JPS649539B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS649539B2 JPS649539B2 JP55171909A JP17190980A JPS649539B2 JP S649539 B2 JPS649539 B2 JP S649539B2 JP 55171909 A JP55171909 A JP 55171909A JP 17190980 A JP17190980 A JP 17190980A JP S649539 B2 JPS649539 B2 JP S649539B2
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- JP
- Japan
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- air
- casing
- screen
- blower
- outlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Central Air Conditioning (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ICやLSIの製造、検査、測定などの
諸工程における高精度の温湿度調整空間並びに清
浄空間を無チヤンバー式にレイアウト内に形成す
るようにした集積回路等の製造作業環境を形成す
る装置に関する。
諸工程における高精度の温湿度調整空間並びに清
浄空間を無チヤンバー式にレイアウト内に形成す
るようにした集積回路等の製造作業環境を形成す
る装置に関する。
従来のIC製造に必要とされた清浄環境は、超
LSIの開発等に伴つて無塵のみでは品質保証が困
難となり、温度、湿度、振動、電磁気遮蔽その他
の広範囲の高精度の制御が必要とされるようにな
つてきた。このため、製造ラインにおける作業単
位空間をさらに1つのチヤンバー内に形成するい
わゆる恒温湿クリーンチヤンバーが種々開発され
ている。しかし、建物内製造ラインにさらに閉鎖
空間であるチヤンバーを形成することは、スペー
スが拡大しラインの複雑化および点検スペースの
狭さのために保守性が悪くなる場合があるし、閉
鎖空間での作業は圧迫感を与えて作業能率の面で
好ましくない場合もある。
LSIの開発等に伴つて無塵のみでは品質保証が困
難となり、温度、湿度、振動、電磁気遮蔽その他
の広範囲の高精度の制御が必要とされるようにな
つてきた。このため、製造ラインにおける作業単
位空間をさらに1つのチヤンバー内に形成するい
わゆる恒温湿クリーンチヤンバーが種々開発され
ている。しかし、建物内製造ラインにさらに閉鎖
空間であるチヤンバーを形成することは、スペー
スが拡大しラインの複雑化および点検スペースの
狭さのために保守性が悪くなる場合があるし、閉
鎖空間での作業は圧迫感を与えて作業能率の面で
好ましくない場合もある。
本発明は、例えばICやLSI製造工程における露
光装置の如く、複数台の装置が配列されるような
場合に特に適する無チヤンバー式の恒温湿清浄環
境形成装置を提供するものである。
光装置の如く、複数台の装置が配列されるような
場合に特に適する無チヤンバー式の恒温湿清浄環
境形成装置を提供するものである。
図面の実施例(例えば第1図)に示したよう
に、本発明の装置は、衝立状のケーシング1の内
部に、室内(製造ライン)の作業単位空間の縦断
面を覆うに十分な面積を有する垂直な多孔板から
なる吹出口2と、この吹出口2の背後にあつて吹
出口2とほぼ等しい開口面積を有するHEPAフ
イルタ3と、このフイルタ3の背後の気圧均等化
用の空洞4と、この空洞4に送気するためのケー
シング1の下部に設けられた送風機5と、この送
風機5に室内の空気を該吹出口2とは反対側のケ
ーシング下部より取入れて導くようにした吸込口
6と、この吸込口6から送風機5に至るケーシン
グ下部の気流通路に配置した直膨式冷却コイル7
および電気ヒーター8と、冷却コイル7用の冷凍
機9と、をそれぞれ収納して構成されており、冷
却コイル7で過冷却された空気が電気ヒーター8
で再熱されて設定温度の空気として吹出すように
なつている。なお、第1図において10はプレフ
イルタ、11はドレンパン、12はドレン配管、
13は冷却水往管、14は冷却水還管、15は制
水弁、16は吹出口2の両側縁から直角に延び出
した垂直なフード、17は吹出口2の上縁から直
角に延び出した水平なフードを示している。ま
た、18は測温体、19は温度指示調節器、20
はSCR電力調整器を示している。
に、本発明の装置は、衝立状のケーシング1の内
部に、室内(製造ライン)の作業単位空間の縦断
面を覆うに十分な面積を有する垂直な多孔板から
なる吹出口2と、この吹出口2の背後にあつて吹
出口2とほぼ等しい開口面積を有するHEPAフ
イルタ3と、このフイルタ3の背後の気圧均等化
用の空洞4と、この空洞4に送気するためのケー
シング1の下部に設けられた送風機5と、この送
風機5に室内の空気を該吹出口2とは反対側のケ
ーシング下部より取入れて導くようにした吸込口
6と、この吸込口6から送風機5に至るケーシン
グ下部の気流通路に配置した直膨式冷却コイル7
および電気ヒーター8と、冷却コイル7用の冷凍
機9と、をそれぞれ収納して構成されており、冷
却コイル7で過冷却された空気が電気ヒーター8
で再熱されて設定温度の空気として吹出すように
なつている。なお、第1図において10はプレフ
イルタ、11はドレンパン、12はドレン配管、
13は冷却水往管、14は冷却水還管、15は制
水弁、16は吹出口2の両側縁から直角に延び出
した垂直なフード、17は吹出口2の上縁から直
角に延び出した水平なフードを示している。ま
た、18は測温体、19は温度指示調節器、20
はSCR電力調整器を示している。
本装置の空気処理系統図を第2図に示した。吹
込口6から直膨式冷却コイル7に入つた空気は、
ここで作業域の設定温度より過冷却される。この
冷却コイル7は圧縮機21によつて凝縮器22と
の間でヒートポンプを形成する蒸発器として機能
する。この冷却コイル7で過冷却され除湿された
低温空気は電気ヒーター8によつて設定温度にな
るように再度加熱される。この制御は次のように
して行なわれる。吹出面または指定位置に取付け
られた測温抵抗体18によつて温度検出がなさ
れ、この信号が温度指示(記録)調節器19に送
られる。この温度調節器19はPID機能(比例、
積分、微分)をもち、送られてきた温度信号を比
較および調節して吹出温度が設定温度になるよう
な指令をSCR(サイリスタ調節器)20に送り、
このSCR20によつて電気ヒーター8の容量制
御がなされ設定温度の±α°以内に保持する。この
αは0.1℃以内とすることができる。このように
して、低湿かつ一定温度に調整された空気は送風
機5によつて空洞4に入り、ここから均等圧のも
とでHEPAフイルタ3を経て作業域に吹出口2
から水平層流として吹出される。このHEPAフ
イルタは、米国連邦基準209bによる最高清浄
度クラス100を維持するものを使用する。
込口6から直膨式冷却コイル7に入つた空気は、
ここで作業域の設定温度より過冷却される。この
冷却コイル7は圧縮機21によつて凝縮器22と
の間でヒートポンプを形成する蒸発器として機能
する。この冷却コイル7で過冷却され除湿された
低温空気は電気ヒーター8によつて設定温度にな
るように再度加熱される。この制御は次のように
して行なわれる。吹出面または指定位置に取付け
られた測温抵抗体18によつて温度検出がなさ
れ、この信号が温度指示(記録)調節器19に送
られる。この温度調節器19はPID機能(比例、
積分、微分)をもち、送られてきた温度信号を比
較および調節して吹出温度が設定温度になるよう
な指令をSCR(サイリスタ調節器)20に送り、
このSCR20によつて電気ヒーター8の容量制
御がなされ設定温度の±α°以内に保持する。この
αは0.1℃以内とすることができる。このように
して、低湿かつ一定温度に調整された空気は送風
機5によつて空洞4に入り、ここから均等圧のも
とでHEPAフイルタ3を経て作業域に吹出口2
から水平層流として吹出される。このHEPAフ
イルタは、米国連邦基準209bによる最高清浄
度クラス100を維持するものを使用する。
本装置はこのようにして高精度の温湿度調整と
無塵化を行なうものであるが、その形状を衝立状
とし、この衝立状ケーシング1内に各種機器を前
述のようにコンパクトに収納配置し、作業単位空
間だけに水平層流としてエアを吹出し、かつ本装
置をシリーズに同方向に配置することによつて集
積回路等の製造ラインの配置機器の1部としてラ
イン化できるようにした点に大きな特徴がある。
これを第3〜5図に示した。第3〜5図は、IC
またはLSI製造工程における露光装置(リソグラ
フイ装置)Rに対して本発明装置Cを配置したラ
イン図である。第3図の側面図および第4図の平
面図に示す如く、本発明装置Cは各露光装置Rの
作業単位空間にのみ制御空気を1側方から各々層
流として吹出すようにし、この吹出される空気の
方向は、シリーズに配置された各本発明装置Cに
おいて同方向とし、上流側の装置で吹出された空
気は下流側に隣接する装置(衝立)によつて遮ら
れて下流側の露光装置の作業環境に悪影響を及ぼ
さないようにすると共に、上流側装置から吹出さ
れた空気の1部をその裏面の吸込口から取入れる
ようにし、かつ冷凍機、冷却水、往還管並びにド
レン配管を共用できるようにしてある。第5図は
この配置ラインをさらに詳細に示した平面図であ
り、露光装置Rとその他の付属機器例えばオペレ
ーシヨンコンソールOやコンピユータラツクGと
共に、本発明装置Cが組み込まれて集積回路製造
ラインの1つの付属機械として好適に機能するこ
とが理解されよう。
無塵化を行なうものであるが、その形状を衝立状
とし、この衝立状ケーシング1内に各種機器を前
述のようにコンパクトに収納配置し、作業単位空
間だけに水平層流としてエアを吹出し、かつ本装
置をシリーズに同方向に配置することによつて集
積回路等の製造ラインの配置機器の1部としてラ
イン化できるようにした点に大きな特徴がある。
これを第3〜5図に示した。第3〜5図は、IC
またはLSI製造工程における露光装置(リソグラ
フイ装置)Rに対して本発明装置Cを配置したラ
イン図である。第3図の側面図および第4図の平
面図に示す如く、本発明装置Cは各露光装置Rの
作業単位空間にのみ制御空気を1側方から各々層
流として吹出すようにし、この吹出される空気の
方向は、シリーズに配置された各本発明装置Cに
おいて同方向とし、上流側の装置で吹出された空
気は下流側に隣接する装置(衝立)によつて遮ら
れて下流側の露光装置の作業環境に悪影響を及ぼ
さないようにすると共に、上流側装置から吹出さ
れた空気の1部をその裏面の吸込口から取入れる
ようにし、かつ冷凍機、冷却水、往還管並びにド
レン配管を共用できるようにしてある。第5図は
この配置ラインをさらに詳細に示した平面図であ
り、露光装置Rとその他の付属機器例えばオペレ
ーシヨンコンソールOやコンピユータラツクGと
共に、本発明装置Cが組み込まれて集積回路製造
ラインの1つの付属機械として好適に機能するこ
とが理解されよう。
このようにして本発明装置は、室内の作業単位
空間の縦断面を覆うに十分な面積を有する吹出口
を一側面に有した衝立状の縦長のケーシング内
に、該吹出口とほぼ等しい開口面積を有する
HEPAフイルタを垂直方向に設置すると共に、
このHEPAフイルタの背後に気圧均等化用の空
洞を設け、該吹出口とは反対側のケーシング側面
下部に室内空気を取入れる吸込口を設け、この吸
込口から取り入れた空気を前記空洞に送気するた
めの送風機をケーシング内に設置すると共に、こ
の吸込口から送風機に至る気流通路に空気冷却コ
イルおよび電気ヒーターを設けて該冷却コイルで
取入空気を過冷却したあと電気ヒーターで設定温
度まで再熱する構成とし、このように構成された
衝立状空気処理装置の複数個を吹出気流の方向が
実質上同方向となるように室内に間隔を開けて据
え付け、これら衝立状空気処理装置の間隔空間に
室内の作業単位空間を配するようにしたので、集
積回路等の製造ラインにおける作業単位空間だけ
を、チヤンバーに構成せずとも、ラインの流れを
乱さないで個別に無塵かつ定温定湿の高精度の環
境を形成することができ、かつチヤンバー方式の
如き点検スペースの増大並びに作業性および保守
性の不備なども回避され、ICやLSI製造工場にお
いて多大の貢献をなし得るものである。
空間の縦断面を覆うに十分な面積を有する吹出口
を一側面に有した衝立状の縦長のケーシング内
に、該吹出口とほぼ等しい開口面積を有する
HEPAフイルタを垂直方向に設置すると共に、
このHEPAフイルタの背後に気圧均等化用の空
洞を設け、該吹出口とは反対側のケーシング側面
下部に室内空気を取入れる吸込口を設け、この吸
込口から取り入れた空気を前記空洞に送気するた
めの送風機をケーシング内に設置すると共に、こ
の吸込口から送風機に至る気流通路に空気冷却コ
イルおよび電気ヒーターを設けて該冷却コイルで
取入空気を過冷却したあと電気ヒーターで設定温
度まで再熱する構成とし、このように構成された
衝立状空気処理装置の複数個を吹出気流の方向が
実質上同方向となるように室内に間隔を開けて据
え付け、これら衝立状空気処理装置の間隔空間に
室内の作業単位空間を配するようにしたので、集
積回路等の製造ラインにおける作業単位空間だけ
を、チヤンバーに構成せずとも、ラインの流れを
乱さないで個別に無塵かつ定温定湿の高精度の環
境を形成することができ、かつチヤンバー方式の
如き点検スペースの増大並びに作業性および保守
性の不備なども回避され、ICやLSI製造工場にお
いて多大の貢献をなし得るものである。
第1図は本発明装置の1実施例を示す概略縦断
面図、第2図は本発明装置の空気処理系統図、第
3図は本発明装置はICの露光装置に適用した例
を示す側面図、第4図は第3図の例の平面図、第
5図は第4図の全体平面図である。 1……衝立状ケーシング、2……吹出口、3…
…HEPAフイルタ、4……空洞、5……送風機、
6……吸込口、7……冷却コイル、8……電気ヒ
ーター、9……冷凍機、10……プレフイルタ、
13……冷却水往管、14……冷却水環管、15
……制水弁、16,17……フード(透明)、1
8……測温体、19……温度指示調節器、20…
…SCR電力調整器。
面図、第2図は本発明装置の空気処理系統図、第
3図は本発明装置はICの露光装置に適用した例
を示す側面図、第4図は第3図の例の平面図、第
5図は第4図の全体平面図である。 1……衝立状ケーシング、2……吹出口、3…
…HEPAフイルタ、4……空洞、5……送風機、
6……吸込口、7……冷却コイル、8……電気ヒ
ーター、9……冷凍機、10……プレフイルタ、
13……冷却水往管、14……冷却水環管、15
……制水弁、16,17……フード(透明)、1
8……測温体、19……温度指示調節器、20…
…SCR電力調整器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 室内の作業単位空間の縦断面を覆うに十分な
面積を有する吹出口を一側面に有した衝立状の縦
長のケーシング内に、該吹出口とほぼ等しい開口
面積を有するHEPAフイルタを垂直方向に設置
すると共に、このHEPAフイルタの背後に気圧
均等化用の空洞を設け、 該吹出口とは反対側のケーシング側面下部に室
内空気を取入れる吸込口を設け、 該吸込口から取り入れた空気を前記空洞に送気
するための送風機をケーシング内に設置すると共
に、この吸込口から送風機に至る気流通路に空気
冷却コイルおよび電気ヒーターを設けて該冷却コ
イルで取入空気を過冷却したあと電気ヒーターで
設定温度まで再熱する構成とし、 このように構成された衝立状空気処理装置の複
数個を吹出気流の方向が実質上同方向となるよう
に室内に間隔を開けて据え付け、これら衝立状空
気処理装置の間隔空間に室内の作業単位空間を配
するようにした集積回路等の製造作業環境を形成
する装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55171909A JPS5795536A (en) | 1980-12-05 | 1980-12-05 | Apparatus for preparing work environment for manufacturing integrated circuits or the like |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55171909A JPS5795536A (en) | 1980-12-05 | 1980-12-05 | Apparatus for preparing work environment for manufacturing integrated circuits or the like |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5795536A JPS5795536A (en) | 1982-06-14 |
| JPS649539B2 true JPS649539B2 (ja) | 1989-02-17 |
Family
ID=15932069
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55171909A Granted JPS5795536A (en) | 1980-12-05 | 1980-12-05 | Apparatus for preparing work environment for manufacturing integrated circuits or the like |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5795536A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6054142U (ja) * | 1983-09-20 | 1985-04-16 | 日本電気株式会社 | 位置合わせ露光装置用チヤンバ− |
| JPS61122433A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-10 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | クリ−ンドライベンチ |
| JPH0533856Y2 (ja) * | 1985-12-02 | 1993-08-27 | ||
| JP3460532B2 (ja) * | 1997-09-24 | 2003-10-27 | ダイキン工業株式会社 | 低湿度作業装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5319661A (en) * | 1976-08-09 | 1978-02-23 | Takasago Thermal Eng Co Lts | Air conditioner in clean room |
-
1980
- 1980-12-05 JP JP55171909A patent/JPS5795536A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5795536A (en) | 1982-06-14 |
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