JPS64983Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS64983Y2 JPS64983Y2 JP10853983U JP10853983U JPS64983Y2 JP S64983 Y2 JPS64983 Y2 JP S64983Y2 JP 10853983 U JP10853983 U JP 10853983U JP 10853983 U JP10853983 U JP 10853983U JP S64983 Y2 JPS64983 Y2 JP S64983Y2
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- Japan
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- partition plate
- liquid
- water level
- intermediate partition
- rotating drum
- Prior art date
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- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 22
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 19
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 11
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 235000008504 concentrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
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- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
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- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は被処理液の過を行うスクリーンを
仕切る中間仕切板近傍に水位計を設け、液位を計
測しスクリーンの洗浄を制御する過装置に関す
る。
仕切る中間仕切板近傍に水位計を設け、液位を計
測しスクリーンの洗浄を制御する過装置に関す
る。
従来から下水やし尿等の被処理液をドラム状ス
クリーンで過する過装置が用いられている
が、このような過装置ではスクリーンが目詰り
すると過部での過が行えず、流入水がそのま
まオーバーフローし、過残渣もそのまま流し出
されてしまう。そこで、従来は30〜40分位に一度
（３分程度）の洗浄を行つていた。しかしこの方
法だと被処理液の濃度が薄い時でも不必要な洗浄
を繰り返すことになり洗浄の効率が悪かつた。
クリーンで過する過装置が用いられている
が、このような過装置ではスクリーンが目詰り
すると過部での過が行えず、流入水がそのま
まオーバーフローし、過残渣もそのまま流し出
されてしまう。そこで、従来は30〜40分位に一度
（３分程度）の洗浄を行つていた。しかしこの方
法だと被処理液の濃度が薄い時でも不必要な洗浄
を繰り返すことになり洗浄の効率が悪かつた。
この考案は上記欠点を解消するためになされた
ものであつて、回転ドラムスクリーンの液溜り部
に水位計を設けることによつて、液位によりスク
リーンの目詰り状態を検知し、被処理液の性状に
応じて効率的な洗浄が行える過装置を提供する
ことを目的とする。
ものであつて、回転ドラムスクリーンの液溜り部
に水位計を設けることによつて、液位によりスク
リーンの目詰り状態を検知し、被処理液の性状に
応じて効率的な洗浄が行える過装置を提供する
ことを目的とする。
以下、この考案の一実施例について図面を参照
して説明する。
して説明する。
この考案は被処理液(A)を過する回転ドラムス
クリーン１と、この回転ドラムスクリーン１内部
を仕切る中間仕切板２と、この中間仕切板２近傍
に設けられ、洗浄を制御するための水位計３とを
有する。
クリーン１と、この回転ドラムスクリーン１内部
を仕切る中間仕切板２と、この中間仕切板２近傍
に設けられ、洗浄を制御するための水位計３とを
有する。
上記回転ドラムスクリーン１は第１図に示すよ
うに、排出口４側に向けて傾斜配置され、モータ
Ｍにより駆動される支持ローラ５により回転支持
されている。そしてこの回転ドラムスクリーン１
内部はドーナツ状の上記中間仕切板２によつて２
つの区域に仕切られ、供給器６から供給される被
処理液(A)を過する過ゾーン（過部）７と、
この過ゾーン７からの濃縮液が流入し、さらに
これを濃縮する濃縮ゾーン（濃縮部）８とに区画
されている。またこの濃縮ゾーン８の下端内周部
には、内部に残留する濃縮物を一定量保持し、か
つ濃縮圧力を保持する機能を果たすドーナツ状の
端部仕切板９が設けられている。
うに、排出口４側に向けて傾斜配置され、モータ
Ｍにより駆動される支持ローラ５により回転支持
されている。そしてこの回転ドラムスクリーン１
内部はドーナツ状の上記中間仕切板２によつて２
つの区域に仕切られ、供給器６から供給される被
処理液(A)を過する過ゾーン（過部）７と、
この過ゾーン７からの濃縮液が流入し、さらに
これを濃縮する濃縮ゾーン（濃縮部）８とに区画
されている。またこの濃縮ゾーン８の下端内周部
には、内部に残留する濃縮物を一定量保持し、か
つ濃縮圧力を保持する機能を果たすドーナツ状の
端部仕切板９が設けられている。
回転ドラムスクリーン１の上方には洗浄手段１
１が設けられており、洗浄水Ｗを回転ドラムスク
リーン１へふきつけ洗浄を行う。ここで洗浄手段
は、洗浄水ＷをポンプP1を介し、過ゾーン７
に供給する洗浄手段１１ａとポンプP2を介し、
濃縮ゾーンに供給する洗浄手段１１ｂからなつて
いる。そして、中間仕切板の過ゾーン７側には
液溜り部１０の液をすくいとり濃縮ゾーン８へ移
行するスキミングボツクス１２が設けられてい
る。
１が設けられており、洗浄水Ｗを回転ドラムスク
リーン１へふきつけ洗浄を行う。ここで洗浄手段
は、洗浄水ＷをポンプP1を介し、過ゾーン７
に供給する洗浄手段１１ａとポンプP2を介し、
濃縮ゾーンに供給する洗浄手段１１ｂからなつて
いる。そして、中間仕切板の過ゾーン７側には
液溜り部１０の液をすくいとり濃縮ゾーン８へ移
行するスキミングボツクス１２が設けられてい
る。
上記水位計３は第１図に示すように、中間仕切
板２の近傍で、かつ該仕切板２の過ゾーン７側
に設けられ、過ゾーン７側の液溜り部１０にた
まつた液位を計測する。そしてこの水位計３の計
測により一定液位以上となつた場合に洗浄手段１
１によつて回転ドラムスクリーン１を洗浄する。
また、ドラムスクリーンの回転数制御を組み合せ
ると良い。
板２の近傍で、かつ該仕切板２の過ゾーン７側
に設けられ、過ゾーン７側の液溜り部１０にた
まつた液位を計測する。そしてこの水位計３の計
測により一定液位以上となつた場合に洗浄手段１
１によつて回転ドラムスクリーン１を洗浄する。
また、ドラムスクリーンの回転数制御を組み合せ
ると良い。
また、ドラムスクリーンの回転数を上げれば、
処理能力が上がるので、液位によつて回転数も制
御すると良い。水位計による制御の一例を次に示
す。水位がL1になつたらモータＭの回転数を
上げる水位がL2になつたら洗浄水ポンプP1を
駆動し過ゾーンの洗浄を行う水位がL0にな
つたら洗浄水ポンプP1を停止し、モータＭの回
転数を平常回転数にもどす洗浄水ポンプP2は
タイマにより定期的に駆動する。なお、L0は最
低水位、L1は中間水位、L2は最高水位である。
処理能力が上がるので、液位によつて回転数も制
御すると良い。水位計による制御の一例を次に示
す。水位がL1になつたらモータＭの回転数を
上げる水位がL2になつたら洗浄水ポンプP1を
駆動し過ゾーンの洗浄を行う水位がL0にな
つたら洗浄水ポンプP1を停止し、モータＭの回
転数を平常回転数にもどす洗浄水ポンプP2は
タイマにより定期的に駆動する。なお、L0は最
低水位、L1は中間水位、L2は最高水位である。
以上の構成によれば、汚水等の被処理液(A)は供
給器６からスクリーン１の上面に供給され、過
ゾーン７で効果的に過され、液(B)は外部へ排
出される。他方、液状の濃縮液は中間仕切板２の
手前に溜り、一定以上になると中間仕切板２を越
え濃縮ゾーン８に流入し、さらに脱水処理され
る。ここで、この考案では水位計３により、中間
仕切板２手前の液溜り部１０のレベルを計測し、
一定以上となつたときに、洗浄を行う。従つて、
従来のようにスクリーン１が目詰りし過ゾーン
７での過が行えず、流入水がそのまま中間仕切
板２をオーバーフローし、濃縮ゾーン８のし渣も
そのまま流し出されてしまつたり、不必要な洗浄
をくり返すことはない。この際、濃縮液は静止し
ていないので、所定時間（例えば５秒）で所定水
位になつたときはじめて出力するようにするとよ
い。
給器６からスクリーン１の上面に供給され、過
ゾーン７で効果的に過され、液(B)は外部へ排
出される。他方、液状の濃縮液は中間仕切板２の
手前に溜り、一定以上になると中間仕切板２を越
え濃縮ゾーン８に流入し、さらに脱水処理され
る。ここで、この考案では水位計３により、中間
仕切板２手前の液溜り部１０のレベルを計測し、
一定以上となつたときに、洗浄を行う。従つて、
従来のようにスクリーン１が目詰りし過ゾーン
７での過が行えず、流入水がそのまま中間仕切
板２をオーバーフローし、濃縮ゾーン８のし渣も
そのまま流し出されてしまつたり、不必要な洗浄
をくり返すことはない。この際、濃縮液は静止し
ていないので、所定時間（例えば５秒）で所定水
位になつたときはじめて出力するようにするとよ
い。
第３図は回転ドラムスクリーン１内部に水位計
２と共に濃縮液溜り部１０に空気供給管１１を配
設した実施例を示す。
２と共に濃縮液溜り部１０に空気供給管１１を配
設した実施例を示す。
上述のように過ゾーン７に残留した濃縮液
は、中間仕切板２の手前に溜り、ここで固形物は
沈殿するので、固形物が十分に濃縮ゾーン８へ移
送されず、これが多量に溜ると十分な過処理が
行えなくなる虞れがある。そこで、この実施例で
は、濃縮液溜り部１０に空気供給管１１を導き、
ここの濃縮液を曝気流動させることによつて濃縮
液を均一な状態で濃縮ゾーン８へ流入できるよう
にした。また濃縮液が流動しているので、過面
の洗浄も行え過ゾーン７での過処理も効果的
に行える。
は、中間仕切板２の手前に溜り、ここで固形物は
沈殿するので、固形物が十分に濃縮ゾーン８へ移
送されず、これが多量に溜ると十分な過処理が
行えなくなる虞れがある。そこで、この実施例で
は、濃縮液溜り部１０に空気供給管１１を導き、
ここの濃縮液を曝気流動させることによつて濃縮
液を均一な状態で濃縮ゾーン８へ流入できるよう
にした。また濃縮液が流動しているので、過面
の洗浄も行え過ゾーン７での過処理も効果的
に行える。
ここで、中間仕切板２に第４図に示すように、
切欠き部２ａを形成すると、濃縮ゾーン８への流
入が間欠的にある程度の流速をもつて行えるの
で、濃縮液の移送がスムーズになり、また濃縮ゾ
ーン８の洗浄効果もあり、さらに濃縮ゾーン８の
滓の移動も促進される。
切欠き部２ａを形成すると、濃縮ゾーン８への流
入が間欠的にある程度の流速をもつて行えるの
で、濃縮液の移送がスムーズになり、また濃縮ゾ
ーン８の洗浄効果もあり、さらに濃縮ゾーン８の
滓の移動も促進される。
尚、水位計２により液位レベルを計測する場合
には一定時間毎に空気供給を中止するとよい。ま
た、空気供給のかわりに機械的な撹拌手段を設け
てもよい。
には一定時間毎に空気供給を中止するとよい。ま
た、空気供給のかわりに機械的な撹拌手段を設け
てもよい。
以上のようにこの案によれば、回転ドラムスク
リーンの濃縮液溜り部に水位計を配置したので、
被処理水の性状に応じて効率的な洗浄が行える等
の効果がある。
リーンの濃縮液溜り部に水位計を配置したので、
被処理水の性状に応じて効率的な洗浄が行える等
の効果がある。
第１図はこの考案の一実施例の縦断面図、第２
図は回転ドラムスクリーンの正面図、第３図は他
の実施例の縦断面図、第４図は中間仕切板の平面
図を示す。 １…回転ドラムスクリーン、２…中間仕切板、
３…水位計、７…過ゾーン（過部）、８…濃
縮ゾーン（濃縮部）、１０…液溜り部。
図は回転ドラムスクリーンの正面図、第３図は他
の実施例の縦断面図、第４図は中間仕切板の平面
図を示す。 １…回転ドラムスクリーン、２…中間仕切板、
３…水位計、７…過ゾーン（過部）、８…濃
縮ゾーン（濃縮部）、１０…液溜り部。
Claims (1)
- 傾斜配置され、内部に供給された被処理液を回
転しながら過し、滓を下端より排出する回転
ドラムスクリーンと、この回転ドラムスクリーン
内部に設けられ、該回転ドラムスクリーンを上部
の過ゾーンと下部の濃縮ゾーンとに仕切るドー
ナツ状の中間仕切板と、この中間仕切板の近傍に
設けられ、該中間仕切板の上記過ゾーン側に溜
つた濃縮液の液位を計測する水位計とこの水位計
の計測値によつてオン、オフ制御される上記回転
ドラムスクリーンの洗浄装置とを備えた過装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10853983U JPS6017214U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 濾過装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10853983U JPS6017214U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 濾過装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017214U JPS6017214U (ja) | 1985-02-05 |
| JPS64983Y2 true JPS64983Y2 (ja) | 1989-01-11 |
Family
ID=30253192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10853983U Granted JPS6017214U (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 濾過装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017214U (ja) |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP10853983U patent/JPS6017214U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6017214U (ja) | 1985-02-05 |
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