JPS645325Y2 - - Google Patents
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- JPS645325Y2 JPS645325Y2 JP13848583U JP13848583U JPS645325Y2 JP S645325 Y2 JPS645325 Y2 JP S645325Y2 JP 13848583 U JP13848583 U JP 13848583U JP 13848583 U JP13848583 U JP 13848583U JP S645325 Y2 JPS645325 Y2 JP S645325Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は真空インタラプタに係り、特にアーク
に対し軸方向磁界を印加するよにした、いわゆる
縦磁界方式の真空インタラプタに関する。
に対し軸方向磁界を印加するよにした、いわゆる
縦磁界方式の真空インタラプタに関する。
従来技術
縦磁界方式の真空インタラプタは、アークにこ
れと平行な軸方向磁界(縦磁界)を印加すること
により、アークを電極面に安定かつ均一に分布せ
しめ、もつて電流しや断能力の向上を図るもの
で、従来、真空容器内に対をなす導電軸を相対的
に接近離反自在に導入し、各導電軸の内端部に円
板状の電極を高抵抗スペーサを介在せしめて連設
し、それぞれの導電軸と電極とを電極の背部に配
設されかつ導電軸に流れる電流を導電軸を中心と
するループ状電流として縦磁界を発生するコイル
により接続して構成されている。
れと平行な軸方向磁界(縦磁界)を印加すること
により、アークを電極面に安定かつ均一に分布せ
しめ、もつて電流しや断能力の向上を図るもの
で、従来、真空容器内に対をなす導電軸を相対的
に接近離反自在に導入し、各導電軸の内端部に円
板状の電極を高抵抗スペーサを介在せしめて連設
し、それぞれの導電軸と電極とを電極の背部に配
設されかつ導電軸に流れる電流を導電軸を中心と
するループ状電流として縦磁界を発生するコイル
により接続して構成されている。
しかし、真空インタラプタの開閉時には、その
投入速度が1.3〜1.5m/S、またしや断速度が
3m/Sとなり、電極等に1000G以上の衝撃が加
えられることとなる。
投入速度が1.3〜1.5m/S、またしや断速度が
3m/Sとなり、電極等に1000G以上の衝撃が加
えられることとなる。
このため、第1図に示すように、電極1におけ
る高抵抗スペーサ2の外側に存在する部分が軸方
向(図において上下方向へ振動するとともに、衝
撃力の作用点となる部分、すなわち電極1と高抵
抗スペーサ2との接合部分Aのひずみが大とな
り、この部分に剥離が生ずる問題がある。
る高抵抗スペーサ2の外側に存在する部分が軸方
向(図において上下方向へ振動するとともに、衝
撃力の作用点となる部分、すなわち電極1と高抵
抗スペーサ2との接合部分Aのひずみが大とな
り、この部分に剥離が生ずる問題がある。
なお、第1図において3はコイル、4はコイル
3と電極1とを接続する接続導体、5は導電軸で
ある。
3と電極1とを接続する接続導体、5は導電軸で
ある。
考案の目的
本考案は、上述した問題に鑑みてなされ、耐久
性に優れた縦磁界方式の真空インタラプタの提供
を目的とするものである。
性に優れた縦磁界方式の真空インタラプタの提供
を目的とするものである。
考案の構成
本考案は、上記目的を達成すべく真空容器内に
対をなす導電軸を相対的に接近離反自在に導入
し、前記各導電軸の内端部に円板状の電極を高抵
抗スペーサを介在せしめて連設し、前記それぞれ
の導電軸と電極とを電極の背部に配設されかつ導
電軸に流れる電流を導電軸を中心とするループ状
電流として軸方向磁界を発生するコイルにより接
続してなる真空インタラプタにおいて、前記各電
極における高抵抗スペーサの外側に存在する部分
の厚さをその直径の0.05〜0.15倍とすることによ
り、電極における高抵抗スペーサの外側に存在す
る部分と強度と衝撃力との調和を図るようにした
ものである。
対をなす導電軸を相対的に接近離反自在に導入
し、前記各導電軸の内端部に円板状の電極を高抵
抗スペーサを介在せしめて連設し、前記それぞれ
の導電軸と電極とを電極の背部に配設されかつ導
電軸に流れる電流を導電軸を中心とするループ状
電流として軸方向磁界を発生するコイルにより接
続してなる真空インタラプタにおいて、前記各電
極における高抵抗スペーサの外側に存在する部分
の厚さをその直径の0.05〜0.15倍とすることによ
り、電極における高抵抗スペーサの外側に存在す
る部分と強度と衝撃力との調和を図るようにした
ものである。
実施例
以下、図面を用いてこの考案の実施例を説明す
る。
る。
第2図は本考案の一実施例を示す真空インタラ
プタの縦断面図で、この真空インタラプタは、円
筒状に形成したガラス等からなる2本の絶縁筒6
を、それぞれの両端に固着したFe−Ni−Co合
金、Fe−Ni合金等からなる薄肉円環状の封着金
具7の一方を介し直列に接合して1本の絶縁筒と
するとともに、その両開口端を他方の封着金具7
を介し円板状の金属端板8a,8bにより閉塞
し、かつ内部を高真空に真空容器9が形成されて
いる。
プタの縦断面図で、この真空インタラプタは、円
筒状に形成したガラス等からなる2本の絶縁筒6
を、それぞれの両端に固着したFe−Ni−Co合
金、Fe−Ni合金等からなる薄肉円環状の封着金
具7の一方を介し直列に接合して1本の絶縁筒と
するとともに、その両開口端を他方の封着金具7
を介し円板状の金属端板8a,8bにより閉塞
し、かつ内部を高真空に真空容器9が形成されて
いる。
そして、真空容器9内には、対をなす導電軸1
0a,10bが各金属端板7a,7bの中央から
真空容器9の気密性を保持し相対的に接近離反自
在に導入されている。
0a,10bが各金属端板7a,7bの中央から
真空容器9の気密性を保持し相対的に接近離反自
在に導入されている。
なお、一方(第2図においても上方)の導電軸
10aは、一方の金属端板8aに気密に挿着さ
れ、また他方の導電軸10bは、金属ベローズ1
1により真空容器4の気密性を保持して他方の金
属端板8bを軸方向(第2図において上下方向)
へ移動自在に挿通されているものである。
10aは、一方の金属端板8aに気密に挿着さ
れ、また他方の導電軸10bは、金属ベローズ1
1により真空容器4の気密性を保持して他方の金
属端板8bを軸方向(第2図において上下方向)
へ移動自在に挿通されているものである。
また、第2図において12a,12bはそれぞ
れの導電軸10a,10bに付設した軸シール
ド、ベローズシールド、13aは各導電軸10
a,10b等を同心状に囲繞する主シールド、1
3bは補助シールドである。
れの導電軸10a,10bに付設した軸シール
ド、ベローズシールド、13aは各導電軸10
a,10b等を同心状に囲繞する主シールド、1
3bは補助シールドである。
前記各導電軸10a,10bの内端部には、第
3図に示すように、銅の如く高導電率の金属から
なるとともに、円板状の取付部14aと、この取
付部14aの外周から半径方向(第3図において
左右方向)外方へ放射状に延伸した複数の腕部1
4bと、各腕部14bの端部から取付部14aを
曲率中心とし同一方向へ円弧状に彎曲した円弧部
14cとからなるコイル14が、その取付部14
aの一方(第3図において下方)の面に設けた円
形の凹部15を介しろう付により固着されてい
る。
3図に示すように、銅の如く高導電率の金属から
なるとともに、円板状の取付部14aと、この取
付部14aの外周から半径方向(第3図において
左右方向)外方へ放射状に延伸した複数の腕部1
4bと、各腕部14bの端部から取付部14aを
曲率中心とし同一方向へ円弧状に彎曲した円弧部
14cとからなるコイル14が、その取付部14
aの一方(第3図において下方)の面に設けた円
形の凹部15を介しろう付により固着されてい
る。
コイル14は、導電軸10a,10bを流通す
る軸方向の電流を導電軸10a,10bを中心と
するループ状の電流に変更して縦磁界を発生する
ためのものである。そして、コイル14は、導電
軸10a,10bの内端部付近に嵌着したリング
状の取付部16aと、取付部16aの周面からコ
イル14の腕部14bと同一本数で半径方向外方
へ放射状に延伸しかつそれぞれの腕部14bと接
合した複数の支持腕部16bとからなる補強部材
16により補強されている。
る軸方向の電流を導電軸10a,10bを中心と
するループ状の電流に変更して縦磁界を発生する
ためのものである。そして、コイル14は、導電
軸10a,10bの内端部付近に嵌着したリング
状の取付部16aと、取付部16aの周面からコ
イル14の腕部14bと同一本数で半径方向外方
へ放射状に延伸しかつそれぞれの腕部14bと接
合した複数の支持腕部16bとからなる補強部材
16により補強されている。
なお、補強部材16は、ステンレス鋼等の如く
機械的強度大にしてかつ低導電率の金属からなる
ものである。
機械的強度大にしてかつ低導電率の金属からなる
ものである。
前記コイル14の取付部14aの他方の面に
は、一方の面と同様に円形の凹部17が設けられ
ており、この凹部17には、両端にフランジ部を
形成した円筒状にしてかつステンレス鋼、インコ
ネル等の機械的強度大にしてかつ低導電率の金属
からなる高抵抗スペーサ18が、一端のフランジ
部を介しろう付により固着されている。
は、一方の面と同様に円形の凹部17が設けられ
ており、この凹部17には、両端にフランジ部を
形成した円筒状にしてかつステンレス鋼、インコ
ネル等の機械的強度大にしてかつ低導電率の金属
からなる高抵抗スペーサ18が、一端のフランジ
部を介しろう付により固着されている。
高抵抗スペーサ18は、コイル14の取付部1
4aと後述のアダプタの基部との電気的な直接の
接続をしや断しつつ後述する電極およびアダプタ
を導電軸10a,10bに対し同軸的に連設する
ためのものである。高抵抗スペーサ18の他端の
フランジ部には、このフランジ部より適宜大径に
してかつ高抵抗スペーサ18の内径とほぼ同径の
透孔を有する円輪板状の基部19aと、この基部
19aの周面からコイル14の腕部14bと同一
本数にしてかつ同一長さで半径方向外方へ放射状
に延伸した複数の腕部(図示省略)と、各腕部の
端部から基部19aを曲率中心としてかつコイル
14の腕部14bとは逆の方向へ円弧状に彎曲し
た円弧部19bとからなるアダプタ19が、その
腕部をコイル14の腕部14bと軸方向において
重畳するが如くし基部19aの一面に設けた円形
の切欠段部20を介しろう付により固着されてい
る。
4aと後述のアダプタの基部との電気的な直接の
接続をしや断しつつ後述する電極およびアダプタ
を導電軸10a,10bに対し同軸的に連設する
ためのものである。高抵抗スペーサ18の他端の
フランジ部には、このフランジ部より適宜大径に
してかつ高抵抗スペーサ18の内径とほぼ同径の
透孔を有する円輪板状の基部19aと、この基部
19aの周面からコイル14の腕部14bと同一
本数にしてかつ同一長さで半径方向外方へ放射状
に延伸した複数の腕部(図示省略)と、各腕部の
端部から基部19aを曲率中心としてかつコイル
14の腕部14bとは逆の方向へ円弧状に彎曲し
た円弧部19bとからなるアダプタ19が、その
腕部をコイル14の腕部14bと軸方向において
重畳するが如くし基部19aの一面に設けた円形
の切欠段部20を介しろう付により固着されてい
る。
アダプタ19は、後述の電極を流通する電流経
路を軸方向の最端距離としてジユール熱の発生を
低減するためのもので、銅等の如く高導電率の金
属からなるものであり、その基部19aは、第2
図において上方へ僅かに突出して設けらている。
そして、アダプタ19とコイル14とは、一端を
アダプタ19の円弧部19bの端部に穿設した凹
部21に嵌着し、かつ他端をコイル14の円弧部
14cの端部に設けた孔22に挿着した軸方向の
接続導体23により電気的に接続されている。
路を軸方向の最端距離としてジユール熱の発生を
低減するためのもので、銅等の如く高導電率の金
属からなるものであり、その基部19aは、第2
図において上方へ僅かに突出して設けらている。
そして、アダプタ19とコイル14とは、一端を
アダプタ19の円弧部19bの端部に穿設した凹
部21に嵌着し、かつ他端をコイル14の円弧部
14cの端部に設けた孔22に挿着した軸方向の
接続導体23により電気的に接続されている。
前記アダプタ19には、その外径とほぼ等しい
直径Dを有するともに、一面中央に平担な円形の
対向面を有する笠形円板状のアーク拡散部24a
と、アーク拡散部24aの対向面に設けた円形の
凹部25に対向面より僅かに突出して固着した円
板状の接触部24bとからなる電極24が、アー
ク拡散部24aの裏面中央に設けた凹部26を介
しろう付によりアダプタ19の基部19aと固着
されるとともに、その裏面をアダプタ19の各腕
部および円弧部19bとろう付により結合されて
取付けられている。
直径Dを有するともに、一面中央に平担な円形の
対向面を有する笠形円板状のアーク拡散部24a
と、アーク拡散部24aの対向面に設けた円形の
凹部25に対向面より僅かに突出して固着した円
板状の接触部24bとからなる電極24が、アー
ク拡散部24aの裏面中央に設けた凹部26を介
しろう付によりアダプタ19の基部19aと固着
されるとともに、その裏面をアダプタ19の各腕
部および円弧部19bとろう付により結合されて
取付けられている。
電極24のアーク拡散部24aは、うず電流の
低減と機械的強度の向上を図るべく、低導電率に
してかつ高抗張力の電極材料、たとえば鉄粉末と
クロム粉末とをそれぞれの融点以下の温度で相互
に拡散結合した多孔質の基材に銅を溶浸してなる
20〜70重量%の銅、5〜40重量%の鉄および5〜
40重量%のクロム複合金属(導電率(IACS)5
〜30%、抗張力30Kgf/mm2以上)、またはステン
レス鋼(導電率2〜3%、抗張力30Kgf/mm2以
上)、もしくはステンレス鋼の粉末をその融点以
下の温度で相互に結合した多孔質の基材に銅を溶
浸してなる30〜70重量%の銅と30〜70重量%のス
テンレス鋼の複合金属(導電率4〜30%、抗張力
30Kgf/mm2以上)等により形成されている。
低減と機械的強度の向上を図るべく、低導電率に
してかつ高抗張力の電極材料、たとえば鉄粉末と
クロム粉末とをそれぞれの融点以下の温度で相互
に拡散結合した多孔質の基材に銅を溶浸してなる
20〜70重量%の銅、5〜40重量%の鉄および5〜
40重量%のクロム複合金属(導電率(IACS)5
〜30%、抗張力30Kgf/mm2以上)、またはステン
レス鋼(導電率2〜3%、抗張力30Kgf/mm2以
上)、もしくはステンレス鋼の粉末をその融点以
下の温度で相互に結合した多孔質の基材に銅を溶
浸してなる30〜70重量%の銅と30〜70重量%のス
テンレス鋼の複合金属(導電率4〜30%、抗張力
30Kgf/mm2以上)等により形成されている。
また、接触部24bは、絶縁耐力と電流しや断
能力の向上および電流さい断値の低減を図るべ
く、クロムとモリブデンの粉末をその融点以下の
温度で相互に拡散結合した多孔質の基材に銅を溶
浸してなる20〜70重量%の銅、5〜70重量%のク
ロムおよび5〜70重量%モリブデンの複合金属
(導電率20〜60%)により形成されている。
能力の向上および電流さい断値の低減を図るべ
く、クロムとモリブデンの粉末をその融点以下の
温度で相互に拡散結合した多孔質の基材に銅を溶
浸してなる20〜70重量%の銅、5〜70重量%のク
ロムおよび5〜70重量%モリブデンの複合金属
(導電率20〜60%)により形成されている。
また、電極24は、高抵抗スペーサ18の外側
に存在する部分の厚さTを、投入、しや断操作時
に電極24等に加えられる衝撃力により、高抵抗
スペーサ18の外周縁付近とアダプタ19の基部
19aとの接合部分およびアダプタ19の基部1
9aとアーク拡散部24aの裏面中央付近との接
合部分に生ずるひずみが、電極24の直径Dと高
抵抗スペーサ18の外側に存在する電極24の厚
さTとの関係において最小となるように、アーク
拡散部24aの直径Dの0.05〜0.15倍に設けてあ
る。
に存在する部分の厚さTを、投入、しや断操作時
に電極24等に加えられる衝撃力により、高抵抗
スペーサ18の外周縁付近とアダプタ19の基部
19aとの接合部分およびアダプタ19の基部1
9aとアーク拡散部24aの裏面中央付近との接
合部分に生ずるひずみが、電極24の直径Dと高
抵抗スペーサ18の外側に存在する電極24の厚
さTとの関係において最小となるように、アーク
拡散部24aの直径Dの0.05〜0.15倍に設けてあ
る。
ここで、第4図に示すように、一定の直径D1
(100m/m)の円板Aの一面中央に円筒状の支持
体Bをその両端のフランジ部を介して接合すると
ともに、円板Aの一面における支持体Bとの接合
部周辺にひずみ計Cを貼付し、円板Aに支持体B
を介し軸方向の所定の衝撃力(約1000G)を加
え、かつ円板Aの板厚tおよび支持体Bの外径
D2を変えた場合の円板Aの支持体Bとの接合部
周辺のひずみは、横軸に円板Aの直径に対する板
厚tとの比(t/D1)、縦軸に板厚2m/mの円
板Aのひずみを100%とした割合をとつた第5図
に示すようになつた。なお、第5図において曲線
a,b,cは、それぞれ支持体Bの外径D2を
50m/m、60m/m、70m/mとしたものであ
る。
(100m/m)の円板Aの一面中央に円筒状の支持
体Bをその両端のフランジ部を介して接合すると
ともに、円板Aの一面における支持体Bとの接合
部周辺にひずみ計Cを貼付し、円板Aに支持体B
を介し軸方向の所定の衝撃力(約1000G)を加
え、かつ円板Aの板厚tおよび支持体Bの外径
D2を変えた場合の円板Aの支持体Bとの接合部
周辺のひずみは、横軸に円板Aの直径に対する板
厚tとの比(t/D1)、縦軸に板厚2m/mの円
板Aのひずみを100%とした割合をとつた第5図
に示すようになつた。なお、第5図において曲線
a,b,cは、それぞれ支持体Bの外径D2を
50m/m、60m/m、70m/mとしたものであ
る。
したがつて、支持体Bの外径D2を大きくする
ことによりひずみが小さくなるとともに、板厚t
を円板Aの直径D1の0.05〜0.15倍とすることによ
りひずみを最小にすることができることが判る。
ことによりひずみが小さくなるとともに、板厚t
を円板Aの直径D1の0.05〜0.15倍とすることによ
りひずみを最小にすることができることが判る。
従来は電極24の直径Dが80〜120mmの場合は、
円板Aの板厚Tは16mm以上あり、直径Dが大きく
なると、この板厚Tも厚くしていた。従つてT/
D=t/D1≒0.2以上となり、第5図から電極と
スペーサとの接合部分のひずみが大となり、この
部分での剥離が生ずる原因が解明された。
円板Aの板厚Tは16mm以上あり、直径Dが大きく
なると、この板厚Tも厚くしていた。従つてT/
D=t/D1≒0.2以上となり、第5図から電極と
スペーサとの接合部分のひずみが大となり、この
部分での剥離が生ずる原因が解明された。
なお、電極24は、笠形円板状のアーク拡散部
24aと円板状の接触部24bとからなる場合に
限らず、たとえば接触部24bを設けることなく
対向面中央に平担な円形の接触部を有する笠形円
板状のもの、もしくは円板の一面中央に円板状の
接触部を一体または一体的に設けたものでも同様
に適用し得るものである。
24aと円板状の接触部24bとからなる場合に
限らず、たとえば接触部24bを設けることなく
対向面中央に平担な円形の接触部を有する笠形円
板状のもの、もしくは円板の一面中央に円板状の
接触部を一体または一体的に設けたものでも同様
に適用し得るものである。
考案の効果
以上の如く本考案によれば、電極における高抵
抗スペーサの外側に存在する部分の厚さをその直
径の0.05〜0.15倍としたので、高抵抗スペーサの
外周縁付近とアダプタの基部との接合部分および
アダプタの基部と電極の裏面中央付近との接合部
分のひずみを最小にすることができる等の効果を
奏する。
抗スペーサの外側に存在する部分の厚さをその直
径の0.05〜0.15倍としたので、高抵抗スペーサの
外周縁付近とアダプタの基部との接合部分および
アダプタの基部と電極の裏面中央付近との接合部
分のひずみを最小にすることができる等の効果を
奏する。
第1図は従来技術の縦断面説明図、第2図は本
考案の一実施例を示す真空インタラプタの縦断面
図、第3図は要部の縦断面図、第4図は模擬試験
装置の説明図、第5図は円板の厚さの変化に対す
る支持体との接合部周辺におけるひずみ特性図で
ある。 9……真空容器、10a,10b……導電軸、
14……コイル、14a……取付部、14b……
腕部、14c……円弧部、18……高抵抗スペー
サ、24……電極、24a……アーク拡散部、2
4b……接触部、D……直径、T……厚さ。
考案の一実施例を示す真空インタラプタの縦断面
図、第3図は要部の縦断面図、第4図は模擬試験
装置の説明図、第5図は円板の厚さの変化に対す
る支持体との接合部周辺におけるひずみ特性図で
ある。 9……真空容器、10a,10b……導電軸、
14……コイル、14a……取付部、14b……
腕部、14c……円弧部、18……高抵抗スペー
サ、24……電極、24a……アーク拡散部、2
4b……接触部、D……直径、T……厚さ。
Claims (1)
- 真空容器内に対をなす導電軸を相対的に接近離
反自在に導入し、前記各導電軸の内端部に円板状
の電極を高抵抗スペーサを介在せしめて連設し、
前記それぞれの導電軸と電極とを電極の背部に配
設されかつ導電軸に流れる電流を導電軸を中心と
するループ状電流として軸方向磁界を発生するコ
イルにより接続してなる真空インタラプタにおい
て、前記各電極における高抵抗スペーサの外側に
存在する部分の厚さをその直径の0.05〜0.15倍と
したことを特徴とする真空インタラプタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848583U JPS6046629U (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 真空インタラプタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13848583U JPS6046629U (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 真空インタラプタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046629U JPS6046629U (ja) | 1985-04-02 |
| JPS645325Y2 true JPS645325Y2 (ja) | 1989-02-09 |
Family
ID=30310710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13848583U Granted JPS6046629U (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 真空インタラプタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046629U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2653466B2 (ja) * | 1988-04-22 | 1997-09-17 | 株式会社東芝 | 真空バルブ |
-
1983
- 1983-09-07 JP JP13848583U patent/JPS6046629U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6046629U (ja) | 1985-04-02 |
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