JPS641040Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS641040Y2 JPS641040Y2 JP1982168003U JP16800382U JPS641040Y2 JP S641040 Y2 JPS641040 Y2 JP S641040Y2 JP 1982168003 U JP1982168003 U JP 1982168003U JP 16800382 U JP16800382 U JP 16800382U JP S641040 Y2 JPS641040 Y2 JP S641040Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- draft tube
- liquid
- treated
- liquid contact
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Aeration Devices For Treatment Of Activated Polluted Sludge (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、省エネルギー化を目的とした、水処
理用の気液接触装置に関するものである。
理用の気液接触装置に関するものである。
水処理分野における気液接触装置は、主に好気
性生物処理における酸素供給装置とオゾン酸化処
理におけるオゾン供給装置に大別さる。前者のう
ち最も一般的なものは活性汚泥処理における曝気
槽であり、通常、空気または酸素富裕ガスを散気
装置から送入し被処理液中に酸素を供給するもの
である。後者においてのそれはオゾン酸化槽であ
り、オゾン化空気を散気装置から送入し被処理液
中にオゾンを供給するものである。
性生物処理における酸素供給装置とオゾン酸化処
理におけるオゾン供給装置に大別さる。前者のう
ち最も一般的なものは活性汚泥処理における曝気
槽であり、通常、空気または酸素富裕ガスを散気
装置から送入し被処理液中に酸素を供給するもの
である。後者においてのそれはオゾン酸化槽であ
り、オゾン化空気を散気装置から送入し被処理液
中にオゾンを供給するものである。
一般に、上記気液接触装置においては気液接触
槽の水深を深くすることによりガス吸収効率は増
大するが、ガスの送入圧力も同時に高くなり、エ
ネルギー的には省力化にならないとされている。
槽の水深を深くすることによりガス吸収効率は増
大するが、ガスの送入圧力も同時に高くなり、エ
ネルギー的には省力化にならないとされている。
本考案は、このような問題点を解消し、省エネ
ルギー的にガス体を被処理液に供給すると共に、
供給されたガス体を効率良く該液中に混合・吸収
させることができる気液接触装置を提供すること
を目的とするものである。
ルギー的にガス体を被処理液に供給すると共に、
供給されたガス体を効率良く該液中に混合・吸収
させることができる気液接触装置を提供すること
を目的とするものである。
本考案は第１図に示したように、原水流入口
１、処理水流出口８を備えた気液接触槽２の水面
下に垂直方向にドラフトチユーブ４を配備すると
共に、ドラフトチユーブ４内に、その上端からそ
の長さの3/5〜4/5の位置に気体送入管３の開口端
を、該開口端より上方位置にスタテツクミキサー
５をそれぞれ設け、さらにドラフトチユーブ４よ
り上方にバツフルプレート１０を設けたことを特
徴とする気液接触装置である。
１、処理水流出口８を備えた気液接触槽２の水面
下に垂直方向にドラフトチユーブ４を配備すると
共に、ドラフトチユーブ４内に、その上端からそ
の長さの3/5〜4/5の位置に気体送入管３の開口端
を、該開口端より上方位置にスタテツクミキサー
５をそれぞれ設け、さらにドラフトチユーブ４よ
り上方にバツフルプレート１０を設けたことを特
徴とする気液接触装置である。
本考案の一実施例を第１図によつて詳細に説明
すると、被処理液は原水流入口１を経て角形又は
円形の気液接触槽２に至る。空気、酸素富裕ガス
もしくはオゾン化空気は気体送入管３によりドラ
フトチユーブ４内に導かれる。ドラフトチユーブ
４内のガス送入点Ａの上方に（ガス送入点Ａと離
隔して、またはこれと直結して）第２図に示すス
タテツクミキサー５が配設されている。このスタ
テツクミキサー５内には右回りのエレメント９と
左回りのエレメント９′がその長手方向に沿つて
交互に直交配備されており、流入するガス泡は細
分化されながら被処理液との混合・吸収を生じ
る。細分化されたガス泡６は被処理液の水流７と
ともに気液接触槽２内を循環しながら被処理液と
の混合・吸収が促進され、ガス吸収効率が増大す
る。かくて所定の接触時間の後、処理水流出口８
から処理水が流出する。
すると、被処理液は原水流入口１を経て角形又は
円形の気液接触槽２に至る。空気、酸素富裕ガス
もしくはオゾン化空気は気体送入管３によりドラ
フトチユーブ４内に導かれる。ドラフトチユーブ
４内のガス送入点Ａの上方に（ガス送入点Ａと離
隔して、またはこれと直結して）第２図に示すス
タテツクミキサー５が配設されている。このスタ
テツクミキサー５内には右回りのエレメント９と
左回りのエレメント９′がその長手方向に沿つて
交互に直交配備されており、流入するガス泡は細
分化されながら被処理液との混合・吸収を生じ
る。細分化されたガス泡６は被処理液の水流７と
ともに気液接触槽２内を循環しながら被処理液と
の混合・吸収が促進され、ガス吸収効率が増大す
る。かくて所定の接触時間の後、処理水流出口８
から処理水が流出する。
前記ドラフトチユーブ４より上方に設けられた
バツフルプレート１０は細分化されたガスと被処
理液を気液接触槽２内で効果的に循環させるため
のものであるが、図示したようにドラフトチユー
ブ４の上方部分を末広がり形状とすることによ
り、上記循環流は更に効果的に形成される。
バツフルプレート１０は細分化されたガスと被処
理液を気液接触槽２内で効果的に循環させるため
のものであるが、図示したようにドラフトチユー
ブ４の上方部分を末広がり形状とすることによ
り、上記循環流は更に効果的に形成される。
本考案における気液接触槽の水深は５〜15ｍの
範囲が最も効率的であり、水深５ｍ未満では槽内
における細分化されたガスと被処理液の循環が困
難であり、本考案の効果は不充分なものとなる。
また、水深が15ｍを超えるとドラフトチユーブの
中間部からガス体を送入したとしてもガス泡の粒
径はすでに細分化されており、スタテツクミキサ
ーを配備した利点が生かされにくい。
範囲が最も効率的であり、水深５ｍ未満では槽内
における細分化されたガスと被処理液の循環が困
難であり、本考案の効果は不充分なものとなる。
また、水深が15ｍを超えるとドラフトチユーブの
中間部からガス体を送入したとしてもガス泡の粒
径はすでに細分化されており、スタテツクミキサ
ーを配備した利点が生かされにくい。
次に、本考案ではドラフトチユーブへのガス体
の送入位置については、ドラフトチユーブの上端
からその長さの3/5〜4/5の範囲でなければならな
い。ガス体の送入圧力を低くする為にはドラフト
チユーブのなるべく上方にガス体を送入すること
が得策であるが、上記位置よりも上方でガス体の
送入を行なうと気液接触槽内の細分化されたガス
と被処理液の循環が困難となり、場合によつては
正常な循環流を生じさせるために予めポンプなど
で強制的に循環流を生じさせることが必要となる
ので、省エネルギーという観点から得策ではな
い。また、ドラフトチユーブの下端からガス体を
送入することは、言うまでもなく本考案の主旨に
反する。
の送入位置については、ドラフトチユーブの上端
からその長さの3/5〜4/5の範囲でなければならな
い。ガス体の送入圧力を低くする為にはドラフト
チユーブのなるべく上方にガス体を送入すること
が得策であるが、上記位置よりも上方でガス体の
送入を行なうと気液接触槽内の細分化されたガス
と被処理液の循環が困難となり、場合によつては
正常な循環流を生じさせるために予めポンプなど
で強制的に循環流を生じさせることが必要となる
ので、省エネルギーという観点から得策ではな
い。また、ドラフトチユーブの下端からガス体を
送入することは、言うまでもなく本考案の主旨に
反する。
従つて、本考案の目的を達成するためには、ド
ラフトチユーブにガス体を送入する位置はその上
端と下端との間のある範囲に限定する必要があ
る。かかる点から各種の調査・実験を行なつたと
ころ、ドラフトチユーブの上端からその長さの3/
５〜4/5の部分とすることが最も効率的であること
が判明したものである。
ラフトチユーブにガス体を送入する位置はその上
端と下端との間のある範囲に限定する必要があ
る。かかる点から各種の調査・実験を行なつたと
ころ、ドラフトチユーブの上端からその長さの3/
５〜4/5の部分とすることが最も効率的であること
が判明したものである。
以上述べたように本考案によれば、被処理液に
対するガス体の送入が気液接触槽の水深に比べて
低い送入圧で可能となるばかりでなく（気液接触
槽の水深を通常の４〜５ｍより深くしてもガスの
送入圧力を通常の場合とほぼ同様の値に設定でき
る）、ドラフトチユーブ内のスタテツクミキサー
により細分化されたガス泡が被処理液とともに槽
内を効果的に循環しガス体の吸収効率が著しく増
大し、省エネルギー化が達成できるうえ、装置構
造も簡単で保守管理も容易であるなど、実用上大
なる効果を有するものである。
対するガス体の送入が気液接触槽の水深に比べて
低い送入圧で可能となるばかりでなく（気液接触
槽の水深を通常の４〜５ｍより深くしてもガスの
送入圧力を通常の場合とほぼ同様の値に設定でき
る）、ドラフトチユーブ内のスタテツクミキサー
により細分化されたガス泡が被処理液とともに槽
内を効果的に循環しガス体の吸収効率が著しく増
大し、省エネルギー化が達成できるうえ、装置構
造も簡単で保守管理も容易であるなど、実用上大
なる効果を有するものである。
第１図は本考案の一実施例の断面図であり、第
２図はスタテツクミキサーの一例を示す部分縦断
面図である。 １……原水流入口、２……気液接触槽、３……
気体送入管、４……ドラフトチユーブ、５……ス
タテツクミキサー、６……ガス泡、７……被処理
液の水流、８……処理水流出口、９，９，′……
エレメント、１０……バツフルプレート。
２図はスタテツクミキサーの一例を示す部分縦断
面図である。 １……原水流入口、２……気液接触槽、３……
気体送入管、４……ドラフトチユーブ、５……ス
タテツクミキサー、６……ガス泡、７……被処理
液の水流、８……処理水流出口、９，９，′……
エレメント、１０……バツフルプレート。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 原水流入口、処理水流出口を備えた槽内水面
下垂直方向にドラフトチユーブを配備すると共
に、該ドラフトチユーブ内にその上端から該ド
ラフトチユーブ長さの3/5〜4/5の位置に気体送
入管開口端を設け、該開口端より上方にスタテ
ツクミキサーを内設せしめ、さらに前記ドラフ
トチユーブより上方にバツフルプレートを設け
た気液接触装置。 ２ 前記ドラフトチユーブの上方部分を末広がり
形状とした実用新案登録請求の範囲第１項記載
の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982168003U JPS5974899U (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 気液接触装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1982168003U JPS5974899U (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 気液接触装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5974899U JPS5974899U (ja) | 1984-05-21 |
| JPS641040Y2 true JPS641040Y2 (ja) | 1989-01-11 |
Family
ID=30367401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1982168003U Granted JPS5974899U (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 気液接触装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5974899U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6115795A (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-23 | Ngk Insulators Ltd | 深槽曝気槽 |
-
1982
- 1982-11-08 JP JP1982168003U patent/JPS5974899U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5974899U (ja) | 1984-05-21 |
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