設けられた流体搬送管１９Ａと、この
流体搬送管１９Ａに複数設けられた流体吹付孔１９Ｂと
で構成されている。

流体搬送管１９Ａは、内部が中空にも育成されており、
常圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。

流体搬送管１９Ａの断面形状は、本実施例では略円形状
に構成されているが、これに限定されず、方形状又は楕
円形状に構成してもよい。

流体吹付孔１９Ｂは、積層体ＩＢを矯正する方向（第４
図に示す矢印Ｇ方向）に流体を吹き付けるように設けら
れている。

薄膜矯正装置１９で使用する流体としては、空気を使用
する。また、流体としては、不活性ガス等の気体、水、
油等の液体を用いてもよい。

このように、薄膜張付装置において、供給方向の積層体
ＩＢの先端部を仮付部１０Ｅに密着させる方向に矯正す
る薄膜矯正装置１９を、前記仮付部１０Ｅの移動経路の
近傍の装置本体７（又は支持部材１２或は前段搬送装置
１７）に設けたことにより、積層体ＩＢの先端部を確実
に仮付部１０Ｈに密着させることができるので、絶縁性
基板１１の導電層上に確実に積層体ＩＢの先端部を仮り
付け（偏熱圧着）することができる。

さらに、サブバキュームプレート１３の下部吸着部１３
ｂと回転バキュームプレート１５との間に供給される積
層体ＩＢ（ＩＢ’）に近接した装置本体７（又は前段搬
送装置１７、或は支持部材１２）には、第１図及び第４
図に示すように、薄膜突出装置２０が設けられている。

つまり、薄膜突出装置２０は、熱圧着ローラ１６に密着
させる方向に前記たるみを持たせた積層体ＩＢ’　を形
成するように構成されている。薄膜突出装置２０は、積
層体ＩＢの供給幅方向に延在して設けられた流体搬送管
２０Ａと、この流体搬送管２ＯＡに複数設けられた流体
吹付孔２０Ｂとで構成されている。

流体搬送管２ＯＡは、内部が中空に構成されており、常
圧よりも高圧力の流体を流すように構成されている。流
体「α送管２０Ａの断面形状は１本実施例では略円形状
に構成されているが、流体搬送管１９Ａと同様に、これ
に限定されず、方形状又は楕円形状に構成してもよい。

流体吹付孔２０Ｂは、積層体ＩＢ’の前記たるみを前述
のように突出させる方向（第４図に示す矢印Ｈ方向）に
流体を吹き付けるように設けられている。

薄膜突出装置２０で使用する流体としては、３膜矯正装
置１９と同様に、空気を使用する。また、流体としては
、不活性ガス等の気体、水、油等の液体を用いてもよい
。

このように、薄膜張付装置において、熱圧着ローラ１６
に密着させる方向に前記たるみを持たせた積層体ＩＢ’
　を矯正する薄膜突出装置２０を、積層体ＩＢ’の近傍
の装置本体７（又は支持部材１２或は前段搬送装置１７
）に設けたことにより、積層体ＩＢ’　を確実に熱圧着
ローラ１６に密着させる方向にたるみを持たせることが
できるので、特に１回転バキュームプレートｉ５に積層
体ＩＢの後端部を確実に吸着させることができる。従っ
て、しｂ等を生じることなく、絶縁性基板１１の導電層
上に涌実に積層体ＩＢの後端部を熱圧着ラミネートする
ことができる。

なお、本発明は、薄膜矯正装置１９又は４膜突８Ｊ。

装置２０を、積層体ＩＢの供給幅方向に複数設けられた
、積層体ＩＢを前述の如く適正な方向に矯正又は突出さ
せるように流体を吹き付ける流体吹付ノズルで構成して
もよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１９又は薄膜突出装置２
０を、積層体ＩＢの供給幅方向に延在して設けられた吸
引管と、この吸引管に複数設けられた。

積層体ＩＢを前述の如く適正な方向に矯正又は突出させ
る方向に吸引する吸引孔とで構成してもよい。

また１本発明は、薄膜矯正装ｖ１１９又は薄膜突出装置
２０を、積層体ＩＢを前述の如く適正な方向に穀圧又は
突出させる突状部材で構成してもよい。

また、本発明は、薄膜矯正装置１９を薄膜突出装置２０
で、若しくは薄膜突出装置２０を薄膜矯正装置１９で兼
用することも可能である。

前記熱圧着ローラ１６と後段搬送装置１８の搬送ローラ
１８Ａとの間の装置本体７（又は後段搬送装置１８）に
は、第１図及び第４図に示すように、基板ガイド部材２
１が設けられている。基板ガイド部材２１は、積層体Ｉ
Ｂが熱圧着ラミネートされた絶縁性基板１１を、熱圧着
ラミネート位置から搬送ローラ１８Ａ及び１８Ｂの位置
までガイドするように構成されている。基板ガイド部材
２１は、例えば、絶縁性基板１１の搬送方向に延在する
棒状部をその搬送幅方向に複数配置したクシ型形状で構
成する。クシ型形状に構成された基板ガイド部材２１は
、絶縁性基板１１の搬送に際して、絶縁性基板１１との
接触面積を小さくし摩擦抵抗を小さくできるので、スム
ーズに絶縁性基板１１をガイドすることができる。

このように、前記熱圧着ローラ１Ｇと後段搬送装置１８
の搬送ローラ１８Ａとの間に基板ガイド部材２１を設け
ることにより、特に、薄い絶縁性基板１１においては、
熱圧着ラミネート後の搬送方向の先端部の垂れ下りを防
止し、搬送ローラ１８Ａ及び１８Ｂに確実に導びき、搬
送することができるので、後段搬送装置１８（絶縁性基
板１１の搬送経路）におけるトラブルを防止することが
できる。特に、本実施例の薄膜張付装置の搬送装置にお
いては、仮付動作を行うために、熱圧着ローラ１６が符
号１６°を付けた点線で示す位置から実線で示す位置ま
で移動する空間が必要となり、熱圧着ローラ１６と搬送
ローラ１８Ａとの間にかなりの空間（ｖＯ送距離）が形
成されるので、基板ガイド部材２１は有効である。

なお１本発明は、基板ガイド部材２１を網状構造で構成
してもよい。

また１本発明は、基板ガイド部材２１を板状構造で構成
してもよい。

次に、本実施例の薄膜張付装置による積層体ＩＢの熱圧
着ラミネート方法について、前記第１図、第４図、第８
図乃至第１０図（各工程毎の要部拡大構成図）を用いて
簡単に説明する。

まず最初に、手作業により、薄膜分離ローラ３で分離さ
れた積層体ＩＢの供給方向の先端部を。

サブバキュームプレート１３と切断装置１４との間に配
置する。

次に、前段搬送装置ｉ！１７の搬送ローラ１７Ａ及び１
７Ｂで搬送される絶縁性基板１１の搬送方向の先端部が
仮付位置に搬送されると、サブバキュームプレート１３
で積層体ＩＢの先端部を吸着する。積層体ＩＢの吸着後
、駆動源１３Ａで積層体ＩＢの供給経路から離反する位
置にサブバキュームプレート１３を移動させ、第８図に
示すように、仮付部１０Ｅに積層体ＩＢの先端部を吸着
させる。この時、メインバキュームプレート１０及び仮
付部１０Ｅの吸着動作が行われると共に、薄膜矯正装置
１９で積層体ＩＢを矯正できるので、仮付部１０Ｅに積
層体ＩＢの先端部を確実に吸着させることができる。な
お、連続動作が行ねれている時は、切断装置工４で切断
された積層体ＩＢの先端部が仮付部１０Ｅに吸着される
。

この後、駆動源１２Ｃで支持部材１２を移動させ、メイ
ンバキュームプレート１０及びサブバキュームプレート
１３を絶縁性基板１１に近接する方向に移動させる。こ
の移動と共に、駆動源１２Ｄで支持部材１２に対してメ
インバキュームプレート１０をさらに移動させ、第９図
に示すように、仮付部１０ヒに吸着された積層体ＩＢの
先端部を絶縁性基板１１の導電層上に仮り付け（偏熱圧
着）する。

積層体ＩＢの仮り付は後、メインバキュームプレート１
０及び仮付部１０Ｅの吸着動作を停止し、第１０図に示
すように、駆動源１２Ｇ及び１２Ｄでメインバキューム
プレート１０、仮付部１０Ｅ及びザブバキュームプレー
ト１３を仮付位置から離反させる。

この離反は、前記第８図に示す積層体ＩＢを仮付部１０
Ｅへ吸着する工程における位置に比べてさらに離反する
位置に、駆動源１２Ｇでメインバキュームプレート１０
及びサブバキュームプレート１３を移動させる。この移
動量は、積層体ＩＢ’　に持たせるたるみ量に比例する
。このとき、支持部材１２の駆動源１２Ｃは、前述した
ように、切断装置工４を装置本体７に固定しているので
、小型化或は駆動能力を高めて動作速度の高速化を図る
ことができる。

この後、符号１６′　を付けて点線で示す位置から実線
で示す仮付位置に熱圧着ローラ１６を近接させる。そし
て、この熱圧着ローラ１６で積層体ＩＢの先端部が仮り
付けされた絶縁性基板１１を挟持し回転することにより
、絶縁性基板１工の導電層上に積層体ＩＢを熱圧着ラミ
ネートする。この時、メインバキュームプレート１０、
仮付部１０Ｅ、サブバキュームプレート１３の夫々の吸
着動作は停止しているので、熱圧着ローラ１６には、そ
の回転力と、絶縁性基板１１との挟持力とで、積層体Ｉ
Ｂが供給ローラ２から自動的に供給されるようになって
いる。

積層体ＩＢが、一定量、熱圧着ラミネートされると、メ
インバキュームプレート１０、サブバキュームプレート
１３、回転バキュームプレート１５の夫々の吸着動作が
実質的に同時に開始される。そして、第１０図に示す状
態から、駆動源１２Ｇで支持部材１２を移動させ、メイ
ンバキュームプレート１０で′Ｍ層体重Ｂを絶縁性基板
１工に供給すると共に。

前記第４図に示すように、サブバキュームプレート１３
の下部吸着部１３ｂで積層体ＩＢの後端部（切断位置）
を切断装置１４の切断位置に一致させる。

積層体ＩＢの供給速度（支持部材１２の移動速度）は、
熱圧着ローラ１６による熱圧着ラミネート速度（熱圧着
ローラ１６の周速度）よりも速く設定されている。

このように、メインバキュームプレート１０とサブバキ
ュームプレート１３とを支持部材１２に設け、この支持
部材１２を絶縁性基板１１に近接及び離反するように装
置本体７に設けたことにより、メインバキュームプレー
ト１０の吸着動作と実質的に同時に、＃Ｉｔ層体体重の
後端部（切断位置）をサブバキュームプレート１３で吸
着し、メインバキュームプレート１０とサブバキューム
プレート１３とを支持部材１２で移動させて、切断装置
１４の切断位置に積層体ＩＢの切断位置を一致させるこ
とができるので、メインバキュームプレート１０とサブ
バキュームプレート１３との間の積層体ＩＢに不必要な
たるみを生じることがなくなる。つまり、第１０図に示
す。

メインバキュームプレート１０とサブバキュームプレー
ト１３の円板状カッター１４Ｃが作用する位置（コの字
形状部）との距離工は、第４図に示す積層体ＩＢの切断
位置と切断装置１４の切断位置とを一致させた状態にお
いても変化することがない。

したがって、積層体ＩＢの切断位置と切断装置１４の切
断位置とを正確に一致させることができるので、絶縁性
基板１１の寸法に対して正確な寸法に積層体ＩＢを切断
し、熱圧着ラミネートすることができ、製造上の歩留り
を向上することができる。

しかも、前述のように、メインバキュームプレート１０
及びサブバキュームプレート１３を設けた支持部材１２
は、切断装置１４を装置本体７に固定しているので、小
さな駆動能力の駆動源１２Ｃで駆動させることができる
。

前記積層体ＩＢの供給後及び積層体ＩＢの切断位置を切
断装置１４の切断位置に一致させると、サブバキューム
プレート１０と回転バキュームプレート１５との間にた
るみを持たせた積層体ＩＢ’　を形成することができる
。このたるみを持たせた積層体ＩＢ″の供給方向の両端
部は、薄膜矯正装置２０の矯正により、サブバキューム
プレート１３の下部吸着部１３ｂ、回転バキュームプレ
ート１５の夫々に確実に吸着させることができる。

この状態において、切断装置１４により、積層体ＩＢの
後端部（切断部１！りが絶縁性基板１１の寸法に対応し
た所定寸法に切断される。

この後、切断装置１４で切断された積層体ＩＢの後端部
が回転バキュームプレート１５に吸着されると、熱圧着
ローラ１６の回転速度より若干遅い速度で回転バキュー
ムプレート１５が回転し、絶縁性基板１１の導電層上に
ｙｉ層体重Ｂの後端部を熱圧着ラミネートすることがで
きる０回転バキュームプレート１５は、熱圧着ローラ１
６の回転速度より若干遅い速度で回転すると、熱圧着ロ
ーラ１６との間の積層体ＩＢに適度なテンションを与え
ることができるので、積層体ＩＢにしわ等を生じること
がない。

積層体ＩＢが熱圧着ラミネートされた絶縁性基板１１は
、熱圧着ローラ１６の回転力により、基板ガイド部材２
１を通して、トラブルを生じることなく、後段搬送装置
１８の搬送ローラ１８Ａ及び１８Ｂに搬送される。後段
搬送装置１８に搬送された絶縁性基板１１は、露光装置
に搬送される。

以上１本発明者によってなされた発明を、前記実施例に
基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲にお
いて１種々変形し得ることは勿論である。

例えば１本発明は、前記サブバキュームプレート１３を
、仮付部１０　Ｅに積層体ＩＢの供給方向の先端部を吸
着させるサブバキュームプレートと、前記切断装置１４
のホルダとして使用されるサブバキュームプレートとで
構成し、夫々を独立に制御してもよい。

また、本発明は、前記実施例の絶縁性基板１１を予熱し
た後、この絶縁性基板１１に積層体ＩＢを非加熱圧着ロ
ーラで熱圧着ラミネートする薄膜張付装置に適用するこ
とができる。

また、本発明は、建築材として使用される化粧板に保護
膜を張り付ける薄膜張付装置に適用することができる。

（３）発明の効果本発明によれば、連続した薄膜を所定の寸法に切断し、
この切断された薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置に
おいて、前記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部
材を支持部材に取り付け。

該支持部材を基板に近接及び離反するように装置本体に
設け、前記連続した薄膜の切断部分を薄膜供給経路内に
保持する薄膜保持部材を前記支持部材に設け、該薄膜保
持部材で保持される連続した薄膜を所定寸法に切断する
切断装置を、前記薄膜供給部材と基板との間の薄膜供給
経路の近傍の装置本体に固定したことにより、前記薄膜
供給部材と薄膜保持部材とを支持部材に設け、薄膜供給
部材で薄膜を保持すると同時に、薄膜保持部材で薄膜の
切断位置を保持し、この状態で前記切断装置で茫膜を切
断することができるので、薄膜供給部材と薄膜保持部材
との間の薄膜のたるみをなくシ。

薄膜の切断位置と切断装置の切断位置とを正確に一致さ
せることができると共に、前記切断装置を装置本体に固
定し、前記支持部材の重量を軽くしたので、駆動能力の
小さな駆動源で支持部材を駆動することができる。

また、薄膜の切断位置と切断装置の切断位置とを可確に
一致させることができるので、薄膜を正確な寸法で切断
し、製造上の歩留りを向上することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例である薄膜張付装置の概略
構成図。第２図は、前記第１図の要部斜視図、第３図は、前記第２図に示す薄膜供給検出装置の要部拡
大斜視図。第４図は、前記第１図の要部拡大構成図、第５図は、前
記第１図及び第４図に示すメインバキュームプレートの
部分断面斜視図、第６図は、前記第４図における矢印■
方向から見た概略平面図。第７図は、前記第６図の■−■線で切った要部断面図、第８図乃至第１０図は、熱圧着ラミネート方法を説明す
るために、各工程毎に示す前記第１図の要部拡大構成図
である。図中、ＩＢ・・・積層体（薄膜）、２・・・供給ローラ
。３・・・薄膜分離ローラ、４・・・巻取ローラ、７・・
・装置本体、８・・・薄膜供給検出装置、１０・・・メ
インバキュームプレート（薄膜供給部材）、ＩＯＥ・・
・仮付部、１１・・・絶縁性基板、１２・・・支持部材
、１２Ｃ，１２Ｄ、１３Ａ・・・駆動源、１３・・・サ
ブバキュームプレート（薄膜保持部材）、１４・・・切
断装置、１４Ａ・・・ガイド部材、１４Ｂ・・・移動部
材、１４Ｇ・・・円板状カッター、１５・・・回転バキ
ュームプレート（回転吸着部材）、１６・・・熱圧着ロ
ーラ、１７．１８・・・搬送装置、１７Ａ、１７Ｂ、１
８Ａ。１８Ｂ・・・搬送ローラ、１９・・・薄膜矯正装置、２
０・・・薄膜突出装置、２１・・・基板ガイド部材であ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）連続した薄膜を所定の寸法に切断し、この切断さ
れた薄膜を基板に張り付ける薄膜張付装置において、前
記連続した薄膜を基板に供給する薄膜供給部材を支持部
材に取り付け、該支持部材を基板に近接及び離反するよ
うに装置本体に設け、前記連続した薄膜の切断部分を薄
膜供給経路内に保持する薄膜保持部材を前記支持部材に
設け、該薄膜保持部材で保持される連続した薄膜を所定
寸法に切断する切断装置を、前記薄膜供給部材と基板と
の間の薄膜供給経路の近傍の装置本体に固定したことを
特徴とする薄膜張付装置。
（２）前記薄膜供給部材は、支持部材に対して、基板に
近接及び離反するように構成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項に記載の薄膜張付装置。
（３）前記薄膜保持部材は、薄膜供給経路に近接及び離
反するように構成されていることを特徴とする特許請求
の範囲第１項又は第２項に記載の薄膜張付装置。
（４）前記薄膜供給部材は、薄膜供給方向側に仮付部が
設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
乃至第３項に記載の夫々の薄膜張付装置。
（５）前記切断装置は、薄膜供給方向に対して略直角を
なす薄膜の幅方向に延在して設けられたガイド部材と、
該ガイド部材に沿って移動する移動部材と、該移動部材
に設けられた円板状カッターとで構成されていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項に記載の夫
々の薄膜張付装置。
（６）前記切断装置のガイド部材の近傍には、ガイド部
材に沿ってラックが設けられ、前記移動部材には、前記
ラックに嵌合して前記円板状カッターを回転させるピニ
オンが設けられていることを特徴とする特許請求の範囲
第５項に記載の薄膜張付装置。
（７）前記切断装置の移動部材は、流体によってガイド
部材を移動するように構成されていることを特徴とする
特許請求の範囲第５項又は第６項に記載の薄膜張付装置
。
（８）前記切断装置の円板状カッターは、刃部分にポリ
テトラフルオロエチレンが塗布されていることを特徴と
する特許請求の範囲第５項又は第７項に記載の薄膜張付
装置。