JPS648924U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案の一実施例を示す正断面図で
あり、第２図は従来例を示す正断面図である。 １……洗浄室、２……ガス入口、３……ガス出
口、４……ガス洗浄部、５……充填物、６……散
布装置、７……吸収液、８……受槽、９……フア
ン、１０……液供給装置、１１……散布槽、１２
……エリミネーター、１３……ポンプ、１４……
供給口、２１……洗浄室、２２……ガス入口、２
３……ガス出口、２４……ガス洗浄部、２５……
充填物、２６……散布装置、２７……吸収液、２
８……受槽、２９……フアン。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 洗浄室内を通過するガスと吸収液とを接触させ
   て、ガスから、ガス状、又は液状、もしくは固体
   粒子状の不純物を除去するガス洗浄装置において
   、ガス入口を洗浄室の下方に、ガス出口を洗浄室
   の上方にそれぞれ配し、この洗浄室内には複数の
   ガス洗浄部を上下方向に適宜配設し、これらのガ
   ス洗浄部は、散布した吸収液を含んで、通過する
   ガスから前記不純物を除去する充填物と、この充
   填物の上方に適宜配設して充填物に吸収液を、連
   続的、或いは滴状に流下させて散布する散布器と
   、この散布器に吸収液を供給する液供給装置とか
   らなり、最上に位置するガス洗浄部以外のガス洗
   浄部には、充填物の上に、上方に位置するガス洗
   浄部から流下してくる吸収液の少なくとも一部を
   受けて、その受けた吸収液を充填物に連続的、或
   いは滴状に流下させて散布する適数個の散布槽を
   配し、洗浄室の下部には、散布された吸収液を最
   終的に受ける受槽を配してこの受槽内の吸収液を
   再び前記液供給装置に送つて循環可能に形成した
   ことを特徴とするガス洗浄装置。