JPS649700B2 - - Google Patents
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- JPS649700B2 JPS649700B2 JP542782A JP542782A JPS649700B2 JP S649700 B2 JPS649700 B2 JP S649700B2 JP 542782 A JP542782 A JP 542782A JP 542782 A JP542782 A JP 542782A JP S649700 B2 JPS649700 B2 JP S649700B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J7/00—Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J7/14—Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J7/18—Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
- H01J7/183—Composition or manufacture of getters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は受信管、X線管、陰極線管等の電子管
内残留ガスを吸着する蒸発性の耐酸化性ゲツタ装
置の製造方法に関する。
内残留ガスを吸着する蒸発性の耐酸化性ゲツタ装
置の製造方法に関する。
発明の技術的背景とその問題点
ゲツタ装置を大別すると、電子管等の真空領域
内でバリウムを蒸発して得られた薄膜に残留ガス
を吸着させる蒸発型ゲツタ装置と、チタン、ジル
コニウム、タンタル等を真空領域内に配置してゲ
ツタ作用を行わせる非蒸発型ゲツタ装置とに分け
られる。このうち蒸発型ゲツタ装置の蒸発物質即
ち残留ガスを吸着する物質としてはバリウムが広
く用いられているが、これは大気中で容易に酸化
するためバリウム―アルミニウム(以下Ba―Al
と称する)合金とし、これを粉末化してゲツタ材
としている。さらに主に用いられるゲツタ装置と
してはBa―Al合金粉末にニツケル粉末の反応添
加材(還元性金属)の粉末を混合して導通性容器
に充填したものである。これは、ゲツタ装置が加
熱されるとBa―Al合金粉末中のアルミニウムと
ニツケル粉末(反応添加材)とが反応を起こし、
その反応熱によつてバリウムの蒸発が容易にな
る。上記のゲツタ装置は高周波加熱などにより加
熱しバリウムのゲツタ膜を真空容器内壁に形成す
る。
内でバリウムを蒸発して得られた薄膜に残留ガス
を吸着させる蒸発型ゲツタ装置と、チタン、ジル
コニウム、タンタル等を真空領域内に配置してゲ
ツタ作用を行わせる非蒸発型ゲツタ装置とに分け
られる。このうち蒸発型ゲツタ装置の蒸発物質即
ち残留ガスを吸着する物質としてはバリウムが広
く用いられているが、これは大気中で容易に酸化
するためバリウム―アルミニウム(以下Ba―Al
と称する)合金とし、これを粉末化してゲツタ材
としている。さらに主に用いられるゲツタ装置と
してはBa―Al合金粉末にニツケル粉末の反応添
加材(還元性金属)の粉末を混合して導通性容器
に充填したものである。これは、ゲツタ装置が加
熱されるとBa―Al合金粉末中のアルミニウムと
ニツケル粉末(反応添加材)とが反応を起こし、
その反応熱によつてバリウムの蒸発が容易にな
る。上記のゲツタ装置は高周波加熱などにより加
熱しバリウムのゲツタ膜を真空容器内壁に形成す
る。
しかし乍らゲツタ装置を蒸発させる以前に、ゲ
ツタ装置が不所望な加熱をしばしば受け、ゲツタ
材のうち主としてニツケルが酸化されて、ゲツタ
膜を形成する上で支障となる場合がある。また、
陰極線管を小型化し省電力型とするためにネツク
径を小さくし、ゲツタ装置の機能を十分に働らか
すためにゲツタ装置の形状が大きくする場合には
ネツク部から挿入するのが困難となつた。その上
ゲツタ装置を電子銃から電気的に切り離し、不所
望なサージ電流がゲツタ装置―電子銃間に流れる
ことを防止するためにもフアンネルのネツク部か
らゲツタ装置を挿入しない方が良いことが確認さ
れている。
ツタ装置が不所望な加熱をしばしば受け、ゲツタ
材のうち主としてニツケルが酸化されて、ゲツタ
膜を形成する上で支障となる場合がある。また、
陰極線管を小型化し省電力型とするためにネツク
径を小さくし、ゲツタ装置の機能を十分に働らか
すためにゲツタ装置の形状が大きくする場合には
ネツク部から挿入するのが困難となつた。その上
ゲツタ装置を電子銃から電気的に切り離し、不所
望なサージ電流がゲツタ装置―電子銃間に流れる
ことを防止するためにもフアンネルのネツク部か
らゲツタ装置を挿入しない方が良いことが確認さ
れている。
たとえば、英国特許第1226728号明細書に開示
されているような場合である。この開示例によれ
ば、陰極線管を構成するパネル部とフアンネル部
とがフリツトガラスにより封着される前にゲツタ
装置が内部に取り付けられる。その後、大気中で
フリツトガラスをフアンネルとパネルとの封着部
に塗布し、450℃で1時間高温処理を行なつて封
着を完了させる。この際、Ba―Al合金粉末とニ
ツケル粉末との混合粉末が充填されたゲツタ装置
は、上記封着工程時の大気中450℃の1時間の高
温処理中に酸化して、主として酸化ニツケル(以
下NiOと称する)を生じる。NiOがゲツタ装置中
に存在すると、NiOとBa―Al合金粉末とが高温
時に急激な反応を生じゲツタ装置を加熱してバリ
ウムを蒸発させる(以下ゲツタフラツシユと称す
る)際に、爆発的なバリウムの飛散という結果を
もたらす。NiOの生成量が多量の場合、金属容器
そのものまでが溶断されてゲツタ材と共に爆発的
な飛散をもたらす危険性がある。たとえばカラー
テレビジヨン用陰極線管において、この種の爆発
的飛散は耐圧不良等の原因となり管機能を損うの
で絶対に避けなければならない。以上の理由から
大気中で高温に曝されても何ら障害を生じないゲ
ツタ装置が求められている。このような目的で表
面に有機シランを被覆したゲツタ装置が特開昭52
―84960号公報に、また酸化シリコンを被覆した
ゲツタ装置が特開昭52―139355号公報に開示され
ている。そして、ホウ素酸化物を被覆したゲツタ
装置が特開昭56―61736号公報に開示されている。
されているような場合である。この開示例によれ
ば、陰極線管を構成するパネル部とフアンネル部
とがフリツトガラスにより封着される前にゲツタ
装置が内部に取り付けられる。その後、大気中で
フリツトガラスをフアンネルとパネルとの封着部
に塗布し、450℃で1時間高温処理を行なつて封
着を完了させる。この際、Ba―Al合金粉末とニ
ツケル粉末との混合粉末が充填されたゲツタ装置
は、上記封着工程時の大気中450℃の1時間の高
温処理中に酸化して、主として酸化ニツケル(以
下NiOと称する)を生じる。NiOがゲツタ装置中
に存在すると、NiOとBa―Al合金粉末とが高温
時に急激な反応を生じゲツタ装置を加熱してバリ
ウムを蒸発させる(以下ゲツタフラツシユと称す
る)際に、爆発的なバリウムの飛散という結果を
もたらす。NiOの生成量が多量の場合、金属容器
そのものまでが溶断されてゲツタ材と共に爆発的
な飛散をもたらす危険性がある。たとえばカラー
テレビジヨン用陰極線管において、この種の爆発
的飛散は耐圧不良等の原因となり管機能を損うの
で絶対に避けなければならない。以上の理由から
大気中で高温に曝されても何ら障害を生じないゲ
ツタ装置が求められている。このような目的で表
面に有機シランを被覆したゲツタ装置が特開昭52
―84960号公報に、また酸化シリコンを被覆した
ゲツタ装置が特開昭52―139355号公報に開示され
ている。そして、ホウ素酸化物を被覆したゲツタ
装置が特開昭56―61736号公報に開示されている。
特開昭52―84960号公報によれば、アルキル、
アリール、アラルキル、アルカリールおよび水素
を含むポリシロキサンなどの有機シランにより被
覆されたゲツタ装置が空気中420℃で1時間の加
熱に耐え、爆発的な飛散を呈することなくバリウ
ムを蒸発せしめ得ることが示されている。しかし
ながら、このような有機シランにより被覆された
ゲツタ装置でゲツタフラツシユを行なつた際、有
機シランから主として炭化水素系の気体が多量に
放出され、これらの気体はゲツタ膜に容易に吸着
されず、ゲツタフラツシユ後しばらくの間管内圧
力が10-3Torr程度に放置されるという問題が生
じる。このような多量の残留ガスは、テレビ用陰
極線管内等の高電圧で負荷された空間内ではイオ
ン化され、加速されて陰極あるいは陽極に衝突し
スパツタリング現象をおこす。このスパツタリン
グ現象により陰極上の電子放射性物質の一部が他
の好ましくない箇所に飛着し耐圧特性を著しく劣
化させたり、或は陽極側でいわゆるイオンスポツ
トを生ずる。
アリール、アラルキル、アルカリールおよび水素
を含むポリシロキサンなどの有機シランにより被
覆されたゲツタ装置が空気中420℃で1時間の加
熱に耐え、爆発的な飛散を呈することなくバリウ
ムを蒸発せしめ得ることが示されている。しかし
ながら、このような有機シランにより被覆された
ゲツタ装置でゲツタフラツシユを行なつた際、有
機シランから主として炭化水素系の気体が多量に
放出され、これらの気体はゲツタ膜に容易に吸着
されず、ゲツタフラツシユ後しばらくの間管内圧
力が10-3Torr程度に放置されるという問題が生
じる。このような多量の残留ガスは、テレビ用陰
極線管内等の高電圧で負荷された空間内ではイオ
ン化され、加速されて陰極あるいは陽極に衝突し
スパツタリング現象をおこす。このスパツタリン
グ現象により陰極上の電子放射性物質の一部が他
の好ましくない箇所に飛着し耐圧特性を著しく劣
化させたり、或は陽極側でいわゆるイオンスポツ
トを生ずる。
また、特開昭52―139355号公報に示された酸化
シリコン層により被覆されたゲツタ装置は、高温
酸化に対しかなりの保護効果を示す。即ち、前記
ゲツタ装置を大気中で加熱後ゲツタフラツシユし
た場合、爆発的飛散の程度はかなり改善された
が、少量のゲツタ材の脱落と一部焼結したゲツタ
材の容器外への浮き上りが認められた。
シリコン層により被覆されたゲツタ装置は、高温
酸化に対しかなりの保護効果を示す。即ち、前記
ゲツタ装置を大気中で加熱後ゲツタフラツシユし
た場合、爆発的飛散の程度はかなり改善された
が、少量のゲツタ材の脱落と一部焼結したゲツタ
材の容器外への浮き上りが認められた。
しかし乍ら陰極線管等の電子管の耐圧特性の劣
化防止のため、軽度にせよゲツタフラツシユ時の
爆発的飛散とゲツタ材の浮き上り及びゲツタ材の
脱落は完全に避ける必要がある。即ち、爆発的な
飛散は飛散粒子が管内の不所望な箇所へ飛着し、
耐圧特性の劣化のみならず回路の短絡をひき起こ
す場合がある。またゲツタの浮き上りはゲツタフ
ラツシユを行なつた際管内の不所望な箇所へバリ
ウム膜を形成せしめ、耐圧特性の劣化の原因とな
ると共に、ゲツタフラツシユ後、ゲツタ残留物が
管内に落下し、管内の塵芥のもととなり管機能を
著るしく損う。
化防止のため、軽度にせよゲツタフラツシユ時の
爆発的飛散とゲツタ材の浮き上り及びゲツタ材の
脱落は完全に避ける必要がある。即ち、爆発的な
飛散は飛散粒子が管内の不所望な箇所へ飛着し、
耐圧特性の劣化のみならず回路の短絡をひき起こ
す場合がある。またゲツタの浮き上りはゲツタフ
ラツシユを行なつた際管内の不所望な箇所へバリ
ウム膜を形成せしめ、耐圧特性の劣化の原因とな
ると共に、ゲツタフラツシユ後、ゲツタ残留物が
管内に落下し、管内の塵芥のもととなり管機能を
著るしく損う。
さらに、酸化シリコン層で被覆したゲツタ装置
表面を電子顕微鏡を用いて観察したところ酸化シ
リコン層が多孔質な構造からなることが判明し
た。即ちこの細孔を通してゲツタ装置表面へ酸素
が供給され、ゲツタ材の一部、主にニツケル粉末
が酸化される。このゲツタ材中のニツケル粉末の
酸化が、軽度といえども爆発的な飛散を引き起す
原因と考えられる。
表面を電子顕微鏡を用いて観察したところ酸化シ
リコン層が多孔質な構造からなることが判明し
た。即ちこの細孔を通してゲツタ装置表面へ酸素
が供給され、ゲツタ材の一部、主にニツケル粉末
が酸化される。このゲツタ材中のニツケル粉末の
酸化が、軽度といえども爆発的な飛散を引き起す
原因と考えられる。
また、特開昭56―61736号公報にはゲツタ中の
Ba―Al合金粉末とニツケル粉末とをホウ素酸化
物で被覆したゲツタ装置が開示されている。この
ホウ素酸化物をゲツタ装置に被覆するにあたり、
ホウ素酸化物を溶剤に溶かしたのち、浸漬、スプ
レー等によりゲツタ装置に被覆される。この際、
用いられる溶剤はアルコール類であつたが、例え
ばメチルアルコールなどはホウ素酸化物と反応
し、B(OCH3)3のような組成を持つた揮発性の
エステルを作る性質が認められる。アルコール
類、例えばメチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピールアルコール、ブチルアルコール等
を用いてホウ素酸化物を溶解すると、揮発性のエ
ステルが作られるため、ホウ素酸化物の濃度が時
間とともに変化し被覆量を一定にするのが難しい
という問題点があつた。すなわち、製造された耐
酸化性ゲツタ装置の被覆量が一定にならず変化す
るためNiO発生を防止する効果を十分発揮出来
ず、爆発的反応までは発生しないまでも、ゲツタ
材の浮き上り現象飛散量が一定せず、さらにゲツ
タフラツシユが開始するまでの時間が個々の場合
で異なるという問題点があつた。これらの欠点を
取り除くには、ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆
する際に溶剤のアルコール類に溶解させたホウ素
酸化物の量を測定し、溶解しているホウ素酸化物
の量を一定に保つようにおぎなう必要がある。し
かしながら、前述した様にアルコール類に溶解さ
せたホウ素酸化物はエステルを作り蒸発速度が非
常に早く溶解しているホウ素酸化物を一定に保つ
のは困難であるという問題が生じた。
Ba―Al合金粉末とニツケル粉末とをホウ素酸化
物で被覆したゲツタ装置が開示されている。この
ホウ素酸化物をゲツタ装置に被覆するにあたり、
ホウ素酸化物を溶剤に溶かしたのち、浸漬、スプ
レー等によりゲツタ装置に被覆される。この際、
用いられる溶剤はアルコール類であつたが、例え
ばメチルアルコールなどはホウ素酸化物と反応
し、B(OCH3)3のような組成を持つた揮発性の
エステルを作る性質が認められる。アルコール
類、例えばメチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピールアルコール、ブチルアルコール等
を用いてホウ素酸化物を溶解すると、揮発性のエ
ステルが作られるため、ホウ素酸化物の濃度が時
間とともに変化し被覆量を一定にするのが難しい
という問題点があつた。すなわち、製造された耐
酸化性ゲツタ装置の被覆量が一定にならず変化す
るためNiO発生を防止する効果を十分発揮出来
ず、爆発的反応までは発生しないまでも、ゲツタ
材の浮き上り現象飛散量が一定せず、さらにゲツ
タフラツシユが開始するまでの時間が個々の場合
で異なるという問題点があつた。これらの欠点を
取り除くには、ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆
する際に溶剤のアルコール類に溶解させたホウ素
酸化物の量を測定し、溶解しているホウ素酸化物
の量を一定に保つようにおぎなう必要がある。し
かしながら、前述した様にアルコール類に溶解さ
せたホウ素酸化物はエステルを作り蒸発速度が非
常に早く溶解しているホウ素酸化物を一定に保つ
のは困難であるという問題が生じた。
この問題点を以下の様に詳細に説明する。第1
番目の方法としてメチルアルコールに10重量%の
ホウ素酸化物を溶解させてすぐにゲツタ装置を溶
液に浸漬し、大気中で150℃2時間電熱型乾燥器
を用い乾燥させ、真空中500℃で30分間加熱して
ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆させた。また第
2番目の方法として、10重量%のホウ素酸化物を
メチルアルコール溶解させてから6時間放置した
溶液を用いて第1番目の方法と同じ工程を用いて
ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆させた。第1番
目の方法で製造されたゲツタ装置はゲツタフラシ
ユさせると浮き上り現象もなく、ゲツタ装置とし
て良好な特性を示したのに対し第2番目の方法で
製造されたゲツタ装置を第1番目と同じ条件にて
ゲツタフラツシユさせたところ、浮き上り現象が
生じた。これは、溶液中のホウ素酸化物がメチル
アルコールと反応しB(OCH3)3のようなエステ
ルを生成し、ゲツタ装置に被覆するホウ素酸化物
の量が減少すると推定され、また溶解しているホ
ウ素酸化物を一定に保つのは困難であることを示
している。また、ホウ素酸化物を溶解する溶剤に
水を用いると、水はゲツタ材中のBa―Al合金粉
末の酸化の原因ともなり水を溶剤として用いるこ
とは不可能であることが確認された。
番目の方法としてメチルアルコールに10重量%の
ホウ素酸化物を溶解させてすぐにゲツタ装置を溶
液に浸漬し、大気中で150℃2時間電熱型乾燥器
を用い乾燥させ、真空中500℃で30分間加熱して
ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆させた。また第
2番目の方法として、10重量%のホウ素酸化物を
メチルアルコール溶解させてから6時間放置した
溶液を用いて第1番目の方法と同じ工程を用いて
ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆させた。第1番
目の方法で製造されたゲツタ装置はゲツタフラシ
ユさせると浮き上り現象もなく、ゲツタ装置とし
て良好な特性を示したのに対し第2番目の方法で
製造されたゲツタ装置を第1番目と同じ条件にて
ゲツタフラツシユさせたところ、浮き上り現象が
生じた。これは、溶液中のホウ素酸化物がメチル
アルコールと反応しB(OCH3)3のようなエステ
ルを生成し、ゲツタ装置に被覆するホウ素酸化物
の量が減少すると推定され、また溶解しているホ
ウ素酸化物を一定に保つのは困難であることを示
している。また、ホウ素酸化物を溶解する溶剤に
水を用いると、水はゲツタ材中のBa―Al合金粉
末の酸化の原因ともなり水を溶剤として用いるこ
とは不可能であることが確認された。
発明の目的
本発明の目的は、以上の点に鑑みてなされたも
ので耐高温酸化性を有し、かつその使用に際して
も何ら障害を伴うことのない高品位のゲツタ装置
の製造方法を提供することにある。
ので耐高温酸化性を有し、かつその使用に際して
も何ら障害を伴うことのない高品位のゲツタ装置
の製造方法を提供することにある。
発明の概要
本発明は、揮発性エステルを生成しない溶剤に
ホウ素酸化物を溶解した溶液をゲツタもしくはゲ
ツタ材を充填したゲツタ装置に塗布し乾燥させ
て、ゲツタもしくはゲツタ装置にホウ素酸化物を
被覆させて耐酸化性ゲツタ装置を製造する。この
溶液はしばらくの間放置しておいても耐酸化性ゲ
ツタ装置を製造する上で何ら障害が伴わない。そ
して本発明で製造された耐酸化性ゲツタ装置はフ
アンネルとパネルとの封着における高温処理によ
る影響は受けない。
ホウ素酸化物を溶解した溶液をゲツタもしくはゲ
ツタ材を充填したゲツタ装置に塗布し乾燥させ
て、ゲツタもしくはゲツタ装置にホウ素酸化物を
被覆させて耐酸化性ゲツタ装置を製造する。この
溶液はしばらくの間放置しておいても耐酸化性ゲ
ツタ装置を製造する上で何ら障害が伴わない。そ
して本発明で製造された耐酸化性ゲツタ装置はフ
アンネルとパネルとの封着における高温処理によ
る影響は受けない。
発明の実施例
実施例 1
第1図は本発明によつて得られる耐酸化性ゲツ
タ装置の断面図である。この耐酸化性ゲツタ装置
10は外径22.0mm、内径15.0mm、高さ2.7mm、厚さ
0.18mmで断面がU字形の不誘鋼からなる開口した
環状金属製のゲツタ容器12に、ゲツタ材11が
充填されている。なお本実施例では、ゲツタ材と
してBa―Al合金粉末とニツケル粉末と窒化ゲル
マニウム―鉄粉末との重量組成比を略49:49:2
に調整した。そして、このゲツタ装置10を無水
ホウ酸を10重量%含むエチレングリコールモノメ
チルエーテル溶液に浸漬し、大気中で150℃2時
間電熱乾燥器を用いて乾燥し、真空中500℃30分
間加熱した。すると、ゲツタ装置10のゲツタ容
器12には薄いホウ素酸化物13が被覆された。
この様に製造した耐酸化性ゲツタ装置をゲツタフ
ラツシユさせると爆発的なバリウム飛散や浮き上
り現象もなく良好な特性を示した。また溶液生成
後12時間放置した溶液を用い上述の場合と同様に
してゲツタ装置にホウ素酸化物の被覆を形成し
た。このゲツタ装置をゲツタフラツシユさせたと
ころ、上述の例と同様に爆発的なバリウム飛散や
浮き上り現象もなく良好な特性を示した。このこ
とは、溶液生成後しばらくの間放置した溶液を用
いて製造してもゲツタ装置のゲツタ機能が低下し
ないことを示している。
タ装置の断面図である。この耐酸化性ゲツタ装置
10は外径22.0mm、内径15.0mm、高さ2.7mm、厚さ
0.18mmで断面がU字形の不誘鋼からなる開口した
環状金属製のゲツタ容器12に、ゲツタ材11が
充填されている。なお本実施例では、ゲツタ材と
してBa―Al合金粉末とニツケル粉末と窒化ゲル
マニウム―鉄粉末との重量組成比を略49:49:2
に調整した。そして、このゲツタ装置10を無水
ホウ酸を10重量%含むエチレングリコールモノメ
チルエーテル溶液に浸漬し、大気中で150℃2時
間電熱乾燥器を用いて乾燥し、真空中500℃30分
間加熱した。すると、ゲツタ装置10のゲツタ容
器12には薄いホウ素酸化物13が被覆された。
この様に製造した耐酸化性ゲツタ装置をゲツタフ
ラツシユさせると爆発的なバリウム飛散や浮き上
り現象もなく良好な特性を示した。また溶液生成
後12時間放置した溶液を用い上述の場合と同様に
してゲツタ装置にホウ素酸化物の被覆を形成し
た。このゲツタ装置をゲツタフラツシユさせたと
ころ、上述の例と同様に爆発的なバリウム飛散や
浮き上り現象もなく良好な特性を示した。このこ
とは、溶液生成後しばらくの間放置した溶液を用
いて製造してもゲツタ装置のゲツタ機能が低下し
ないことを示している。
実施例 2
次に溶液生成後12時間放置した溶液を用いて作
られた実施例1のゲツタ装置を実際に陰極線管に
用いた場合について説明する。第2図は陰極線管
31の一部切欠断面図である。第2図に示すよう
に、前面ガラスパネル20内面に蛍光面21、ア
ルミ蒸着面22を順次被着形成し、フレーム24
を介して取り付けられたシヤドウマスス23をパ
ネル側壁に支持固定する。次に本発明により得ら
れたゲツタ装置25を支持板26を介してフレー
ム24に取り付ける。しかる後に、内面に導電膜
27が塗布されたフアンネル28とガラスパネル
20との当接面にフリツトガラス29を被着し、
約450℃で1時間の高温処理により両者を封着す
ると共に蛍光膜とメタルバツク被覆との間の有機
材を蒸発させる。この後に電子銃をネツク部30
に封着し、排気工程を経て陰極線管31を封止す
る。その後、高周波誘導加熱によりゲツタフラツ
シユを行ない電子銃のエージング等を経て陰極線
管31が完成する。この場合においても、実施例
1のときと同様の効果が得られた。このようにし
て得られた陰極線管は、ゲツタ装置が電子銃に取
り付けられた陰極線管と比較し電子放射特性及び
耐圧特性が同等であることが確認された。
られた実施例1のゲツタ装置を実際に陰極線管に
用いた場合について説明する。第2図は陰極線管
31の一部切欠断面図である。第2図に示すよう
に、前面ガラスパネル20内面に蛍光面21、ア
ルミ蒸着面22を順次被着形成し、フレーム24
を介して取り付けられたシヤドウマスス23をパ
ネル側壁に支持固定する。次に本発明により得ら
れたゲツタ装置25を支持板26を介してフレー
ム24に取り付ける。しかる後に、内面に導電膜
27が塗布されたフアンネル28とガラスパネル
20との当接面にフリツトガラス29を被着し、
約450℃で1時間の高温処理により両者を封着す
ると共に蛍光膜とメタルバツク被覆との間の有機
材を蒸発させる。この後に電子銃をネツク部30
に封着し、排気工程を経て陰極線管31を封止す
る。その後、高周波誘導加熱によりゲツタフラツ
シユを行ない電子銃のエージング等を経て陰極線
管31が完成する。この場合においても、実施例
1のときと同様の効果が得られた。このようにし
て得られた陰極線管は、ゲツタ装置が電子銃に取
り付けられた陰極線管と比較し電子放射特性及び
耐圧特性が同等であることが確認された。
また次に陰極線管等のフアンネルとパネルとを
封着する前に管内に取り付けられた場合、本発明
の製造方法により製造されたゲツタ装置が高温処
理に対して何ら変化を受けずに本来のゲツタ作用
を働くことを示す。この場合、実施例2の450℃
1時間の高温処理よりも条件を厳しくし450℃2
時間の高温処理とした。試験するゲツタ装置は次
の通り2種類ある。第1のゲツタ装置は溶液を生
成直後の溶液にてホウ素酸化物の被覆を形成した
ものである。第2のゲツタ装置は溶液を生成後12
時間放置した溶液にて被覆を形成したものであ
る。第1のゲツタと第2のゲツタ装置とをそれぞ
れゲツタフラツシユさせると両方のゲツタ装置と
もゲツタ材の浮き上り現象及びゲツタ材がそつて
ゲツタ容器外に出るのが見られなかつた。そし
て、ゲツタフラツシユの際に生じやすい爆発的な
バリウムの飛散も確認されなかつた。よつて本発
明の製造方法を用いれば、ホウ素酸化物を溶解し
た溶液をしばらくの間放置しておくことができ
る。
封着する前に管内に取り付けられた場合、本発明
の製造方法により製造されたゲツタ装置が高温処
理に対して何ら変化を受けずに本来のゲツタ作用
を働くことを示す。この場合、実施例2の450℃
1時間の高温処理よりも条件を厳しくし450℃2
時間の高温処理とした。試験するゲツタ装置は次
の通り2種類ある。第1のゲツタ装置は溶液を生
成直後の溶液にてホウ素酸化物の被覆を形成した
ものである。第2のゲツタ装置は溶液を生成後12
時間放置した溶液にて被覆を形成したものであ
る。第1のゲツタと第2のゲツタ装置とをそれぞ
れゲツタフラツシユさせると両方のゲツタ装置と
もゲツタ材の浮き上り現象及びゲツタ材がそつて
ゲツタ容器外に出るのが見られなかつた。そし
て、ゲツタフラツシユの際に生じやすい爆発的な
バリウムの飛散も確認されなかつた。よつて本発
明の製造方法を用いれば、ホウ素酸化物を溶解し
た溶液をしばらくの間放置しておくことができ
る。
次に、本発明のようにホウ素酸化物と溶剤とが
反応しエステルを生成しない溶剤の効果を第3図
により詳細に説明する。
反応しエステルを生成しない溶剤の効果を第3図
により詳細に説明する。
第3図は、横軸に溶剤にホウ素酸化物を溶解さ
せた後溶液を放置した時間、縦軸に初めに溶剤に
溶解させたホウ素酸化物に対して溶液に溶解して
いるホウ素酸化物の重量組成比で示したものであ
る。溶剤にメチルアルコールを用いた特性41に
示されるように溶液の放置時間が長くなるに従つ
て溶液中のホウ素酸化物が減少している。すなわ
ち生成後しばらく放置した溶液を用いてゲツタ装
置にホウ素酸化物を被覆しても被覆量が初期に設
定した量よりも少なくなつてしまい、ゲツタフラ
ツシユの際のゲツタ材の浮き上り防止等の本発明
の目的を達するのが困難であると推定される。一
方溶剤にエチレングリコールモノメチルエーテル
を用いた特性42に示されるように溶液をしばら
く放置しても溶液中に溶解しているホウ素酸化物
は略一定である。これは、溶剤とホウ素酸化物と
が反応してエステルを作らずホウ素が蒸発しない
ためである。すなわち、本発明による溶剤を用い
ることにより生成後しばらく放置した溶液を用い
てゲツタ装置を製造しても、ゲツタフラツシユの
際のゲツタの浮き上り防止等の本発明の目的を充
分に達することが推定される。
せた後溶液を放置した時間、縦軸に初めに溶剤に
溶解させたホウ素酸化物に対して溶液に溶解して
いるホウ素酸化物の重量組成比で示したものであ
る。溶剤にメチルアルコールを用いた特性41に
示されるように溶液の放置時間が長くなるに従つ
て溶液中のホウ素酸化物が減少している。すなわ
ち生成後しばらく放置した溶液を用いてゲツタ装
置にホウ素酸化物を被覆しても被覆量が初期に設
定した量よりも少なくなつてしまい、ゲツタフラ
ツシユの際のゲツタ材の浮き上り防止等の本発明
の目的を達するのが困難であると推定される。一
方溶剤にエチレングリコールモノメチルエーテル
を用いた特性42に示されるように溶液をしばら
く放置しても溶液中に溶解しているホウ素酸化物
は略一定である。これは、溶剤とホウ素酸化物と
が反応してエステルを作らずホウ素が蒸発しない
ためである。すなわち、本発明による溶剤を用い
ることにより生成後しばらく放置した溶液を用い
てゲツタ装置を製造しても、ゲツタフラツシユの
際のゲツタの浮き上り防止等の本発明の目的を充
分に達することが推定される。
さらに第4図により本発明の耐酸化性ゲツタ装
置の製造方法を用いることが、ゲツタ装置のゲツ
タ材の浮き上りやゲツタフラツシユの際のバリウ
ムの爆発的飛散の原因であるゲツタ材の酸化防止
に有用であることを詳細に述べる。
置の製造方法を用いることが、ゲツタ装置のゲツ
タ材の浮き上りやゲツタフラツシユの際のバリウ
ムの爆発的飛散の原因であるゲツタ材の酸化防止
に有用であることを詳細に述べる。
第4図は溶剤としてメチルアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルそれぞれに10重
量%の無水ホウ酸を加えて生成した溶液を用いて
それぞれ耐酸化性ゲツタ装置を製造した後、大気
中450℃で2時間の高温処理を行ない酸化増量を
調べたものである。横軸にそれぞれの耐酸化性ゲ
ツタ装置を製造する際に用いた溶液を生成してか
らの放置時間をとり、縦軸に大気中450℃で2時
間の高温処理(以下、大気処理と称する)を行な
つた際のそれぞれの耐酸化性ゲツタ装置の酸化増
量をゲツタ材中に含まれるニツケル粉末量で割つ
た重量組成比を示す。この時、酸化増量をニツケ
ル粉末量で除したのは、酸化するのは主にニツケ
ル粉末だからである。溶剤としてメチルアルコー
ルを用いた場合の耐酸化性ゲツタ装置の特性51
に示す様に、溶液を生成して直ちに行なつた(放
置時間は0時間)場合、大気処理を行なうと酸化
増量は0.20重量%であり、ゲツタフラツシユを行
なつても浮き上り現象及びゲツタ材がそつてゲツ
タ容器外に出る(以下、ピーリング現象と称す
る)のが見られなかつた。しかし、溶液を生成し
て6時間放置した場合、大気処理を行なうと酸化
増量は0.70重量%となり、ゲツタフラツシユを行
なうと浮き上り現象が見られた。さらに溶液を生
成して12時間放置した場合、大気処理を行なうと
酸化増量は2.00重量%にも達し、ゲツタフラツシ
ユを行なうと浮き上り現象が顕著となり、その上
ピーリング現象までも確認された。それに引き換
え、エチレングリコールモノメチルエーテルを溶
剤として用いた場合の耐酸化性ゲツタ装置の特性
52に示す様に、溶液を生成後12時間放置してか
ら大気処理を行なうと酸化増量は0.24重量%とな
り、ゲツタフラツシユを行なつても浮き上り及び
ピーリング現象は確認されなかつた。
ングリコールモノメチルエーテルそれぞれに10重
量%の無水ホウ酸を加えて生成した溶液を用いて
それぞれ耐酸化性ゲツタ装置を製造した後、大気
中450℃で2時間の高温処理を行ない酸化増量を
調べたものである。横軸にそれぞれの耐酸化性ゲ
ツタ装置を製造する際に用いた溶液を生成してか
らの放置時間をとり、縦軸に大気中450℃で2時
間の高温処理(以下、大気処理と称する)を行な
つた際のそれぞれの耐酸化性ゲツタ装置の酸化増
量をゲツタ材中に含まれるニツケル粉末量で割つ
た重量組成比を示す。この時、酸化増量をニツケ
ル粉末量で除したのは、酸化するのは主にニツケ
ル粉末だからである。溶剤としてメチルアルコー
ルを用いた場合の耐酸化性ゲツタ装置の特性51
に示す様に、溶液を生成して直ちに行なつた(放
置時間は0時間)場合、大気処理を行なうと酸化
増量は0.20重量%であり、ゲツタフラツシユを行
なつても浮き上り現象及びゲツタ材がそつてゲツ
タ容器外に出る(以下、ピーリング現象と称す
る)のが見られなかつた。しかし、溶液を生成し
て6時間放置した場合、大気処理を行なうと酸化
増量は0.70重量%となり、ゲツタフラツシユを行
なうと浮き上り現象が見られた。さらに溶液を生
成して12時間放置した場合、大気処理を行なうと
酸化増量は2.00重量%にも達し、ゲツタフラツシ
ユを行なうと浮き上り現象が顕著となり、その上
ピーリング現象までも確認された。それに引き換
え、エチレングリコールモノメチルエーテルを溶
剤として用いた場合の耐酸化性ゲツタ装置の特性
52に示す様に、溶液を生成後12時間放置してか
ら大気処理を行なうと酸化増量は0.24重量%とな
り、ゲツタフラツシユを行なつても浮き上り及び
ピーリング現象は確認されなかつた。
よつて、本発明の耐酸性ゲツタ装置の製造方法
を採用すれば、ゲツタ装置のゲツタ材の浮き上り
やピーリング現象そしてゲツタフラツシユの際の
バリウムの爆発的飛散の原因であるゲツタ材の酸
化をも防止することに有用であることが確認され
た。
を採用すれば、ゲツタ装置のゲツタ材の浮き上り
やピーリング現象そしてゲツタフラツシユの際の
バリウムの爆発的飛散の原因であるゲツタ材の酸
化をも防止することに有用であることが確認され
た。
上記の実施例のようにゲツタ装置はゲツタ材に
被覆されたホウ素酸化物の厚さを一定に保つこと
が出来るようになつた。これは、ホウ素酸化物を
溶かす溶剤をアルコール類にかえて、ホウ素酸化
物と反応しエステルを作らない溶剤にかえたため
である。この為、ゲツタ材に被覆するホウ素酸化
物の量を適宜調整することが出来る。そこで、本
実施例のゲツタ装置を高周波誘導加熱でゲツタフ
ラツシユさせた場合、Ba―Al合金粉末とニツケ
ル粉末との反応性は従来のホウ素酸化物で被覆し
ていないゲツタ装置と同じ位に良く、さらに飛散
開始時間も損われることがなかつた。
被覆されたホウ素酸化物の厚さを一定に保つこと
が出来るようになつた。これは、ホウ素酸化物を
溶かす溶剤をアルコール類にかえて、ホウ素酸化
物と反応しエステルを作らない溶剤にかえたため
である。この為、ゲツタ材に被覆するホウ素酸化
物の量を適宜調整することが出来る。そこで、本
実施例のゲツタ装置を高周波誘導加熱でゲツタフ
ラツシユさせた場合、Ba―Al合金粉末とニツケ
ル粉末との反応性は従来のホウ素酸化物で被覆し
ていないゲツタ装置と同じ位に良く、さらに飛散
開始時間も損われることがなかつた。
またその上、ゲツタ装置を例えば大気中2時間
450℃で高温処理した際にニツケル粉末が酸化さ
れず、NiOを形成してNiOとBa―Al合金粉末と
が急激な反応を起こすこともなかつた。そしてゲ
ツタ材にホウ素酸化物を一定に被覆することが出
来る為、浮き上り等の原因を根本から解決した。
そして本実施例のゲツタ装置は特開昭56―61736
号公報に示された耐酸化性ゲツタ装置の製造方法
とは異なりホウ素酸化物を溶解した溶液を生成後
しばらく放置してゲツタ装置を製造しても高信頼
性を確認できた。さらに、ゲツタフラツシユを行
ない形成したバリウム膜の分布および飛散バリウ
ム量、放出ガス量(主として窒素ガス等)を測定
したところ、従来のホウ素酸化物を被覆していな
いゲツタ装置と同等の特性を示し、ゲツタ装置本
来の役割を損なうことはないことが確認された。
450℃で高温処理した際にニツケル粉末が酸化さ
れず、NiOを形成してNiOとBa―Al合金粉末と
が急激な反応を起こすこともなかつた。そしてゲ
ツタ材にホウ素酸化物を一定に被覆することが出
来る為、浮き上り等の原因を根本から解決した。
そして本実施例のゲツタ装置は特開昭56―61736
号公報に示された耐酸化性ゲツタ装置の製造方法
とは異なりホウ素酸化物を溶解した溶液を生成後
しばらく放置してゲツタ装置を製造しても高信頼
性を確認できた。さらに、ゲツタフラツシユを行
ない形成したバリウム膜の分布および飛散バリウ
ム量、放出ガス量(主として窒素ガス等)を測定
したところ、従来のホウ素酸化物を被覆していな
いゲツタ装置と同等の特性を示し、ゲツタ装置本
来の役割を損なうことはないことが確認された。
上述した実施例でゲツタ材を充填したゲツタ装
置を、無水ホウ酸を10重量%含むエチレングリコ
ールモノメチルエーテル溶液に浸漬して製造する
工程を述べた。しかし、ゲツタ材のみをホウ素酸
化物を溶解したエチレングリコールモノメチルエ
ーテル溶液に浸漬し、大気中で150℃2時間電熱
乾燥器を用いて乾燥し、真空中500℃30分間加熱
してゲツタ材のみにホウ素酸化物を被覆してから
ゲツタ容器に充填してゲツタ装置を製造してもよ
い。さらに、ゲツタ材及びゲツタ装置にホウ素酸
化物を被覆する際、ホウ素酸化物を溶解した溶液
をスプレー等でゲツタ材及びゲツタ装置に塗布し
てもよい。また、実施例ではエチレングリコール
モノメチルエーテルの単体を溶剤としたが、例え
ばこれ以外にエチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノ―n―ブチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルよ
りなる群から選ばれた単体または混合溶液を溶剤
として用いても良い。なお、その溶剤の混合割合
はどの様な割合でも良いのは言うまでもない。
置を、無水ホウ酸を10重量%含むエチレングリコ
ールモノメチルエーテル溶液に浸漬して製造する
工程を述べた。しかし、ゲツタ材のみをホウ素酸
化物を溶解したエチレングリコールモノメチルエ
ーテル溶液に浸漬し、大気中で150℃2時間電熱
乾燥器を用いて乾燥し、真空中500℃30分間加熱
してゲツタ材のみにホウ素酸化物を被覆してから
ゲツタ容器に充填してゲツタ装置を製造してもよ
い。さらに、ゲツタ材及びゲツタ装置にホウ素酸
化物を被覆する際、ホウ素酸化物を溶解した溶液
をスプレー等でゲツタ材及びゲツタ装置に塗布し
てもよい。また、実施例ではエチレングリコール
モノメチルエーテルの単体を溶剤としたが、例え
ばこれ以外にエチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノ―n―ブチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルよ
りなる群から選ばれた単体または混合溶液を溶剤
として用いても良い。なお、その溶剤の混合割合
はどの様な割合でも良いのは言うまでもない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、ホウ素酸化物を
溶解する溶剤がホウ素酸化物と反応した揮発性の
エステルを生成しないので、溶液濃度の経時変化
が少ないので、溶液生成時期に関係なくゲツタ材
に被覆されたホウ素酸化物の厚さを常に一定に保
つことが出来る。溶剤とホウ素酸化物とが反応し
エステルを生成し溶液中のホウ素酸化物が蒸発し
ないのでホウ素酸化物を溶解した溶液生成後、相
当な時間溶液を放置しておけるので、溶液の管理
が非常に容易になる。そしてさらに本発明の耐酸
化性ゲツタ装置の製造方法によれば、ホウ素酸化
物をゲツタ材に被覆することはゲツタ装置を製造
してからでもよいので、耐酸化性ゲツタ装置を簡
単に安価に製造でき量産が容易となりさらに高品
質のゲツタ装置が製造できることが推定される。
溶解する溶剤がホウ素酸化物と反応した揮発性の
エステルを生成しないので、溶液濃度の経時変化
が少ないので、溶液生成時期に関係なくゲツタ材
に被覆されたホウ素酸化物の厚さを常に一定に保
つことが出来る。溶剤とホウ素酸化物とが反応し
エステルを生成し溶液中のホウ素酸化物が蒸発し
ないのでホウ素酸化物を溶解した溶液生成後、相
当な時間溶液を放置しておけるので、溶液の管理
が非常に容易になる。そしてさらに本発明の耐酸
化性ゲツタ装置の製造方法によれば、ホウ素酸化
物をゲツタ材に被覆することはゲツタ装置を製造
してからでもよいので、耐酸化性ゲツタ装置を簡
単に安価に製造でき量産が容易となりさらに高品
質のゲツタ装置が製造できることが推定される。
第1図は本発明によつて得られる耐酸化性ゲツ
タ装置の断面図、第2図は陰極線管の一部切欠断
面図、第3図はホウ素酸化物と溶剤とが反応しエ
ステルを生成しない溶剤の効果を示した図、第4
図はホウ素酸化物を溶解した溶液生成後の放置時
間とゲツタ材の酸化を示した図である。 10…耐酸化性ゲツタ装置、11…ゲツタ材、
12…ゲツタ容器、13…ホウ素酸化物、42…
溶剤にエチレングリコールモノメチルエーテルを
用いた特性、52…エチレングリコールモノメチ
ルエーテルを溶剤として用いた耐酸化性ゲツタ装
置の特性。
タ装置の断面図、第2図は陰極線管の一部切欠断
面図、第3図はホウ素酸化物と溶剤とが反応しエ
ステルを生成しない溶剤の効果を示した図、第4
図はホウ素酸化物を溶解した溶液生成後の放置時
間とゲツタ材の酸化を示した図である。 10…耐酸化性ゲツタ装置、11…ゲツタ材、
12…ゲツタ容器、13…ホウ素酸化物、42…
溶剤にエチレングリコールモノメチルエーテルを
用いた特性、52…エチレングリコールモノメチ
ルエーテルを溶剤として用いた耐酸化性ゲツタ装
置の特性。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ホウ素酸化物と反応し揮発性エステルを生成
しない水を除く溶剤にホウ素酸化物を溶解させて
溶液とする工程と、前記溶液をゲツタ材もしくは
このゲツタ材を金属性保持器に充填したゲツタ装
置に塗布する工程と、前記ゲツタ材もしくは前記
ゲツタ装置を乾燥させ前記ゲツタ材もしくは前記
ゲツタ装置にホウ素酸化物を被覆する工程とを備
えたことを特徴とする耐酸化性ゲツタ装置の製造
方法。 2 前記ゲツタ材にホウ素酸化物を被覆した後、
前記ゲツタ材を金属性保持器に充填する工程を備
えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の耐酸化性ゲツタ装置の製造方法。 3 前記溶液をゲツタ材もしくはこのゲツタ材を
金属性保持器に充填したゲツタ装置に塗布する工
程は、前記溶液にゲツタ材もしくはこのゲツタ材
を金属性保持器に充填したゲツタ装置を浸漬する
工程であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の耐酸化性ゲツタ装置の製造方法。 4 前記溶液をゲツタ材もしくはこのゲツタ材を
金属性保持器に充填したゲツタ装置に塗布する工
程は、前記溶液をゲツタ材もしくはこのゲツタ材
を金属性保持器に充填したゲツタ装置にスプレー
する工程であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の耐酸化性ゲツタ装置の製造方法。 5 前記溶剤はエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノーn―ブチルエーテ
ルよりなる群から選ばれた単体又は混合溶液から
なることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の耐酸化性ゲツタ装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57005427A JPS58123632A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 耐酸化性ゲツタ装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57005427A JPS58123632A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 耐酸化性ゲツタ装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58123632A JPS58123632A (ja) | 1983-07-22 |
| JPS649700B2 true JPS649700B2 (ja) | 1989-02-20 |
Family
ID=11610870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57005427A Granted JPS58123632A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 耐酸化性ゲツタ装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58123632A (ja) |
-
1982
- 1982-01-19 JP JP57005427A patent/JPS58123632A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58123632A (ja) | 1983-07-22 |
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