JPS641953B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS641953B2
JPS641953B2 JP26302084A JP26302084A JPS641953B2 JP S641953 B2 JPS641953 B2 JP S641953B2 JP 26302084 A JP26302084 A JP 26302084A JP 26302084 A JP26302084 A JP 26302084A JP S641953 B2 JPS641953 B2 JP S641953B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
waveguide
waveguides
mode
propagation constant
semiconductor laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP26302084A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61141191A (ja
Inventor
Jun Oosawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP26302084A priority Critical patent/JPS61141191A/ja
Publication of JPS61141191A publication Critical patent/JPS61141191A/ja
Publication of JPS641953B2 publication Critical patent/JPS641953B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、集積型半導体レーザに関し、特に
その横モード制御に関するものである。
〔従来の技術〕
第5図は、例えば電子通信学会研究会OQE84
−53に示された2連集積型レーザの一例で、2連
内部ストライプレーザと称されたものの断面模式
図である。1はp−GaAs基板、2はp−A
GaAs下クラツド層、3はAGaAs活性層、4
はn−AGaAs上クラツド層、5はn−GaAs
電流阻止層、6はn−GaAsキヤツプ層、7はn
側電極、8はp側電極、9は第1の導波路、10
は第2の導波路であり、2つの導波路9,10の
幅はW、間隔はSである。
第6図は、第5図の従来例を変形した他の例を
示し、電流阻止層5を上クラツド層4上に設け、
該上クラツド層4と同じ結晶からなる埋込み層6
aの全体を埋込んでいる。この構成はMO−
CVD法によれば実現可能であり、以下の説明は
この構造を基にして行なう。
次に動作について説明する。p側電極8より流
れ込む電流は電流阻止層5により狭窄されるため
2つの導波路9,10に集中する。活性層3に注
入されたキヤリアは、該活性層3内で発光再結合
し活性層3近傍に広がる。この時、上クラツド層
4が適度に薄いと、電流阻止層5のある部分では
光が一部吸収損失を受けるため、電流阻止層5の
ない2つの導波路9,10に比べ、等価的な屈折
率が低下し、結果として光の導波路9,10が形
成される。なお、上記の光吸収は、電流阻止層5
のバンドギヤツプが、活性層3で生じる光のエネ
ルギーより小さいことに基づいている。また、第
1及び第2の導波路9,10の幅Wは等しい。
ここで、2つの導波路9,10の間隔、即ち両
者の中央間の間隔Sを小さくして、各導波路9,
10の光が相互作用するようにすれば、通常の半
導体レーザと同様な増幅・帰還作用により発振が
生じた時、2つの導波路9,10から成る2連レ
ーザは同一波長で発振する。これを位相同期発振
という。
第7図aに、等価屈折率Neの分布、bに間隔
Sが小さい場合の2つの固有モードの電界分布、
cに導波光の伝搬定数βの間隔Sによる変化を示
す。同図aでは2つの導波路の等価屈折率の値が
周辺部での値Ne0よりΔNeだけ大きいことを示
している。
同図cによると、間隔Sの減少に伴い、単一導
波路元来の伝搬定数β0が、対称モードの伝搬定
数β0bと反対称モードの伝搬定数β0aとに分離し、
間隔がScになると、遂にはβ0aがK0Ne0より小さ
くなり、反対称モードが伝搬し得なくなることが
判る。ここに、K0=2π/λ、λは発振波長、Sc
は反対称モードがカツトオフ(遮断)される間隔
である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このように、従来の位相同期2連レーザは、2
つの導波路が同等で同じ伝搬定数βoを持つよう
に構成されているので、対称モードのみが伝搬す
るようにするためには間隔Sを非常に小さくする
ことが必要で、現在の加工技術では製作が困難で
ある等の問題点があつた。また、間隔が広い場合
には2つのモードの伝搬定数がほぼ等しく、両方
のモードが伝搬するため、構造の不均一や動作条
件によつてはレーザの遠視野像が一定しないとい
う欠点があつた。
この発明は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、比較的広い間隔Sにおいて反
対称モードを遮断して対称モードのみを選択的に
伝搬させ得るとともに、反対称モードが遮断され
ていない条件下でも対称モードで発振することの
できる集積型半導体レーザを得ることを目的とし
ている。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る位相同期集積型半導体レーザ
は、2つの導波路の導波路幅W、等価屈折率差
ΔNe等を変化させることによつて、各導波路の
伝搬定数を変化させ、かつ伝搬定数の大きい方の
導波路の導波光に対する利得が高くなるようにし
たものである。
〔作用〕
この発明においては、各導波路の単体としての
伝搬定数が異なるため、集積化した場合の固有モ
ードの伝搬定数の差がより大きくなり、逆位相の
電界分布を持つ1次モードが遮断される間隔Sc
が大きくなる。また、元来の伝搬定数の大きい方
の導波路に、より強い同位相の電界分布を持つ0
次モードに対するモード利得が大きくなる。
〔実施例〕
以下、この発明の実施例を図について説明す
る。
第1図において、第6図と同一符号は同一又は
相当部分を示し、19は電流阻止層5に挟まれ
た、幅がW1の第1の導波路、20は幅がW2の第
2の導波路(W2>W1)である。
次に作用効果について説明する。電流阻止層5
による電流狭窄、活性層3へのキヤリア注入によ
る発振、及び2つの導波路19,20の結合によ
る位相同期発振については従来例の場合と同じで
ある。
第2図a,b,cはそれぞれ本実施例における
等価屈折率分布、固有モードの電界分布、伝搬定
数の導波路間隔による変化を示したものである。
2つの導波路19,20の幅にW2>W1の関係が
あるため、第2図cに示すように各導波路19,
20の単体としての伝搬定数はβ2>β1となる。導
波路間隔Sの減少に従い結合が増加しβ1とβ2の差
は大きくなるが、元々のβ1とβ2とに差があるの
で、一定のSに対する2つの固有モードの伝搬定
数(β2−β1)は、従来例の場合より大きい。ま
た、固有モードの電界分布を同図bに示してお
り、β2に対応するモードは、幅の広い第2の導波
路20に強い電界を持つ0次モード、β1に対応す
るモードは、幅の狭い第1はの導波路19に逆位
相の強い電界を持つ1次モードである。
このように本実施例では、(β2−β1)の差が大
きいことにより、1次モードが遮断される間隔
Scは従来例の時より大きくでき、本半導体レー
ザの製造を容易にすることができる。
更に、W2>W1であるため、同じ電流密度であ
つても幅の広い第2の導波路20の方が導波光に
対する利得が高い。このことは、第2の導波路2
0に強い電界を有する0次モードに対するモード
利得が、1次モードに対するモード利得より高く
なることを意味し、0次モードの発振が優勢とな
る。
次に、この発明の他の実施例を第3図に示す。
第6図と同一符号は同一又は相当部分を示し、4
aは一方の導波路部に活性層3の近傍まで溝を設
けた上クラツド層、6bは該上クラツド層4aよ
り屈折率が低く(A組成比が高く)、抵抗率が
若干高いn−AGaAs埋込み層である。29は
第2の導波路10より小さい等価屈折率を持つ、
第1の導波路である。
第4図に、第3図の実施例における上記第2図
と同様の説明図を示す。第1の導波路29では、
屈折率の低い埋込み層6bが影響してその等価屈
折率が下がるため、第4図aに示すような屈折率
分布となる。これにより第2図の場合と同様に、
第4図cに示すようにβ2>β1となり、上記実施例
と同様に1次モードの遮断される間隔Scを大き
くできる。
更に、埋込み層6bと上クラツド層4aとの抵
抗率の差により、電流は抵抗の低い第2の導波路
10の方へ多く流れ、結果的に第2の導波路10
の利得が高くなる。従つて、上記実施例で説明し
た通り0次モード発振が優勢となる。
このように、本実施例は上記実施例と同様の効
果を奏する。
なお、これらの実施例では、AGaAs/
GaAsレーザについて説明したが、AGaAsを
InPに、GaAsをInGaAsPにそれぞれ置換えた
InGaAsP/InPレーザでも上記2つの実施例と同
様の効果を奏する。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明に係る集積型半導体レ
ーザによれば、2つの導波路の伝搬定数が異なる
ようにし、かつ、より大きい伝搬定数を持つ導波
路の利得が高くなるように構成したので、逆位相
で発振する固有モードを遮断できる導波路間隔を
広くでき、その製造が容易となり、また同位相で
発振する固有モードでの発振を優勢にできるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による集積型半導
体レーザの断面図、第2図は該レーザにおける等
価屈折率分布、2連導波路の固有モードの電界分
布、及び伝搬定数の導波路間隔による変化を示す
図、第3図及び第4図は各々この発明の他の実施
例の断面図及びその説明図、第5図は従来の2連
集積型レーザの断面図、第6図はその変形例を示
す断面図、第7図は従来構造における等価屈折率
分布、2連導波路の固有モードの電界分布、及び
伝搬定数の導波路間隔による変化を示す図であ
る。 10,19,20,29……導波路。なお図中
同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 2つの導波路を隣接して設けた位相同期集積
    型半導体レーザにおいて、各導波路は相互に異な
    る単体としての伝搬定数を有することを特徴とす
    る集積型半導体レーザ。 2 上記2つの導波路は異なる幅を有することに
    より異なる伝搬定数を有することを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の集積型半導体レーザ。 3 上記2つの導波路は異なる等価屈折率を有す
    ることにより異なる伝搬定数を有することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の集積型半導体
    レーザ。 4 単体としての伝搬定数が大きい第2の導波路
    における利得は、第1の導波路の利得より大きい
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の集
    積型半導体レーザ。
JP26302084A 1984-12-14 1984-12-14 集積型半導体レ−ザ Granted JPS61141191A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26302084A JPS61141191A (ja) 1984-12-14 1984-12-14 集積型半導体レ−ザ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26302084A JPS61141191A (ja) 1984-12-14 1984-12-14 集積型半導体レ−ザ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61141191A JPS61141191A (ja) 1986-06-28
JPS641953B2 true JPS641953B2 (ja) 1989-01-13

Family

ID=17383764

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26302084A Granted JPS61141191A (ja) 1984-12-14 1984-12-14 集積型半導体レ−ザ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61141191A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08107254A (ja) * 1994-09-14 1996-04-23 Xerox Corp マルチ波長レーザダイオードアレイ

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61141191A (ja) 1986-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4778235A (en) Optical switch
JPH06204610A (ja) 半導体レーザ及びその製造方法
US20020181529A1 (en) Single-transverse-mode laser diode with multi-mode waveguide region and manufacturing method of the same
US6577660B1 (en) Distributed feedback type semiconductor laser device having gradually-changed coupling coefficient
US4589117A (en) Butt-jointed built-in semiconductor laser
JPH01319986A (ja) 半導体レーザ装置
JPS641953B2 (ja)
JPS63166281A (ja) 分布帰還型半導体レ−ザ装置
JP2574806B2 (ja) 半導体レ−ザ装置
JPS60178685A (ja) 単一軸モ−ド半導体レ−ザ装置
JPS63260185A (ja) 分布帰還形半導体レ−ザ
JPS63137496A (ja) 半導体レ−ザ装置
JP7745641B2 (ja) 半導体レーザ素子
JPH09186408A (ja) 分布反射型半導体レーザ
JP2508529B2 (ja) 分布帰還形半導体レ−ザ
JPH09129955A (ja) オプトエレクトロニクスデバイス
JPH0461183A (ja) 波長可変半導体レーザ
JPH04284684A (ja) 波長可変半導体レーザ
JPS63122188A (ja) 光半導体装置
JPH02281681A (ja) 半導体レーザ
JPH0230195B2 (ja)
JPS6230391A (ja) 集積型半導体レ−ザ
JPS60173519A (ja) 半導体光スイツチ
JPH0745907A (ja) 分布帰還型半導体レーザ
JP2687404B2 (ja) 分布帰還形半導対レーザ

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term