JPWO2016072425A1 - 絶縁ワイヤおよび回転電機 - Google Patents
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Abstract
Description
すなわち、本発明は、部分放電開始電圧および絶縁破壊電圧がともに高く、可とう性と耐摩耗性に優れた絶縁ワイヤを提供することを課題とする。さらにこのような優れた性能の絶縁ワイヤを用いた回転電機を提供することを課題とする。
(1)導体の外周面上に直接または間接的に少なくとも1層の気泡を有する熱硬化性樹脂からなる発泡絶縁層を有し、該発泡絶縁層が厚さ方向において気泡密度が異なることを特徴とする絶縁ワイヤ。
(2)前記発泡絶縁層の厚さ方向における気泡密度差が、3%以上であることを特徴とする(1)に記載の絶縁ワイヤ。
(3)前記発泡絶縁層における平均気泡径が、10μm以下であることを特徴とする(1)または(2)に記載の絶縁ワイヤ。
(4)前記発泡絶縁層の厚さが、10〜200μmであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤ。
(5)前記熱硬化性樹脂が、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂およびポリエーテルサルフォン樹脂から選択されることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤ。
(6)前記(1)〜(5)のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤを用いてなることを特徴とする回転電機。
ここで、本発明において、異なった層とは、樹脂が異なる層だけでなく、樹脂が同一であっても、気泡を有する発泡層と気泡を有しない無発泡層はそれぞれ異なった層である。
また、熱硬化性樹脂を使用する場合、気泡を有さない無発泡層において、同一樹脂ワニスを塗布および焼き付けを繰り返して、単に厚みを調節した層は同一層である。
一方、発泡層の場合、厚さ方向に発泡密度が異なっても同一樹脂で構成されていれば、同一層であり、厚みを調節したり、単に発泡密度を変化させるために、樹脂ワニスを塗布および焼き付けを繰り返したとしても、少なくとも樹脂が同一であれば、同一層である。例えば、同一樹脂ワニスで、塗布後、焼き付け条件を変更した場合、樹脂ワニス中の樹脂が同一で、発泡密度を変更するための発泡剤の種類や量のみ異なる樹脂ワニスで、塗布および焼き付けを繰り返した場合は、いずれも同一層、すなわち、1層である。
なお、使用されている樹脂が異なっているかどうかは赤外吸収スペクトルまたはラマンスペクトルを分析することで判断できる。また、気泡を有するかどうかは、厚み方向での断面を走査電子顕微鏡(SEM)により300〜3000倍で観測(撮影)することで判断できる。
<<絶縁ワイヤ>>
本発明の絶縁ワイヤ(絶縁電線とも称す)は、導体の外周面上に直接または間接的に少なくとも1層の気泡を有する熱硬化性樹脂からなる発泡絶縁層を有し、該発泡絶縁層が厚さ方向において気泡密度が異なる。
なお、内側絶縁層は、導体の外周面に形成され、後述する発泡絶縁層を形成する熱硬化性樹脂で気泡をもたない状態に形成される層である。また、内部絶縁層は、発泡絶縁層の内部に、後述する発泡絶縁層を形成する熱硬化性樹脂で気泡をもたない状態に形成される層である。本発明では、必要に応じて、内側絶縁層や内部絶縁層が設けられる。
絶縁ワイヤの長手方向と垂直な断面における電線皮膜の総厚み(全ての絶縁層の厚みの合計;導体から表面までの合計厚さ)は20〜300μmが好ましく、50〜200μmがより好ましい。
ただし、本発明は、図面に記載のものに限定されるものではない。
図1(b)に断面図を示した本発明の絶縁ワイヤの別の実施態様は、導体1として断面が矩形のものを用いたもので、それ以外は基本的に図1(a)に示す絶縁ワイヤと同様である。この実施態様は、導体1の断面が矩形であるので、熱硬化性樹脂からなる発泡絶縁層2および熱可塑性樹脂からなる外側絶縁層3も断面が矩形である。
図2(b)に示した本発明の絶縁ワイヤのさらにまた別の実施態様では、発泡絶縁層2を厚さ方向に2つの層に分割する内部絶縁層26を設け、導体1の断面が矩形のものを用いた以外は図2(a)に示す絶縁ワイヤと同様である。すなわち、この実施態様では、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2、内部絶縁層26、発泡絶縁層2および外側絶縁層3がこの順で積層形成されている。
本発明において、「内側絶縁層」は、気泡を有していないこと以外は発泡絶縁層と基本的に同様であり、「内部絶縁層」は形成される位置が異なること以外は内側絶縁層と基本的に同様である。
図3(b)に示した本発明の絶縁ワイヤの別の実施態様では、気泡を有する熱硬化性樹脂からなり厚み方向に気泡密度が異なる発泡絶縁層2と外側絶縁層3との間に密着層のような内部絶縁層35を、図2(b)の内部絶縁層26の代わりに設けた以外は図2(b)に示す絶縁ワイヤと同様である。
本発明に用いる導体1としては、従来、絶縁電線もしくは絶縁ワイヤで用いられているものを使用することができ、例えば、銅、銅合金、アルミニウム、アルミニウム合金またはそれらの組み合わせ等が挙げられる。好ましくは、酸素含有量が30ppm以下の低酸素銅、さらに好ましくは20ppm以下の低酸素銅または無酸素銅の導体である。酸素含有量が30ppm以下であれば、導体を溶接するために熱で溶融させた場合、溶接部分に含有酸素に起因するボイドの発生がなく、溶接部分の電気抵抗が悪化することを防止するとともに溶接部分の強度を保持することができる。
矩形の導体1の大きさは、特に限定はないが、幅(長辺)は1〜5mmが好ましく、1.4〜4.0mmがより好ましく、厚み(短辺)は0.4〜3.0mmが好ましく、0.5〜2.5mmがより好ましい。幅(長辺)と厚み(短辺)の長さの割合は、1:1〜1:4が好ましい。
また、矩形の4隅に面取り(曲率半径r)を設けた形状であることが望ましい。曲率半径rは、0.6mm以下が好ましく、0.2〜0.4mmがより好ましい。
発泡絶縁層の厚さに制限はないが、本発明では、10〜200μmが好ましい。
また、本発明では、発泡絶縁層は1層でも2層以上の複数の層からなっていてもよい。
熱硬化性樹脂としては、従来用いられているものを使用することができる。本発明では、ポリアミドイミド(PAI)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエステルイミド(PEsI)およびポリエーテルサルフォン(PES)から選択される樹脂が好ましく、なかでも耐溶剤性に優れるポリアミドイミド(PAI)およびポリイミド(PI)がより好ましく、ポリアミドイミド(PAI)が特に好ましい。
使用する熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
ポリイミドとしては、例えば、Uイミド(ユニチカ株式会社製、商品名)、U−ワニス(宇部興産株式会社製、商品名)、HCIシリーズ(日立化成株式会社製、商品名)、オーラム(三井化学株式会社製、商品名)などを使用することができる。
ここで、気泡密度の差は、同一発泡樹脂層内での密度差であり、以下の方法で絶縁ワイヤの絶縁皮膜を観測して、気泡密度を求めることができる。
厚み方向のSEM写真より、空孔の分布が明確ではない場合、導体側より5μm×5μmごとに計測範囲を設定する。なお、図4に示すSEM写真がこの場合に相当する。例えば、発泡絶縁層の厚みが30μmの場合、計測範囲は縦方向に計6ヵ所となる。
計測範囲を画像解析し、面積率を算出する。
ここで、面積率とは、計測範囲の面積における空隙の割合である。算出した面積率(%)を気泡密度(%)とする。
なお、厚み方向で3%以上の気泡密度の差があれば、気泡密度に傾斜が有ると判断される。
本発明では、気泡密度に3%以上の傾斜があれば、気泡密度に傾斜を有しない場合と比較して可とう性が優位に向上することを見出したものである。
本発明で、気泡密度を論じる際は、上記の観点で任意に設定した縦横ピクセル数の範囲を「中」、「中」の範囲を含まずにこれより導体側に設定した任意の縦横ピクセル数の範囲を「下」、「中」の範囲を含まずにこれより皮膜表面側に設定した任意の縦横ピクセル数の範囲を「上」と分類することがある。
本発明の絶縁ワイヤは、導体と熱硬化性樹脂からなる発泡絶縁層の間に、熱硬化性樹脂からなる内側絶縁層を有してもよい。なお、この内側絶縁層は、発泡絶縁層でないことが好ましい。
内側絶縁層の厚みは、1〜40μmが好ましく、1〜25μmがより好ましい。
本発明の絶縁ワイヤは、発泡絶縁層の外周に、直接もしくは内部絶縁層を介して、外側絶縁層が形成されていてもよい。
本発明者らは、発泡絶縁層に空気が含まれることによって形状を変形させられることを利用し、この発泡絶縁層の上層に外側絶縁層として熱可塑性樹脂の層を設けることで空気ギャップを埋めることができ、よって部分放電の発生を抑制する性能に優れることを見出した。この効果をさらに高めるために、外側絶縁層に使用される熱可塑性樹脂として、非晶性樹脂である場合には240℃以上のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂、または、結晶性樹脂である場合には240℃以上の融点を有する熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
本発明において「気泡をもたない」とは完全に気泡のない状態に加えて、本発明の目的を損なわない程度、すなわち、直径0.1μm未満の空隙の場合は気泡をもたない状態に包含される。直径0.1μm未満の気泡径の有無については、発泡絶縁層の断面を走査電子顕微鏡(SEM)で観察することで確認できる。
熱可塑性樹脂組成物の成形は発泡絶縁層の周囲に直接または間に別の樹脂層、すなわち内部絶縁層を介在させることもできる。
内部絶縁層を形成する樹脂は、熱可塑性樹脂が好ましく、外側絶縁層で挙げた熱可塑性樹脂が挙げられる。内部絶縁層を形成するための熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂に加えて、例えば、発泡絶縁層を形成するワニスに添加される各種添加剤または前記有機溶剤などを、特性に影響を及ぼさない範囲で、含有していてもよい。
内側絶縁層や内部絶縁層は、内側絶縁層または内部絶縁層を形成するワニスを塗布し、内側絶縁層は焼付けることによって、内部絶縁層は、樹脂組成物を押出成形、溶媒蒸発などの成形方法によって、それぞれ、形成できる。
なお、厚みの薄い密着層では、発泡絶縁層上に、外側絶縁層を形成する非晶性熱可塑性樹脂と同様の非晶性熱可塑性樹脂を溶媒に溶解させた塗料を塗布し、溶媒を蒸発させることによって、形成できる。
外側絶縁層3を有しない以外は、図2(a)に示す絶縁ワイヤを下記のようにして作製した。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ〔樹脂成分32質量%のN−メチルピロリドン(NMP)溶液、NMPの沸点202℃〕(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に気泡形成剤としてトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)100gとジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点256℃)150gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、1.0mmφの銅導体1に調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温580℃、後半は炉温420℃にて焼き付けて厚さ80μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温580℃で焼き付けた部分は気泡密度が65%の部分に相当し、「後半」の炉温420℃で焼き付けた部分は気泡密度が15%の部分に相当する。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1の内側絶縁層25を設けないで、1.0mmφの銅導体1上に80μmの厚みの発泡絶縁層2のみを設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、気泡形成剤としてNMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。実施例1と同じ導体1上に、上記で調整した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温540℃、後半は炉温520℃にて焼き付けて、厚さ80μmの発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。「前半」で、炉温540℃で焼き付けた部分は気泡密度が50%の部分に相当し、「後半」の炉温520℃で焼き付けた部分は気泡密度が45%の部分に相当する。
このようにして発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、NMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリイミドワニスはUイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、実施例1と同じ銅導体1上に調製した内側絶縁層形成用ポリイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温440℃、後半は炉温460℃で焼き付けて厚さ50μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温440℃で焼き付けた部分は気泡密度が20%の部分に相当し、「後半」の炉温460℃で焼き付けた部分は気泡密度が23%の部分に相当する。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層aを設け、さらに、該発泡絶縁層a上に、発泡絶縁層aとは異なる発泡絶縁層bを設けた。
まず、発泡絶縁層aを形成するのに用いる発泡ポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ〔樹脂成分32質量%のN−メチルピロリドン(NMP)溶液、NMPの沸点202℃〕(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に気泡形成剤としてトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)100gとジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点256℃)150gを添加することにより得た。
また、発泡絶縁層bを形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、NMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。
さらに、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。
実施例1と同じ銅導体1に、調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ3μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡絶縁層aを形成する発泡ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温560℃、後半は炉温440℃で焼き付けて厚さ30μmの発泡絶縁層aを形成した。「前半」で、炉温560℃で焼き付けた部分は気泡密度が60%の部分に相当し、「後半」の炉温440℃で焼き付けた部分は気泡密度が20%の部分に相当する。
次いで、発泡絶縁層a上に、上記で調整した発泡絶縁層bを形成する発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温560℃、後半は炉温520℃で焼き付けて厚さ30μmの発泡絶縁層bを形成した。「前半」で、炉温560℃で焼き付けた部分は気泡密度が55%の部分に相当し、「後半」の炉温520℃で焼き付けた部分は気泡密度が45%の部分に相当する。
このようにして内側絶縁層25および2層の発泡絶縁層2(aおよびb)が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ〔樹脂成分32質量%のN−メチルピロリドン(NMP)溶液、NMPの沸点202℃〕(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に気泡形成剤としてトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)100gとジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点256℃)150gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、実施例1と同じ銅導体1上に調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温600℃、中間は炉温500℃、後半は炉温400℃で焼き付けて厚さ150μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温600℃で焼き付けた部分は気泡密度が70%の部分に相当し、「中間」で、炉温500℃で焼き付けた部分は気泡密度が40%の部分に相当し、「後半」の炉温400℃で焼き付けた部分は気泡密度が10%の部分に相当する。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設け、さらに該発泡絶縁層2上に、外側絶縁層3を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ〔樹脂成分32質量%のN−メチルピロリドン(NMP)溶液、NMPの沸点202℃〕(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に気泡形成剤としてトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)100gとジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点256℃)150gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、実施例1と同じ銅導体1上に調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ4μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温前半は炉温600℃、中間は炉温440℃、後半は炉温600℃で焼き付けて厚さ40μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温600℃で焼き付けた部分は気泡密度が70%の部分に相当し、「中間」で、炉温440℃で焼き付けた部分は気泡密度が20%の部分に相当し、「後半」の炉温600℃で焼き付けた部分は気泡密度が70%の部分に相当する。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、気泡形成剤としてNMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。
実施例1と同じ銅導体1に、調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調整した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温540℃、後半は炉温440℃にて焼き付けて、厚さ30μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温540℃で焼き付けた部分は気泡密度が50%の部分に相当し、「後半」の炉温440℃で焼き付けた部分は気泡密度が35%の部分に相当する。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設け、さらに該発泡絶縁層2上に、外側絶縁層3を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、気泡形成剤としてNMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。
実施例1と同じ銅導体1に、調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調整した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを前半は炉温420℃、後半は炉温560℃にて焼き付けて、厚さ8μmの発泡絶縁層2を形成した。「前半」で、炉温420℃で焼き付けた部分は気泡密度が15%の部分に相当し、「後半」の炉温560℃で焼き付けた部分は気泡密度が55%の部分に相当する。
これを発泡絶縁層2上にディップコーティングにより塗布し、炉温500℃にて焼き付けて厚さ25μmの外側絶縁層3を形成した。
このようにして、内側絶縁層25、発泡絶縁層2および外側絶縁層3を有する絶縁ワイヤを作製した。
導体1上に、内側絶縁層25と発泡絶縁層でない通常の熱硬化性樹脂からなる絶縁層を設けた。
まず、熱硬化性樹脂からなる絶縁層を形成するのに用いるポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液、NMPの沸点202℃)(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリイミドはUイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、実施例1と同じ銅導体1上に調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ3μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製したポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃で焼き付けて厚さ30μmの熱硬化性樹脂からなる絶縁層を形成した。
このようにして、内側絶縁層25、発泡絶縁層でない通常の絶縁層を有する絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、Uイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)1000gを入れ、NMP(沸点202℃)75g、DMAC(沸点165℃)150gおよびテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)200gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリイミドワニスはUイミド(樹脂成分25質量%のNMP溶液)(商品名、ユニチカ株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。具体的には、実施例1と同じ銅導体1上に調製した内側絶縁層形成用ポリイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ3μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを炉温600℃で焼き付けて厚さ50μmで、気泡密度70%の発泡絶縁層2を形成した。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
実施例1と同様に、導体1上に、内側絶縁層25、発泡絶縁層2を設けた。
まず、発泡絶縁層2を形成するのに用いる発泡ポリアミドイミドワニスを以下のように作製した。2L容セパラブルフラスコに、HI−406シリーズ〔樹脂成分32質量%のN−メチルピロリドン(NMP)溶液、NMPの沸点202℃〕(商品名、日立化成株式会社製)1000gを入れ、この溶液に気泡形成剤としてトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)100gとジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点256℃)150gを添加することにより得た。
また、内側絶縁層25である導体側絶縁層を形成するのに用いる内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスはHI−406シリーズ(樹脂成分32質量%のNMP溶液)(商品名、日立化成株式会社製)を用いた。この樹脂1000gに溶剤としてNMPを用いて30質量%樹脂溶液として用いた。
各ワニスはディップコーティングにより塗布し、ダイスによって塗布量を調節した。
実施例1と同じ銅導体1に、調製した内側絶縁層形成用ポリアミドイミドワニスを塗布し、これを炉温500℃にて焼き付けて厚さ5μmの内側絶縁層25を形成した。次いで、内側絶縁層25上に、上記で調製した発泡ポリイミドワニスを塗布し、これを炉温580℃で焼き付けて厚さ25μmで、気泡密度65%の発泡絶縁層2を形成した。
このようにして内側絶縁層25および発泡絶縁層2が形成された絶縁ワイヤを作製した。
前述のようにして、絶縁ワイヤの絶縁皮膜を液体窒素中で冷却しながら厚み方向にへき開し、厚み方向での断面を走査電子顕微鏡(SEM)により300〜3000倍で撮影した。皮膜全体の厚さが観察画面に全て収まるように倍率を調整した。撮影した断面のSEM写真を、面積率が算出できる画像解析ソフト「WinROOF ver.7.1」(三谷商事社製)に取り込んだ。得られた計測範囲を画像解析し、面積率(%)を算出し、気泡密度(%)とした。
なお、下記表1中の「上」、「中」、「下」は、SEM写真を視覚的に判断した大まかな気泡密度の区分であり、表の個々のセルに記載の気泡密度は、観測した視野における実際の観測範囲における気泡密度である。
実施例及び比較例における各層の厚さ、発泡絶縁層を含む各絶縁層の厚さおよび発泡絶縁層中の平均気泡径は、絶縁ワイヤの厚み方向の断面の走査電子顕微鏡(SEM)像で測定および算出した。発泡絶縁層中の平均気泡径は上記走査電子顕微鏡(SEM)像において、50個の気泡を無作為に選び、画像寸法計測ソフト(三谷商事社製WinROOF)を用い、径測定モードにて平均の気泡径を算出し、得られた値を気泡径とした。
上記で製造した各絶縁ワイヤを絶縁ワイヤ毎に、それぞれ2本をツイスト状に撚り合わせた試験片を作製し、2本の導体間に正弦波50Hzの交流電圧を印加して、連続的に昇圧させながら放電電荷量が10pCのときの電圧(実効値)を測定した。測定温度は常温とした。部分放電開始電圧の測定には部分放電試験機(菊水電子工業製、KPD2050)を用いた。部分放電開始電圧は、850V以上であれば、部分放電が発生しにくく絶縁ワイヤの部分劣化を防止できる。このため、得られた部分放電開始電圧を下記のランクで評価した。
A:部分放電開始電圧が900V以上
B:部分放電開始電圧が850V以上900V未満
C:部分放電開始電圧が500V以上850V未満
D:部分放電開始電圧が500V未満
可とう性の試験はJIS C 3216−3に従って実施した。直線状の絶縁ワイヤを、個別規格に規定する直径をもつ表面の滑らかな丸棒に沿って線と線とが接触するように10回巻いた。丸棒の回転速度は、毎秒1〜3回の割合とし、線と丸棒とが接触するように張力をかけた。作製した試験片について、目視および15倍の拡大鏡にて亀裂の有無を調べ、可とう性を、以下のランクで評価した。
A:目視および15倍の拡大鏡で観察して全く亀裂がみられない
B:目視にて亀裂は観測されず15倍の拡大鏡では僅かな亀裂がみられる
C:JIS C 3216−5規定のピンホール試験で微小な欠陥が観測される
D:目視で亀裂が観測される
一方向摩耗試験はJIS C 3216に準じて実施した。試験装置はNEMAスクレープテスター(株式会社東洋精機製作所社製)を用いた。この試験は直線状の試験片について連続的に増加する力が針に加わるようにし、その針で試験片の表面を擦っていくものである。針と導体の間で導通が生じたときの力を破壊力とした。得られた結果を、下記ランクで評価した。
A:破壊力が2500g以上
B:破壊力が1500g以上2500g未満
C:破壊力が1000g以上1500g未満
D:破壊力が1000g未満
以下に示す導電性銅箔テープ法で評価した。
上記で作製した絶縁ワイヤを、適切な長さ(約20cmの長さ)に切り出し、中央付近に20mm幅の導電性銅箔テープを巻き付け、銅箔と導体間に正弦波50Hzの交流電圧を印加して、連続的に昇圧させながら絶縁破壊した。電圧(実効値)を測定した。なお、測定温度は25℃で行った。この結果を下記ランクで評価した。
A:絶縁破壊電圧が10kV以上
B:絶縁破壊電圧が8kV以上10kV未満
C:絶縁破壊電圧が5kV以上8kV未満
D:絶縁破壊電圧が5kV未満
総合評価は、4項目における「A」の個数により判定した。「A」が3個以上のものは「A」、2個のものは「B」、1個のものは「D」とした。また、「C」が2個の場合も総合評価は「D」とした。すなわち、総合評価は、少なくとも「B」以上が要求される。
また、実施例1〜8および比較例1〜3の絶縁ワイヤの厚さ方向での模式的な断面図を図6に示した。
この結果、当初、両立が困難と予想された、高い部分放電開始電圧と優れた可とう性を両立させることができた。
これに対し、発泡絶縁層を有さない比較例1では、部分放電開始電圧が低かった。また、発泡絶縁層の厚さ方向で発泡密度に差がなく、均一な発泡密度である比較例2、3では、部分放電開始電圧は高いものの、可とう性は、本発明の絶縁ワイヤ(実施例1〜8)より、ランクが低かった。
これに加えて、発泡絶縁層を有さない比較例1では、絶縁破壊電圧が低く、比較例2、3では絶縁破壊電圧および一方向摩擦性での破壊力がともに低かった。
すなわち、比較例1〜3はいずれも、ランクAが1つであって、しかもランクCが2つであり、総合的に劣っていた。
2 発泡絶縁層
3 外側絶縁層
25 内側絶縁層
26 内部絶縁層
35 内部絶縁層
Claims (6)
- 導体の外周面上に直接または間接的に少なくとも1層の気泡を有する熱硬化性樹脂からなる発泡絶縁層を有し、該発泡絶縁層が厚さ方向において気泡密度が異なることを特徴とする絶縁ワイヤ。
- 前記発泡絶縁層の厚さ方向における気泡密度差が、3%以上であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁ワイヤ。
- 前記発泡絶縁層における平均気泡径が、10μm以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の絶縁ワイヤ。
- 前記発泡絶縁層の厚さが、10〜200μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤ。
- 前記熱硬化性樹脂が、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂およびポリエーテルサルフォン樹脂から選択されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤ。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁ワイヤを用いてなることを特徴とする回転電機。
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