JPS643389B2 - - Google Patents
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- JPS643389B2 JPS643389B2 JP55018092A JP1809280A JPS643389B2 JP S643389 B2 JPS643389 B2 JP S643389B2 JP 55018092 A JP55018092 A JP 55018092A JP 1809280 A JP1809280 A JP 1809280A JP S643389 B2 JPS643389 B2 JP S643389B2
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- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 16
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
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- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/40—Picture signal circuits
- H04N1/405—Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels
- H04N1/4055—Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels producing a clustered dots or a size modulated halftone pattern
- H04N1/4056—Halftoning, i.e. converting the picture signal of a continuous-tone original into a corresponding signal showing only two levels producing a clustered dots or a size modulated halftone pattern the pattern varying in one dimension only, e.g. dash length, pulse width modulation [PWM]
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は写真などの中間調を有する画像を数10
レベル以上の濃度域で再現できる半導体レーザを
用いた記録装置に関する。
レベル以上の濃度域で再現できる半導体レーザを
用いた記録装置に関する。
中間調画像記録をするためにレーザー光を強度
変調する方法としては、超音波光変調器を用い
る方法、ガスレーザの放電電流を変化させる方
法及び半導体レーザの電流を変化させる方法等
がある。第一の方法は高価な超音波光変調器が必
要になり、且つブラツグ角に合わせるための変調
器の微動機構等もさらに必要となり、全体として
高価且つ複雑になる欠点がある。
変調する方法としては、超音波光変調器を用い
る方法、ガスレーザの放電電流を変化させる方
法及び半導体レーザの電流を変化させる方法等
がある。第一の方法は高価な超音波光変調器が必
要になり、且つブラツグ角に合わせるための変調
器の微動機構等もさらに必要となり、全体として
高価且つ複雑になる欠点がある。
第二の方法のガスレーザの放電電流変調は、変
調周波数が数百ヘルツと低い周波数或しかとれ
ず、且つ放電電流を変化させるとレーザ管の寿命
が短かくなる等の欠点がある。第三の方法の半導
体レーザの電流を変化させる方法は、半導体レー
ザの光出力−電流特性は電流を少しかえるだけで
光出力が大きく変化し、電流を変化させて数10レ
ベル以上の光出力の変調を行なうのは、非常に難
しいという欠点があつた。
調周波数が数百ヘルツと低い周波数或しかとれ
ず、且つ放電電流を変化させるとレーザ管の寿命
が短かくなる等の欠点がある。第三の方法の半導
体レーザの電流を変化させる方法は、半導体レー
ザの光出力−電流特性は電流を少しかえるだけで
光出力が大きく変化し、電流を変化させて数10レ
ベル以上の光出力の変調を行なうのは、非常に難
しいという欠点があつた。
最近、半導体レーザの高速応答を利用して、入
力信号をパルス数、パルス幅に変換して光変調し
中間調画像の記録を可能とした装置が提案され
た。たとえば本願出願人により昭和54年12月25日
に出願された特許願(B)「レーザ記録装置」があ
る。
力信号をパルス数、パルス幅に変換して光変調し
中間調画像の記録を可能とした装置が提案され
た。たとえば本願出願人により昭和54年12月25日
に出願された特許願(B)「レーザ記録装置」があ
る。
しかしながら上記装置においても次のような場
合以下の問題点を生じる。たとえば記録材料の階
調特性を示すガンマγ＝１とし、画像の濃度再現
範囲をＤ＝2.0、再現階調段数をη＝20、従つて
段差濃度差は△Ｄ＝0.1画像サイズをA4サイズ
（210mm×297mm）、解像点数を16ピクセル／mm、記
録時間を60secとすると、階調再現のためには以
下に説明するように高周波信号が必要となる。
合以下の問題点を生じる。たとえば記録材料の階
調特性を示すガンマγ＝１とし、画像の濃度再現
範囲をＤ＝2.0、再現階調段数をη＝20、従つて
段差濃度差は△Ｄ＝0.1画像サイズをA4サイズ
（210mm×297mm）、解像点数を16ピクセル／mm、記
録時間を60secとすると、階調再現のためには以
下に説明するように高周波信号が必要となる。
第１図は横軸を対数露光量、縦軸を光学濃度と
して表わしたガンマγ＝１の記録材料の特性であ
る。
して表わしたガンマγ＝１の記録材料の特性であ
る。
いま最小露光量をEOとすると、次の段の露光
量はEI＝EO・10Ｄ／ηrとなり、最大露光量はEM＝ EO・10Ｄ／ｒなる。露光量の差の最大と最小の比を とると、 δEI＝EI−EO＝EO（10Ｄ／ηr−１）、 δEM＝EM−EO＝EO（10Ｄ／ｒ−１）だからδEIと δEMの比は、 δEM／δEI＝10Ｄ／ｒ−１／10Ｄ／ηr−１＝102−１／
100.1−１＝382 となる。
量はEI＝EO・10Ｄ／ηrとなり、最大露光量はEM＝ EO・10Ｄ／ｒなる。露光量の差の最大と最小の比を とると、 δEI＝EI−EO＝EO（10Ｄ／ηr−１）、 δEM＝EM−EO＝EO（10Ｄ／ｒ−１）だからδEIと δEMの比は、 δEM／δEI＝10Ｄ／ｒ−１／10Ｄ／ηr−１＝102−１／
100.1−１＝382 となる。
また最高画周波数は266KHzとなる。そこでサ
ンプリング時間は通常最高画周波数より高周波を
選ぶので300KHzとすると、これに上記の382を掛
けるとパルス数変調するための高周波パルスは
115MHzとなる。
ンプリング時間は通常最高画周波数より高周波を
選ぶので300KHzとすると、これに上記の382を掛
けるとパルス数変調するための高周波パルスは
115MHzとなる。
又パルス幅変調の場合も同様に最高パルス周波
数＝115（ＭHz）以上となる。
数＝115（ＭHz）以上となる。
さらに前述の階調段数をｎ＝30とした場合には
δEM／δEI＝592となり、必要な高周波パルスは
178MHzとなる。
δEM／δEI＝592となり、必要な高周波パルスは
178MHzとなる。
上述ような高周波信号を扱う場合次のような問
題点が生じる。(1)一般に市販されているロジツク
IC TTLのような安価な部品はこのような高速度
の応答ができないので用いる事ができない。(2)高
価なECLのような部品を用いあければならない。
(3)高周波なため回路が複雑となり、特別な技術を
必要とする。
題点が生じる。(1)一般に市販されているロジツク
IC TTLのような安価な部品はこのような高速度
の応答ができないので用いる事ができない。(2)高
価なECLのような部品を用いあければならない。
(3)高周波なため回路が複雑となり、特別な技術を
必要とする。
本発明の目的は豊富な中間調を有する画像を記
録しうるレーザ記録装置を提供することである。
録しうるレーザ記録装置を提供することである。
本発明は、半導体レーザの高周波変調特性を利
用して数十の変調レベルを出せるようにした半導
体レーザを用いたレーザ記録装置を提供すること
を目的とする。
用して数十の変調レベルを出せるようにした半導
体レーザを用いたレーザ記録装置を提供すること
を目的とする。
本発明の目的は前記パルス数又はパルス幅変調
における問題点を解決したレーザ記録装置を提供
するものである。
における問題点を解決したレーザ記録装置を提供
するものである。
本発明のレーザ記録装置は、サンプリングパル
スにより入力信号をサンプリングするとともに、 書込み光源装置を構成する半導体レーザにサン
プリングされた上記入力信号の値に応じてパルス
数またはパルス幅が制御された駆動電流を印加し
て、該光源装置から光ビームを射出させ、 この光ビームを記録媒体上に走査させて記録を
行なうように構成したレーザ記録装置において、 上記光源装置として、記録媒体上の光ビーム強
度が互いに異なるように構成された複数のもの
が、同一のサンプリングパルスに基づいて制御さ
れた駆動電流が印加されるとき互いに記録媒体上
の略等しい点を照射するように配設して用いら
れ、 これらの光源装置の各半導体レーザに、上記駆
動電流が並列的に印加されうるように構成され、 この駆動電流を印加する半導体レーザを、前記
入力信号の値に応じて１つあるいは複数選択する
光源選択手段が設けられたことを特徴とするもの
である。
スにより入力信号をサンプリングするとともに、 書込み光源装置を構成する半導体レーザにサン
プリングされた上記入力信号の値に応じてパルス
数またはパルス幅が制御された駆動電流を印加し
て、該光源装置から光ビームを射出させ、 この光ビームを記録媒体上に走査させて記録を
行なうように構成したレーザ記録装置において、 上記光源装置として、記録媒体上の光ビーム強
度が互いに異なるように構成された複数のもの
が、同一のサンプリングパルスに基づいて制御さ
れた駆動電流が印加されるとき互いに記録媒体上
の略等しい点を照射するように配設して用いら
れ、 これらの光源装置の各半導体レーザに、上記駆
動電流が並列的に印加されうるように構成され、 この駆動電流を印加する半導体レーザを、前記
入力信号の値に応じて１つあるいは複数選択する
光源選択手段が設けられたことを特徴とするもの
である。
以下本発明を実施例によつて説明する。
第３図が本発明の一実施例のブロツク図であ
り、１が第一の半導体レーザ、１′が第二の半導
体レーザ、２および２′がビーム整形レンズ、１
００がハーフミラー、３が光偏向器、４が収束レ
ンズ、５が記録紙である。
り、１が第一の半導体レーザ、１′が第二の半導
体レーザ、２および２′がビーム整形レンズ、１
００がハーフミラー、３が光偏向器、４が収束レ
ンズ、５が記録紙である。
記録紙５は中間調の出るたとえば銀塩写真、電
子写真等で半導体レーザ光の波長（赤または赤
外）に感度があるものが望ましい。
子写真等で半導体レーザ光の波長（赤または赤
外）に感度があるものが望ましい。
電流パルス変調された半導体レーザ光６および
６′はビーム整形レンズ２および２′によりコリメ
ートされ透過率90％、反射率10％を有するハーフ
ミラー１００で両ビームの光軸が共軸となり、光
偏向器３により偏向され、収束レンズ４により所
定のスポツトサイズに結像され、記録紙５上を主
走査し、走査線７を描く。副走査は記録紙５を矢
印８の向きに送ることによりなされる。本実施例
では偏向器３として、ガルバノメータを用いた。
６′はビーム整形レンズ２および２′によりコリメ
ートされ透過率90％、反射率10％を有するハーフ
ミラー１００で両ビームの光軸が共軸となり、光
偏向器３により偏向され、収束レンズ４により所
定のスポツトサイズに結像され、記録紙５上を主
走査し、走査線７を描く。副走査は記録紙５を矢
印８の向きに送ることによりなされる。本実施例
では偏向器３として、ガルバノメータを用いた。
次に本発明の特徴である半導体レーザによる記
録方式について述べる。
録方式について述べる。
第３図において、入力した画像信号９は波形整
形増幅器１０により所定のレベルまで増幅され
る。こゝで画像信号９はたとえばフアクシミリ受
信信号である。一方高周波発振器１５からの高周
波パルス１９は分周器１２により分周されて、分
周器１２からサンプリングパルス２０が出力され
る。サンプリングパルス２０の周波数は画像信号
９の最高画周波数よりやや高い周波数が望まし
い。AD変換器１１はサンプリングパルス２の立
下りでそのときの増幅器１０からの信号をサンプ
リングし階調段数ｎ＝20個からなるデイジタル値
のうちいずれかに変換し、次のサンプリングパル
スの立下りが来るまでその値を保持する。この
AD変換された信号はデイジタル値対照回路２２
に入力される。フアクシミリ送信機から読まれた
濃度に対応する信号はデイジタル値対照回路２２
に入力されることになる。このデイジタル信号は
デイジタル値対照回路２２により、第２図に示す
ような関係のパルスのデイジタル値に変換され
る。ののデイジタル値対照回路２２の作用は、第
２図で示すとたとえば濃度の0.1を再現するとき
12パルス、0.5のとき32パルス、0.7のとき50パル
ス、1.0のとき10パルス、2.0のとき100パルスを
出力するものである。
形増幅器１０により所定のレベルまで増幅され
る。こゝで画像信号９はたとえばフアクシミリ受
信信号である。一方高周波発振器１５からの高周
波パルス１９は分周器１２により分周されて、分
周器１２からサンプリングパルス２０が出力され
る。サンプリングパルス２０の周波数は画像信号
９の最高画周波数よりやや高い周波数が望まし
い。AD変換器１１はサンプリングパルス２の立
下りでそのときの増幅器１０からの信号をサンプ
リングし階調段数ｎ＝20個からなるデイジタル値
のうちいずれかに変換し、次のサンプリングパル
スの立下りが来るまでその値を保持する。この
AD変換された信号はデイジタル値対照回路２２
に入力される。フアクシミリ送信機から読まれた
濃度に対応する信号はデイジタル値対照回路２２
に入力されることになる。このデイジタル信号は
デイジタル値対照回路２２により、第２図に示す
ような関係のパルスのデイジタル値に変換され
る。ののデイジタル値対照回路２２の作用は、第
２図で示すとたとえば濃度の0.1を再現するとき
12パルス、0.5のとき32パルス、0.7のとき50パル
ス、1.0のとき10パルス、2.0のとき100パルスを
出力するものである。
第２図は記録材料のγが１の場合であり、γが
異なれば図の曲線は当然変化するので使用する記
録材料により対照値を変化させればよい。デイジ
タル値対照回路２２は、リードオンリーメモリー
で構成され、入力信号のAD変換値の各ビツトが
入力され、アドレス信号になり、そのアドレスの
所に対照パルス数に相当する値をデータとして入
力させておきサンプリングパルス毎にアドレス信
号に相当するパルス数が出力される。本例ではフ
アクシミリ送信機からの信号を濃度に対応する信
号として表現して、対数変換された信号としてい
るが、対数変換していない信号の場合は、この対
数変換も計算によりデイジタル値対照回路に含ま
せることが出来る。
異なれば図の曲線は当然変化するので使用する記
録材料により対照値を変化させればよい。デイジ
タル値対照回路２２は、リードオンリーメモリー
で構成され、入力信号のAD変換値の各ビツトが
入力され、アドレス信号になり、そのアドレスの
所に対照パルス数に相当する値をデータとして入
力させておきサンプリングパルス毎にアドレス信
号に相当するパルス数が出力される。本例ではフ
アクシミリ送信機からの信号を濃度に対応する信
号として表現して、対数変換された信号としてい
るが、対数変換していない信号の場合は、この対
数変換も計算によりデイジタル値対照回路に含ま
せることが出来る。
またAD変換器１１からの信号は比較回路３０
に入力し、フアクシミリ送信機で読まれた濃度Ｄ
が1.0以上か、より小さいか判定される。そして、
フアクシミリ送信機の読みとり濃度Ｄが1.0より
小さい場合に比較回路３０の出力によりゲート１
６は閉じ、前述の濃度Ｄが1.0以上の場合に比較
回路３０の出力によりゲート１６は開くようにな
つている。
に入力し、フアクシミリ送信機で読まれた濃度Ｄ
が1.0以上か、より小さいか判定される。そして、
フアクシミリ送信機の読みとり濃度Ｄが1.0より
小さい場合に比較回路３０の出力によりゲート１
６は閉じ、前述の濃度Ｄが1.0以上の場合に比較
回路３０の出力によりゲート１６は開くようにな
つている。
一方高周波発振器１５からの高周波パルス１９
はサンプリングパルス２０よりも約100倍周波数
が高い。高周波パルス１９はアンドゲート１７を
通し、カウンター１４のクロツク入力に入力さ
れ、カウンター１４を歩進させる。
はサンプリングパルス２０よりも約100倍周波数
が高い。高周波パルス１９はアンドゲート１７を
通し、カウンター１４のクロツク入力に入力さ
れ、カウンター１４を歩進させる。
このカウンター１４は分周器１２のサンプリン
グパルス２０によりクリアーされる。カウンター
１４とデイジタル値対照回路２２の出力が一致回
路１３により比較され、同じ値になると、一致回
路１３は一致信号２１によつてアンドゲート１７
をゲートし高周波パルス１９を阻止すると共にア
ンドゲート１６および１６′を閉じる。
グパルス２０によりクリアーされる。カウンター
１４とデイジタル値対照回路２２の出力が一致回
路１３により比較され、同じ値になると、一致回
路１３は一致信号２１によつてアンドゲート１７
をゲートし高周波パルス１９を阻止すると共にア
ンドゲート１６および１６′を閉じる。
前述のようにフアクシミリ送信機の読みとり濃
度Ｄが1.0以上の場合、比較回路３０の出力はゲ
ート１６を開いているので、一致回路１３から不
一致信号２１′が出力されている間じゆう、高周
波発振器１５からの高周波パルス１９はゲート１
６および１６′を通し、それぞれ第一の半導体レ
ーザ駆動回路１８および第二の半導体レーザ駆動
回路１８′を通し、第一の半導体レーザ１および
第二の半導体レーザ１′に印加される。
度Ｄが1.0以上の場合、比較回路３０の出力はゲ
ート１６を開いているので、一致回路１３から不
一致信号２１′が出力されている間じゆう、高周
波発振器１５からの高周波パルス１９はゲート１
６および１６′を通し、それぞれ第一の半導体レ
ーザ駆動回路１８および第二の半導体レーザ駆動
回路１８′を通し、第一の半導体レーザ１および
第二の半導体レーザ１′に印加される。
一致信号２１が出力されると、今まで開いてい
たゲート１６およびゲート１６′は閉じられる。
たゲート１６およびゲート１６′は閉じられる。
またフアクシミリ送信機の読みとり濃度がＤ＝
1.0より小さい場合ゲート１６は閉じているため
第一の半導体レーザ１は駆動されない。しかしゲ
ート１６′は開いているので、一致回路１３が一
致信号２１を出すまで高周波パルス１９は第二の
半導体レーザ駆動回路１８′を介して、第二の半
導体レーザ１′に印加される。一致信号２１が出
力されると、今まで開いていたゲート１６′は閉
じられる再びAD変換器１１およびカウンター１
４にサンプリングパルス２０が入力し、AD変換
器１１は入力した信号をデイジタル値に変換しデ
イジタル値対照回路２２に入力させ、対照回路２
２は変換されたデイジタル値を表示する。一方カ
ウンター１４はクリヤーされる。このとき入力し
た信号がゼロでない場合には一致回路１３は不一
致信号２１′を出しアンドゲート１６，１６′およ
び１７を開く。以後は前述のごとく、読みとり濃
度が1.0以上か1.0より小さいかによつて、両方の
半導体レーザ１あるいは第二の半導体レーザに高
周波パルスが印加される。
1.0より小さい場合ゲート１６は閉じているため
第一の半導体レーザ１は駆動されない。しかしゲ
ート１６′は開いているので、一致回路１３が一
致信号２１を出すまで高周波パルス１９は第二の
半導体レーザ駆動回路１８′を介して、第二の半
導体レーザ１′に印加される。一致信号２１が出
力されると、今まで開いていたゲート１６′は閉
じられる再びAD変換器１１およびカウンター１
４にサンプリングパルス２０が入力し、AD変換
器１１は入力した信号をデイジタル値に変換しデ
イジタル値対照回路２２に入力させ、対照回路２
２は変換されたデイジタル値を表示する。一方カ
ウンター１４はクリヤーされる。このとき入力し
た信号がゼロでない場合には一致回路１３は不一
致信号２１′を出しアンドゲート１６，１６′およ
び１７を開く。以後は前述のごとく、読みとり濃
度が1.0以上か1.0より小さいかによつて、両方の
半導体レーザ１あるいは第二の半導体レーザに高
周波パルスが印加される。
次に、上述した読みとり濃度と各種の信号と、
記録紙に照射される露光量との関係を第４図を用
いて説明する、第４図において横軸は時間軸であ
り、縦軸は信号の状態あるいは大きさを示す。図
において、ａは高周波パルス１９、ｂはサンプリ
ングパルス２０、ｃはゲート１６の状態を示し、
ｄは第一の半導体レーザ１が発光しハーフミラー
１００透過後の光出力、ｅはゲート１６′の状態、
ｆは第二の半導体レーザ１′が発光しハーフミラ
ー１００反射後の光出力を示している、図の左側
に示すように、読みとり信号が1.0以上の場合に
はゲート１６およびゲート１６′が同時に開いて、
それぞれを通つた同じ数のパルスが第一の半導体
レーザ１および第二の半導体レーザ１′に印加さ
れる。その結果、第一の半導体レーザ１から発
し、透過率90％のハーフミラー１００によつて光
量が90％となつた光と、第二の半導体レーザ１′
から発し反射率10％のハーフミラー１００によつ
て光量が10％となつた光は合成される。両レーザ
の発する光が等しい場合には、一つの半導体レー
ザの光出力と等しくなる。こうして合成された光
が記録紙に上記のパルスだけ照射され、このパル
ス数に応じた中間調の濃度で記録される。
記録紙に照射される露光量との関係を第４図を用
いて説明する、第４図において横軸は時間軸であ
り、縦軸は信号の状態あるいは大きさを示す。図
において、ａは高周波パルス１９、ｂはサンプリ
ングパルス２０、ｃはゲート１６の状態を示し、
ｄは第一の半導体レーザ１が発光しハーフミラー
１００透過後の光出力、ｅはゲート１６′の状態、
ｆは第二の半導体レーザ１′が発光しハーフミラ
ー１００反射後の光出力を示している、図の左側
に示すように、読みとり信号が1.0以上の場合に
はゲート１６およびゲート１６′が同時に開いて、
それぞれを通つた同じ数のパルスが第一の半導体
レーザ１および第二の半導体レーザ１′に印加さ
れる。その結果、第一の半導体レーザ１から発
し、透過率90％のハーフミラー１００によつて光
量が90％となつた光と、第二の半導体レーザ１′
から発し反射率10％のハーフミラー１００によつ
て光量が10％となつた光は合成される。両レーザ
の発する光が等しい場合には、一つの半導体レー
ザの光出力と等しくなる。こうして合成された光
が記録紙に上記のパルスだけ照射され、このパル
ス数に応じた中間調の濃度で記録される。
また図の右側に示すように、読みとり信号が
1.0より小さい場合にはゲート１６′のみが開き、
第二の半導体レーザ１′のみが光を発し、ハーフ
ミラー１００によつて光量が10％となつて記録紙
に照射される。この場合は弱い露光量となる。
1.0より小さい場合にはゲート１６′のみが開き、
第二の半導体レーザ１′のみが光を発し、ハーフ
ミラー１００によつて光量が10％となつて記録紙
に照射される。この場合は弱い露光量となる。
以上説明したように本実施例によれば、前述の
記録条件に対しても100×300KHzとなり、30MHz
の高周波パルスを用いれば20段階の階調再現が可
能となる。従つて従来よりは低い周波数（１／
3.8）によつて多階調再現が可能となる。また同
じ周波数パルスを用いる場合では従来よりは細か
い階調再現が可能となる。
記録条件に対しても100×300KHzとなり、30MHz
の高周波パルスを用いれば20段階の階調再現が可
能となる。従つて従来よりは低い周波数（１／
3.8）によつて多階調再現が可能となる。また同
じ周波数パルスを用いる場合では従来よりは細か
い階調再現が可能となる。
半導体レーザ２個を使用した場合の実施例につ
いて説明したが、半導体レーザを３個以上用いて
もよい。たとえば第３図においてハーフミラー１
００と光偏向器３との間に透過率90％で反射率10
％のハーフミラーを挿入し、第三の半導体レーザ
からの光出力を第一および第二の半導体レーザの
１／１０の強度にしてハーフミラーに入射させ、その
反射光が第一および第二の半導体レーザ１および
１′からの光の共軸になるようにすればよい。こ
の場合には比較回路３０は読みとり濃度を２段階
で比較して出力を出すようにすれば、前述の実施
例の考え方に従つて同様に回路を作成することが
できる。このとき階調段数η＝30とすれば従来法
ではδEM／δEI＝592となるが、本発明では半導体レー ザ３ケ使用する事により100ケのパルス数で良い。
いて説明したが、半導体レーザを３個以上用いて
もよい。たとえば第３図においてハーフミラー１
００と光偏向器３との間に透過率90％で反射率10
％のハーフミラーを挿入し、第三の半導体レーザ
からの光出力を第一および第二の半導体レーザの
１／１０の強度にしてハーフミラーに入射させ、その
反射光が第一および第二の半導体レーザ１および
１′からの光の共軸になるようにすればよい。こ
の場合には比較回路３０は読みとり濃度を２段階
で比較して出力を出すようにすれば、前述の実施
例の考え方に従つて同様に回路を作成することが
できる。このとき階調段数η＝30とすれば従来法
ではδEM／δEI＝592となるが、本発明では半導体レー ザ３ケ使用する事により100ケのパルス数で良い。
従つてパルス数で１／5.9の周波数を扱えば良
い事になる。
い事になる。
以上のように半導体レーザを２ケ以上使用し、
ON−OFFさせて光変調することによつて中間調
を記録することができる。このような高周波パル
スによつて半導体レーザに電流を印加する場合、
連続して電流を印加する場合よりもレーザ光量が
低下する。たとえば高周波パルスのデユーテイー
が１対１の場合には、レーザ光量は半分になつて
しまう。しかしながら高周波パルスのデユーテイ
ー比、レーザ光走査速度、レーザ光出力等を変え
れば実用上なんら支障はない。
ON−OFFさせて光変調することによつて中間調
を記録することができる。このような高周波パル
スによつて半導体レーザに電流を印加する場合、
連続して電流を印加する場合よりもレーザ光量が
低下する。たとえば高周波パルスのデユーテイー
が１対１の場合には、レーザ光量は半分になつて
しまう。しかしながら高周波パルスのデユーテイ
ー比、レーザ光走査速度、レーザ光出力等を変え
れば実用上なんら支障はない。
以上、述べたのはパルスの数で制御するもので
あるが、第５図に示すようなサンプリングパルス
２０によりセツトしてゲート１６のゲート状態の
波形でリセツトするようなフリツプフロツプ４０
を設けてパルス幅の変調により第一の半導体レー
ザ１のONする時間を制御し、同様に一致回路１
３の出力を第二の半導体レーザ１′の駆動回路１
８′に加える事により第二の半導体レーザ１′の
ONする時間を制御することができる。第５図に
おいて、第３図に示されているブロツクと同じ作
用をするものは図を省略してある。
あるが、第５図に示すようなサンプリングパルス
２０によりセツトしてゲート１６のゲート状態の
波形でリセツトするようなフリツプフロツプ４０
を設けてパルス幅の変調により第一の半導体レー
ザ１のONする時間を制御し、同様に一致回路１
３の出力を第二の半導体レーザ１′の駆動回路１
８′に加える事により第二の半導体レーザ１′の
ONする時間を制御することができる。第５図に
おいて、第３図に示されているブロツクと同じ作
用をするものは図を省略してある。
以上の実施例の場合には、いずれも複数の半導
体レーザから出力されたレーザ光を共軸するもの
であり、光ビームを一次元あるいは二次元に走査
する場合に有効である。しかしながら、記録材料
を移動すればよい場合や、光ビームを極めて小さ
いスポツトにする必要がない場合などは第６図ａ
に示すように二つの半導体レーザ１および１′よ
り出力された光ビームを共軸にしなくてもよいこ
とは言うまでもない。第６図ａに示した場合には
ハーフミラーを使用することなく、第二の半導体
レーザ１′からのレーザ光路に濃度フイルタ５０
を挿入することによつて出力の異なる光源とした
ものである。この場合、両方の半導体レーザ１お
よび１′の駆動は前述の回路を用いるものである。
また前述の回路の代りに読みとり信号の大きさに
よつて一方のみを選択するものでもよい。第６図
ｂに示す装置は、第一および第二の半導体レーザ
１および１′の光出力を時間Ｔだけ一方を遅延さ
せるものである。この場合記録材料は二つの光ビ
ームが照射されている距離のの分だけを時間Ｔで
移動するようにしてある。
体レーザから出力されたレーザ光を共軸するもの
であり、光ビームを一次元あるいは二次元に走査
する場合に有効である。しかしながら、記録材料
を移動すればよい場合や、光ビームを極めて小さ
いスポツトにする必要がない場合などは第６図ａ
に示すように二つの半導体レーザ１および１′よ
り出力された光ビームを共軸にしなくてもよいこ
とは言うまでもない。第６図ａに示した場合には
ハーフミラーを使用することなく、第二の半導体
レーザ１′からのレーザ光路に濃度フイルタ５０
を挿入することによつて出力の異なる光源とした
ものである。この場合、両方の半導体レーザ１お
よび１′の駆動は前述の回路を用いるものである。
また前述の回路の代りに読みとり信号の大きさに
よつて一方のみを選択するものでもよい。第６図
ｂに示す装置は、第一および第二の半導体レーザ
１および１′の光出力を時間Ｔだけ一方を遅延さ
せるものである。この場合記録材料は二つの光ビ
ームが照射されている距離のの分だけを時間Ｔで
移動するようにしてある。
以上説明したように本発明によれば複数の半導
体レーザを用いることによつて高速に中間調再現
が可能となつた。本発明によれば高周波パルスに
よつて半導体レーザを制御して露光量を制御する
ものであり、たとえば音響光学光変調器、あるい
は減光フイルター等の光学的な光変調と一つのレ
ーザとを利用した場合よりも高周波の露光量変化
が可能となつた。従つて従来のレーザと光変調器
と組み合せて使用する場合には達成されなかつた
高速で中間調の再現が可能となつた。さらに本発
明によれば外部光変調器を用いないので、光量の
利用率が高く、消費電力が少なく、コンパクトに
設計ができて、しかも安価なレーザ記録装置の作
製が可能となつた。特に前述したような市販のロ
ジツクIC TTCを使用することができるので、装
置の作製が容易となつた。
体レーザを用いることによつて高速に中間調再現
が可能となつた。本発明によれば高周波パルスに
よつて半導体レーザを制御して露光量を制御する
ものであり、たとえば音響光学光変調器、あるい
は減光フイルター等の光学的な光変調と一つのレ
ーザとを利用した場合よりも高周波の露光量変化
が可能となつた。従つて従来のレーザと光変調器
と組み合せて使用する場合には達成されなかつた
高速で中間調の再現が可能となつた。さらに本発
明によれば外部光変調器を用いないので、光量の
利用率が高く、消費電力が少なく、コンパクトに
設計ができて、しかも安価なレーザ記録装置の作
製が可能となつた。特に前述したような市販のロ
ジツクIC TTCを使用することができるので、装
置の作製が容易となつた。
第１図はガンマγ＝１の記録材料の特性曲線、
第２図はデイジタル値対照回路の内容を説明する
ための図、第３図は本発明の一実施例のブロツク
図、第４図は本発明のパルス幅変調の光出力を説
明するための図、第５図は本発明の他の実施例の
ブロツク図、第６図は本発明の他の実施例の光路
図。 図において、１，１′は半導体レーザ、９は入
力信号、１３は一致回路、１４はカウンター、１
５は高周波発振器、１６，１６′，１７はアンド
ゲート、１８，１８′は半導体レーザ駆動回路、
１９は高周波パルス、２０はサンプリングパル
ス、２２はデイジタル値対照回路、３０は比較回
路、１００はハーフミラー。
第２図はデイジタル値対照回路の内容を説明する
ための図、第３図は本発明の一実施例のブロツク
図、第４図は本発明のパルス幅変調の光出力を説
明するための図、第５図は本発明の他の実施例の
ブロツク図、第６図は本発明の他の実施例の光路
図。 図において、１，１′は半導体レーザ、９は入
力信号、１３は一致回路、１４はカウンター、１
５は高周波発振器、１６，１６′，１７はアンド
ゲート、１８，１８′は半導体レーザ駆動回路、
１９は高周波パルス、２０はサンプリングパル
ス、２２はデイジタル値対照回路、３０は比較回
路、１００はハーフミラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ サンプリングパルスにより入力信号をサンプ
リングするとともに、 書込み光源装置を構成する半導体レーザに、サ
ンプリングされた前記入力信号の値に応じてパル
ス数またはパルス幅が制御された駆動電流を印加
して、該光源装置から光ビームを射出させ、 この光ビームを記録媒体上に走査させて記録を
行なうように構成したレーザ記録装置において、 前記光源装置として、記録媒体上の光ビーム強
度が互いに異なるように構成された複数のもの
が、同一のサンプリングパルスに基づいて制御さ
れた駆動電流が印加されるとき互いに記録媒体上
の略等しい点を照射するように配設して用いら
れ、 これらの光源装置の各半導体レーザに、前記駆
動電流が並列的に印加されうるように構成され、 この駆動電流を印加する半導体レーザを、前記
入力信号の値に応じて１つあるいは複数選択する
光源選択手段が設けられたことを特徴とするレー
ザ記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1809280A JPS56115077A (en) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | Laser recording device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1809280A JPS56115077A (en) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | Laser recording device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56115077A JPS56115077A (en) | 1981-09-10 |
| JPS643389B2 true JPS643389B2 (ja) | 1989-01-20 |
Family
ID=11961985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1809280A Granted JPS56115077A (en) | 1980-02-15 | 1980-02-15 | Laser recording device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56115077A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3750030T2 (de) * | 1986-12-29 | 1994-09-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Laserstrahlaufzeichnungsverfahren und -vorrichtung. |
| JPH0626421B2 (ja) * | 1987-02-25 | 1994-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 半導体レ−ザのドル−プ補正装置 |
| KR102856122B1 (ko) | 2021-01-15 | 2025-09-04 | 스웨이지락 캄파니 | 스프링 복귀 밸브 핸들 |
| JP2025524855A (ja) | 2022-07-20 | 2025-08-01 | スウェージロック カンパニー | スプリングリターンバルブハンドル機構 |
-
1980
- 1980-02-15 JP JP1809280A patent/JPS56115077A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56115077A (en) | 1981-09-10 |
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