KR19990077802A - 파편의 생성으로 인한 성능 열화가 감소된 리소그래픽 이미징 방법 및 그 구성 - Google Patents

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Abstract

용발형(ablation-type) 리소그래픽 인쇄판 상의 열적 파괴(thermal breakdown)의 성능 제한 효과는 잉크 수용면이 인쇄 부재의 표면층에서 시작된 파편(debris)의 효과에 민감하지 않게 하므로써, 또는 유해한 파편이 형성되는 것을 전적으로 방해하므로써 극복된다. 한 방법에서, 잉크 수용면은 고도로 교차 결합된 폴리머이다. 결과적으로 경화된 매트릭스는 이미징 공정의 결과로서 용해, 연화, 또는 화학적 열화에 영향받지 않는 충분한 3차원 결합도를 나타낸다. 선택적으로, 이미징층과 표면층 간에 배치된 개재층(intervening layer)은 표면층이 이미징 방사 또는 하부의 이미징층의 용발에 따라 크게 열적으로 열화되는 것을 방지하고, 또한 극히 적은 파편, 또는 잉크 및/또는 기판의 친화력과 유사한 즉, 하부의 잉크 수용면의 친유성(oleophilicity)을 감소시키지 않는 파운틴 용액(fountain solution)에 대해 친화력을 갖는 파편을 생성하도록 형성된다. 이미징 다음에, 절연층의 나머지는 상기 판이 이미징 방사를 수신하면 표면층과 함께 제거된다.

Description

파편의 생성으로 인한 성능 열화가 감소된 리소그래픽 이미징 방법 및 그 구성{METHOD OF LITHOGRAPHIC IMAGING WITH REDUCED DEBRIS-GENERATED PERFORMANCE DEGRADATION AND RELATED CONSTRUCTIONS}
본 발명은 디지탈 인쇄 장치 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 디지탈적으로 제어되는 레이저 출력을 사용하여 리소그래픽 인쇄판 구성의 온- 또는 오프-프레스(on- or off-press) 이미징에 관한 것이다.
오프셋 리소그래피에서, 인쇄 가능 이미지가 인쇄 부재 상에 잉크 수용(친유성, oleophilic) 및 잉크 반발(공유성,oleophobic) 표면 영역의 패턴으로서 존재한다. 일단 이들 영역에 도포되면, 잉크는 실질적으로 충실하게 이미지별 패턴(imagewise pattern)으로 기록 매체에 효과적으로 전사될 수 있다. 건식 인쇄 시스템은 잉크를 반발하는 부분이 직접적인 응용을 허용하기에는 잉크를 충분히 반발하는 인쇄 부재를 이용한다. 인쇄 부재에 균일하게 도포된 잉크는 이미지별 패턴으로만 기록 매체에 전사된다. 전형적으로, 인쇄 부재는 먼저 블랭킷 실린더라고 하는 유연한 중간면과 접촉하는데, 상기 블랭킷 실린더는 후에 이미지를 종이 또는 다른 기록 매체에 전사한다. 전형적인 급지 프레스 시스템에서, 기록 매체가 블랭킷 실린더와 접촉하는 인쇄 실린더에 스핀된다.
습식 리소그래픽 시스템에서, 비-이미지 영역은 친수성이고, 잉크화하기 전에 판에 댐프닝(dampening)(또는 "파운틴(fountain)") 용액을 초기에 도포함으로서 필요한 잉크-반발성(ink-repellency)이 제공된다. 잉크 접착 파운틴 용액은 잉크가 비-이미지 영역에 접착되는 것을 방지하지만, 이미지 영역의 친유성에 영향을 미치지는 않는다.
전통적인 인쇄 기술은 흔히 사용하는 번거로운 포토그래픽 개발, 판-장착 및 판-레지스트레이션 동작을 극복하기 위해, 기술자들은 이미지별 패턴을 디지탈 형태로 저장하고 이 패턴을 판에 직접 인쇄하는 전자적인 방법을 개발하였다. 컴퓨터 제어에 용이하게 이용될 수 있는 판-이미징 장치는 다양한 형태의 레이저를 포함한다. 예를 들어, 미국특허 제 5,351,617 및 5,385,092호(그 전문이 이하 본 발명의 참조로 일체화됨)는, 저 전력의 레이저 방전을 이용하여 하나 이상의 리소그래픽 인쇄 블랭크 층을 이미지별 패턴으로 제거함으로써, 포토그래픽 현상을 필요하지 않고 즉석 잉크 인쇄 부재를 만드는 용발 기록 시스템(ablative recording system)을 설명하고 있다. 상기 시스템에 따르면, 레이저 출력이 다이오드에서 인쇄면으로 안내되어 그 표면 위(또는 바람직하게, 일반적으로 표면층 밑에 놓이는 레이저 용발에 가장 크게 영향을 받는 레이저층 상에)에 초점이 일치된다.
그 전문이 본 발명의 참조로서 일체화되어 있는, 미국특허 제 5,339,737 및 Re, 35,512 및 동시 계류중인 출원 일련번호 제08/700.287 및 08/756,267호는 이와 같은 이미징 장치와 함께 사용하기 위한 다양한 리소그래픽 판 구성을 기술하고 있다. 일반적으로, 판 구성은 잉크 또는 잉크 접착 유체에 대한 친화(또는 반발)를 위해 선택된 제1 최상부층을 포함할 수 있다. 상기 제1 층 밑에는 이미지층이 놓이는데, 이는 이미징(즉, 적외선 또는 "IR") 방사에 반응하여 용발한다. 강하고 내구성이 강한 기판이 이미지층 밑에 놓이고, 이는 제1 층의 그것과는 반대인 잉크 또는 잉크 접착 유체에 대해 친화력(또는 반발)에 그 특징이 있다. 이미징 펄스에 의한 흡수 제2 층의 용발은 일반적으로 최상부층을 약화시킨다. 하부층의 그 정박지(anchorage)를 파괴함으로써, 최상부층은 후-이미징 세정 단계에서 용이하게 제거가능하게 된다. 이로 인해 노출되지 않은 제1 층의 그것과는 다른 잉크 또는 잉크 접착 유체에 대해 친화력을 갖는 이미지 스폿을 만들게 되고, 이와 같은 스폿의 패턴은 리소그래픽 판 이미지를 형성한다.
특수한 인쇄 부재 및 이미징 조건에 따라, 임의의 성능 제한이 관찰될 수 있다. 예를 들어, 실리콘-표면 건식 판은 노출된 잉크 수용(일반적으로 폴리에스테르)층에 의해 잉크의 불충분한 보존을 나타낼 수 있다. 그러나, 이와 같은 행동의 근원은 복잡한데, 이는 단지 견고하게 접착하는 실리콘 파편으로부터 발생하지 않기 때문이다. 예를 들어, 실리콘층을 간단히 기계적으로 러빙하여 잉크 수용층에서 확대하여 보아도 가시적인 모든 파편들을 신뢰성있게 제거하고, 이미지화되지 않은 실리콘 영역을 손상시키기 훨씬 이전에 발생할 수 있다. 그럼에도 불구하고, 이와 같은 판들은 잉크에 대해 부적절한 친화력과 연관된 불량한 품질로 인쇄할 수 있다. 그리고, 비록 잉크 수용성이 용제로 세정함으로써 크게 향상되지만, 이와 같은 공정은 판의 비-이미지화 부분에 대한 그 정박지를 열화시키는 것은 물론 실리콘을 유연하게 할 수 있다. 용제는 또한 환경, 건강 및 안정 상의 문제를 발생할 수 있다.
이미징 공정, 및 판 구성, 특히 실리콘 상부 코팅부밑에 얇은 금속 용발층을 포함하는 구성의 임의의 종류에 미치는 효과의 연구에 따르면, 관찰된 인쇄 결핍은 이미징 공정에 의해 유발된 미묘한 화학적 및 형태학적 변화에 기인하는 것으로 밝혀졌다. 얇은 금속 이미징 층에 근거한 판은, 예를 들어 자기-산화(즉, 니트로셀룰로스(nitrocelluose)) 용발층을 갖는 레이저-이미지가능 인쇄판보다 상당히 높은 온도로 가열하여 용발시킬 것을 필요로 한다. 특히 저전력 이미징 원을 사용하면, 파괴적인 열이 축적되는데 필요한 노출 시간이 커져서 원치않는 열 반응의 가능성이 발생한다. 예를 들어, 다이오드 레이저의 저 전력 이미징 펄스는 1680℃의 용해점을 벗어나는 티타늄과 같은 금속을 가열시키기 위해서는 최소 지속기간(흔히 5-15㎲) 동안 지속되어야 한다. 티타늄층이 화학적으로 복잡한 실리콘층과 접촉하기 때문에, 이와 같은 고온은 열 열화의 실리콘 파생 부산물을 만드는 반응을 유발할 수 있다. 이와 같은 파괴 부산물은 화학 및 기계적 모두, 그리고 휘발성의 티타늄층과 결합하고, 하부의 잉크 수용막 표면과 자유로이 상호작용한다. 더우기, 상기 표면은 또한 고농에의 노출 결과로서 실리콘 파괴 부산물과의 상호작용에 보다 취약하게 되고, 이는 실리콘 파괴 부산물을 용이하게 받아들이도록 막의 표면을 융해시켜 열적으로 열화시킬 수 있다. 이들 파괴 부산물과 막의 접착, 주입, 기계적 상호혼합, 및 화학적 반응은 잉크를 보유하는 그 능력을 방해한다.
이와 같은 효과는 이미징 공정을 보다 상세히 분석하면 잘 알 수 있을 것이다. 필요한 용발 온도를 달성하는데 필요한 금속층의 집중적이고 장시간의 국부적인 가열은 둘러싸는 내부 판 구조에 다양한 물리적 영향을 미친다. 금속층이 임의의 변화를 겪기 전에, 버블이 형성되어 실리콘층을 리프트시킨다. 이와 같은 버블은 급속히 가열하는 금속층과의 내부 계면에 실리콘층의 가스성 호모리틱(homolytic) 분해로 인해 가장 흔히 발생한다.
결국, 용해된 금속의 선두로서 노출된 스폿의 중심에서 시작해서 외부로 확장하여 노출된 영역의 가장자리에 도달할 때까지 홀이 금속층에 형성된다. 이미징 펄스가 종료한 후, 이전에 리프트된 실리콘이 안착되게 된다. 이와 같은 지연은 실리콘에서의 가열의 지속, 및 다중합체 재료를 특징으로 하는 비교적 저열 전이율로 인한 노출된 잉크 수용층의 결과이다. 하부의 막은 또한 상당히 열적으로 유도된 물리적 변화를 겪게 된다. 집중적인 가열의 효과가 통상적으로 다공성의 3차원 조직을 이미징에 의해 노출된 잉크 수용막의 표면에 미치게 된다.
노출된 막의 표면 에너지는 변형되지 않은 재료의 그것보가 훨씬 낮다. 예를 들어, 폴리에스테르의 경우, 건식 세정후, 변형되지 않은 재료의 약 40 dynes/㎝과 비교할 때 약 25 dynes/㎝의 표면 에너지가 관찰된다. 표면 에너지에서 관찰된 변화는 흔히 열적으로 변형된 막 표면과 혼합하는 실리콘 부산물의 존재로 인한 것이다. 이들 부산물들은 표면을 효과적으로 마스크하는 가열 조직 폴리에스테르 표면 위에 축적한다. 그리고 상기 조합이 기계적 결합은 물론 화학적 결합을 포함하기 때문에, 간단한 용발 세정은 낮은 표면 에너지의 실리콘을 제거하기에는 불충분하다. 이들 효과는 결과로 나타나는 잉크의 판 수용성을 방해한다. 낮은 표면 에너지는 잉크에 접착하는 실리콘과 같은 혼합물이 되며, 따라서 친유성 재료의 표면 에너지가 감소로 잉크에 대한 그 친화성을 감소시킬 것이다.
제1 특징에서, 본 발명은 잉크 수용면이 인쇄 부재의 표면층에서 시작하는 파편의 결과에 영향을 받지 않게 함으로써, 열적 파괴의 성능 제한 효과를 방지하는 것이다. 본 발명에 사용된 바와 같이, "파편(debris)"라는 용어는, 호모리시(homolysis)와 같은 화학적 메커니즘 또는 전단이나 파괴와 같은 기계적 공정으로 인해 발생할 수 있고, 분자와 같이 작은 크기에서 큰(비록 미소하지만) 크기의 파편일 수 있는 열적으로 발생된 파괴 부산물을 지칭한다.
본 발명의 이와 같은 특징에 따르면, 잉크 수용면은 고도로 교차결합된 폴리머일 수 있다. "고도로 교차결합된(highly crosslinked)"이라는 용어는 공유 결합의 3차원 네트워크를 가지며 극히 높은 접착 에너지 밀도를 나타내는 폴리머를 지칭하는데 사용된다. 이와 같은 재료는 전형적으로 다기능성 모노머(polyfunctional monomer)를 경화(즉, 화학선 작용(actinic) 방사 또는 전자빔원에의 노출에 의해)에 의해 얻어지는데, 상기 다기능성 모노머의 각 분자는 반응 혼합물에 존재하는 동일하거나 또는 다른 화학종과 배가 공유 결합을 수립할 수 있다. 그러나, 이는 또한 이미징 공정의 결과로 결과로 나타나는 경화 매트릭스가용해, 연화, 또는 화학적 열화에 저항하는 충분한 3차원 결합도를 나타내는 한, 단기능 및 다기능 폴리머 프리커서(precursors)의 조합을 이용할 수 있다.
이와 대조적으로, (리소그래픽 판에 잉크 수용면으로서 흔히 사용되는 폴리에스테르 막과 같은) 고도로 교차결합되지 않은 폴리머는, 전형적으로 본래 연화하기 시작하여 온도가 더욱 증가함에 따라 용해하는 측정가능한 글래스-전이 온도 Tg를 나타내는 열가소성이다. 비록 본 발명에 따른 고도로 교차결합된 층에 의해 인쇄면으로서 교체되었지만, 열가소성 재료는 상기 고도로 교차결합된 층 밑에 놓여 유용한 기계적 성질(즉, 고도로 교차결합된 층의 필요한 두께를 제한)을 부여하거나 또는 고도로 교차결합된 층이 합성 및/또는 경화되는 플랫폼으로서의 기능을 한다.
고도로 교차결합된 층으로서 유용한 적합한 폴리머는 폴리아크릴와 폴리우레탄을 포함한다. 적당한 폴리아크릴은 (각각 하나의 아크릴족 이상을 함유하는 모노머에 기초한) 다기능 아크릴와, 단기능 및 다기능 아크릴의 혼합물을 포함한다.
고도로 교차결합된 폴리머의 대안이 가능하다. 잉크 수용면은 필요한 친유성과 (위에 놓이는 이미징 층으로부터 에너지가 방출하는 것을 피하기 위한) 저열 도전성은 물론 열 파괴에의 저항성을 나타내는 임의의 재료일 수 있다. 예를 들어, 세라믹 재료는 이와 같은 기준을 충족시킬 수 있다.
제2 특징에서, 본 발명은 절충할 수 있는 표면보다는 파편의 성질을 바꾼다. 이미징 층과 표면층 간에 배치된 개재층은 표면층이 하부의 이미징층의 이미징 방사 또는 용발에 따라 크게 열적으로 열화하는 것을 방지하고, 또한 기판의 친화력과 유사한 잉크 및/또는 파운틴 용액에 대해 친화력을 갖는 즉, 하부의 잉크 수용면의 친유성을 감소시키지 않는 파편을 만들도록 형성된다. 이미징 다음에, 절연층의 나머지가 판이 이미징 방사를 수신하는 표면층과 함께 제거된다.
하나의 바람직한 방법에서, 절연층은 폴리실레인, 즉 대체 또는 대체되지 않는 실리콘 원자들이 긴 체인으로 상호 직접 결합되어 있는 실리콘 주성분 재료이다. 이와 같은 재료는 친유성을 나타내기 쉬운 파편을 만들뿐 아니라, 이미징 층으로서 사용될 수 있는 폴리머성 금속 또는 비유기성 재료에 상당히 잘 부착한다. 따라서, 이들은 가장 바람직하게 진공하의 피착 다음에 경화에 의해 임의의 다양한 방법으로 이미징층에 도포될 수 있다.
다른 방법에서, 절연층이 그 파편의 성질 또는 생산하는 파편에의 저항성 때문이 아니라, 상부층의 제거 다음의 이미화를 보조하기 위해 선택된다. 이와 같은 종류의 층은 바람직하게 제거 다음에 이미지화를 보조하는 기능성 족을 일체화한다. 예를 들어, 절연층은 절연층의 노출부가 수성 세정 유체와 상호작용하게 하는 친수성 기능족을 갖는 아크릴층일 수 있다. 선택적으로, 절연층은 친수성일 수 있고, 예를 들어 폴리비닐 알콜 화학종은 금속과 실리콘층에 잘 부착한다.
상기 설명은 첨부하는 도면을 참조하여 본 발명의 다음의 상세한 설명으로부터 용이하게 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 최상부 실리콘층, 금속 또는 금속 함유 이미징층, 잉크 수용 절연층, 및 기판을 갖는 리소그래픽 판의 확대 단면도.
도 2는 최상부 실리콘층, 절연층, 금속 또는 금속 함유 이미징층, 및 기판을 갖는 리소그래픽 판의 확대 단면도.
도 3a는 도 2에 도시된 판을 이미징한 결과를 도시하는 도면.
도 3b는 물을 기본으로 한 유체로 이미지된 판을 세정한 결과를 도시하는 도면.
도 4는 최상부 실리콘층, 실리콘 2산화물층, 금속 또는 금속 함유 이미징층, 및 기판을 갖는 리소그래픽 판의 확대 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 기판
102 : 절연층
104 : 이미징층
106 : 표면층
108 : 절연층
본 발명의 인쇄 부재와 결합하여 사용하는데 적합한 이미징 장치는 최대 판 반응성의 영역, 즉 판이 가장 세게 흡수하는 파장 영역에 가장 근접하는 영역에서 lamdamax가 방출하는 적어도 하나의 레이저 장치를 포함한다. 근접한 IR 영역에서 방출하는 레이저에 대한 명세는 상기 '737 및 '512 특허(그 전문이 본 발명이 참조로 일체화되어 있슴)에 상세히 기술되어 있는데, 전자기 스펙트럼의 다른 영역에서 방출하는 레이저는 기술분야의 숙련자에게 공지되어 있다.
적당한 이미징 구성은 또한 상기 '737 및 '512 특허에 상세히 기술되어 있다. 간략히, 레이저 출력이 렌즈 또는 다른 빔 안내 구성요소를 거쳐 판 표면에 직접 제공되거나 또는 광섬유 케이블을 사용하여 원격으로 위치된 레이저로부터 블랭크 인쇄판의 표면에 전달될 수 있다. 제어기, 및 연관된 위치설정 하드웨어는 빔 출력을 판 표면에 대해 정밀한 위치에 유지하고, 표면위의 출력을 스캔하여, 판의 선택된 점 또는 영역에 인접한 위치에 레이저를 활성화시킨다. 제어기는 초기 문서에 대응하는 입사 이미지 신호, 또는 판으로 복사된 픽쳐에 응답하여, 해당 원고의 정밀한 음 또는 양 이미지를 만든다. 이미지 신호가 컴퓨터 상의 비트맵 데이타 화일로서 저장된다. 이와 같은 화일은 레스터 이미지 처리(RIP) 또는 다른 적당한 수단에 의해 발생될 수 있다. 예를 들어, RIP는 인쇄 판 상에 전사되는데 필요한 모든 피쳐(features)를 정의하는 페이지 기술어, 또는 페이지 기술어와 하나 이상의 이미지 데이타 화일의 조합으로서 입력 데이타를 수용할 수 있다. 비트맵은 스크린 주파수와 각도는 물론 컬러의 색조를 정의하도록 구성된다.
이미징 장치는 그 스스로, 전적으로 판 제조기로서 기능할 수 있거나 또는 리소그래픽 인쇄 프레스에 직접 일체화될 수 있다. 후자의 경우, 인쇄는 이미지를 블랭크 판에 도포한 직후 시작할 수 있어 프레스 셋업 시간을 크게 감소시킨다. 이미징 장치는 리소그래픽 판 블랭크가 드럼의 내부 또는 외부 실리더형 표면에 장착되어 평탄 하상의 레코더로서 또는 드럼 레코더로서 구성될 수 있다. 명확히, 외부 드럼 설계는 리소그래픽 프레스 상에 대신 사용하기에 보다 적합한데, 이 경우 인쇄 실린더 자체는 레코더 또는 플로터의 드럼 구성요소를 구성한다.
드럼 구성에서, 선결조건인 레이저 빔과 드럼 간의 상대 운동은 축에 대해 드럼(위에 판이 장착됨)을 회전시키고 회전축에 평행하게 빔을 이동시켜, 판을 원주방향으로 스캐닝함으로써 이미지가 축 방향으로 "성장(grows)"하도록 달성된다. 선택적으로, 빔은 드럼 축에 평행하게 이동할 수 있고, 판을 가로질러 각각 통과하는 것이 각을 이루어 증가함으로써, 판 위의 이미지가 원주방향으로 "성장"하게 된다. 두가지 경우 모두에서, 빔에 의한 완전한 스캔후, 초기 문서에 (양 또는 음으로) 대응하는 이미지 또는 픽쳐가 판의 표면에 도포된다.
평탄 하상 구성에서, 빔이 판의 축들중의 어느 한 축을 가로질러 인출되어 각각 통과한 후 다른 축을 따라 인덱스된다. 물론, 선결조건인 빔과 판 간의 상대 운동은 빔의 이동(또는 그 외에)보다는 판의 이동에 의해 발생될 수 있다.
빔이 스캔되는 방법에 무관하게, 복수의 레이저를 이용하여 단일 기록 어레이로 그 출력들을 안내하는 것이 일반적으로 바람직하다(온-프레스(on-presss) 적용의 경우) 다음에 판을 가로질러 또는 판을 따라 각각 통과를 완료하고, 거리가 어레이에서 기원하는 다수의 빔에 의해 그리고 소정의 해상도(즉, 단위 길이마다 다수의 이미지 점)에 의해 결정된 후 기록 어레이가 인덱스된다. 급속한 판 이동(즉, 고속 모터를 사용하여)을 수용함으로써 높은 레이저 펄스율을 이용할 수 있는 오프-프레스(off-press) 적용은 이미징 원으로서 단일 레이저를 자주 이용할 수 있다.
본 발명에 따른 대표적인 인쇄 부재가 도 1과 2에 도시된다. 본 발명에 사용된 바와 같이, "판" 또는 "부재"라는 용어는 잉크 및/또는 파운틴 용액에 대해 서로 다른 친화력을 나타내는 영역에 의해 한정된 이미지를 기록할 수 있는 임의 종류의 인쇄 부재 또는 표면을 지칭하는데, 적당한 구성은 인쇄 프레스의 판 실린더 상에 장착된 전통적인 플래너 리소그래픽 판을 포함하지만, 또한 실린더(즉, 판 실린더의 롤 표면), 끝이 없는 벨트 또는 다른 구성을 포함할 수 있다.
도 1을 참조하면, 제1 인쇄 부재는 기판(100), 절연층(102), 방사 흡수 이미징층(104), 및 표면층(106)을 포함한다.
표면층(106)은 일반적으로 잉크를 반발하는 실리콘 폴리머 또는 플루오르폴리머인 반면, 층(102)은 친유성으로 잉크를 수용한다. 층(104)은 일반적으로 극히 얇은 금속층이다. 이 층은 이미징 방사에 따라 용발한다.
기판(100)의 특성은 적용에 따라 다르다. 만일 견고성 치수 안정성이 중요하다면, 기판(100)은 금속, 즉 5-mil 알루미늄 쉬트일 수 있다. 이상적으로, 알루미늄은 이미징층(104) 내로 반사하도록 폴리시되어 임의의 방사가 상부층을 투과하게 한다. 선택적으로, 층(100)은 도시된 바와 같이 폴리에스테르 막과 같은 폴리머일 수 있고, 다시 한번 막의 두께는 주로 적용에 따라 결정된다. 반사성의 장점은 이미징(즉, IR) 방사를 반사하는 물감을 함유한 재료를 사용함으로써 폴리머성 기판(100)과 결합하여 보유될 수 있다. IR 반사 기판(100)으로서 사용하는데 적합한 재료는 IR 반사 황산 바륨을 백색 물감으로서 이용하는 미국 DE, Wilmingtom, ICI Films이 제조하는 화이트 329 막이다. 바람직한 두께는 0.007 inch이다. 마지막으로, 폴리머 기판(100)은 필요에 따라 금속 지지체(도시되지 않음)에 적층되는데, 이 경우 0.002 inch의 두께가 바람직하다. 미국특허 제 5,570,636호에 개시된 바와 같이, 그 전문은 본 발명의 참조로 일체화되어 있고, 금속 지지체 또는 적층 접착제는 이미징 방사를 반사할 수 있다.
층(102)은 상부층(104)의 이미징 방사와 용발의 효과에도 불구하고 화학적 및 물리적 신뢰성을 유지한다. 바람직하게, 층(102)은 열에 상당한 저항을 나타내는 고도로 교차결합된 폴리머이다. 그러나, 세라믹과 같은 다른 굴절성, 열저항성, 친유성 재료가 대신에 층(102)으로서의 역할을 할 수 있다. 재료의 선택은 일반적으로 적용 기술, 경제성, 및 소정의 최대 두께에 관련된 고려사항에 따라 좌우된다.
예를 들어, 상술된 바와 같이, 층(104)은 바람직하게 진공 조건 하에서 피착에 의해 도포된다. 따라서, 층(102)의 경우, 연속하는 층들이 동일한 챔버 또는 링크된 일련의 챔버 내에 공통 진공 하에서 복수의 피착으로 축적되는 것을 가능하게 하는 진공 피착에 유연한 재료가 바람직하다. 한가지 적합한 방법이 미국특허 제 5,440,446, 4,954,371, 4,696,719, 4,490,774, 4,647,818, 4,482,893, 및 5,032,461호에 기술되어 있는데, 이들의 전문은 본 발명의 참조로서 일체화되어 있다. 상기 특허들에 따르면, 아크릴 모노머가 증기로서 진공하에 도포된다. 예를 들어, 모노머는 플래시 증발되어, 표면 상에 응축하는 진공 챔버에 주입될 수 있다. 이때 상기 모노머는 화학선 작용(일반적으로 자외선, UV) 방사 또는 전자빔(EB)원에 노출되어 교차결합된다.
관련 방법이 미국 특허 제5,260,095호에 기술되어 있고, 그 전문은 또한 본 발명의 참조로 일체화되었다. 본 특허에 따르면, 아크릴 모노머는 진공에서 압축되기 보다는 오히려 진공하에서 표면 상에 스프레드되거나 또는 코팅된다. 다시, 다음의 응용에서, 모노머는 UV 또는 EB 노출에 의해 교차 결합된다.
이들 방법 중 어느 것이든 층(102)을 기판(100)상에 도포하기 위해 사용될 수 있다. 더욱이, 이들의 응용 가능성은 모노머에 제한되지 않는다; 올리고머(oligomers) 또는 큰 폴리머 조각 또는 프리커서가 어느 한쪽의 기술에 따라서 응용될 수 있고, 그 후에 교차 결합된다. 유용한 아크릴 재료는, 특정 응용에 화학적으로 맞는 아크릴 뿐만 아니라 '446 특허의 cols. 8-10에 기술된 바와 같이, 종래의 모노머 및 올리고머(모노아크릴, 디아크릴, 메타아크릴 등)를 포함한다. 대표적인 모노아크릴은 이소데실(isodecyl) 아크릴, 라우릴(lauryl) 아크릴, 트리데실(tridecyl) 아크릴, 카프로락톤(caprolactone) 아크릴, 에톡실레이트 노닐 페닐(ethoxylated nonyl phenyl) 아크릴, 이소보닐(isobornyl) 아크릴, 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르(tripropylene glycol methyl ether) 모노아크릴, 및 네오펜틸 글리콜 메틸 프로폭실레이트 메틸에테르(neopentyl glycol propoxylate methylether) 모노아크릴을 포함하고; 유용한 디아크릴은 1,6-헥산에시올(hexaneciol) 디아크릴, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴, 폴리에틸렌 글리콜(200) 디아크릴, 테트라에틸렌 글리콜 디아크릴, 폴리에틸렌 글리콜(400) 디아크릴, 폴리에틸렌 글릴콜(600) 디아크릴, 프로폭실레이트 네오펜틸 글릴콜 디아크릴, UCB Radcure(지방성 디아크릴 모노머)이 제조하는 IRR-214 생성물, 프로폭실레이트 1,6-헥사네디올 디아크릴, 및 에폭시레이트 1,6-헥사네디올 디아크릴을 포함하고; 유용한 트리아크릴은 트리메티롤프로판 트리아크릴(TMPTA) 및 에톡실레이트 TMPTA를 포함한다.
최종적으로, 이 분야에서 공지된 기술에 따라, 아크릴-기능 또는 다른 적당한 수지 코팅이 전통적인 방식으로 기판(100) 상에 도포될 수 있고, 그 후에 경화된다. 이와 같은 방법에서, 하나 이상의 아크릴이 기판(100) 상에 직접 코팅되어 경화된다. 다른 방법에서, 하나 이상의 아크릴이 용제(또는 용제들)와 결합되어 기판(100) 상에 주조되고, 다음에 이 용제가 증발되어 피착된 아크릴이 경화된다. 적은 코팅 무게에서 매우 일정한 응용을 자극하는 휘발성 용제가 바람직하다. 아크릴 코팅은 또한 아크릴로 용해가능하거나 분산가능한 비아크릴 기능적 화합물을 포함할 수 있다.
아크릴에 대한 대안으로 열경화성 수지(thermoset), 이소시안산염-계(isocyanate-based), 아지리딘(aziridines), 및 에폭시를 포함한다. 열경화성 수지 반응은 예를 들어, 1차 코팅 수지의 하이드록실 사이트를 갖는 아미노플레이트 수지를 포함할 수 있다. 이들 반응은 산(acid) 환경을 만들고 열을 가함으로써 크게 가속된다.
이소시안산염-계 폴리머는 폴리우레탄(polyurethanes)을 포함한다. 전형적인 한 방법은 하나 이상의 "백본(backbone)" 수지 상에 하이드록실 사이트를 갖는 두 부분을 포함한다(종종 "폴리올(polyol)" 성분이라 함). 전형적인 폴리올은 폴리에테르, 폴리에스테르, 및 두 개이상의 하이드록실-기능 사이트를 갖는 아크릴을 포함한다. 중요한 변경 수지는 하이드록실-기능 비닐 수지 및 셀룰로스-에스테르 수지를 포함한다. 이소시안산염 성분은 두개 이상의 이소시안산염족을 가질 것이고 이는 모노메릭 또는 올리고메릭 중 하나이다. 반응은 통상적으로 주위 온도에서 진행되지만, 열과 주석 화합물 및 제3차 아민을 포함하는 선택된 촉진제를 사용하여 가속될 수 있다. 정상적인 기술은 이소시안산염-기능 화합물을 사용하기 바로 전에 폴리올 화합물과 혼합시키는 것이다. 반응은 시작되지만, 주위 온도에서 코팅이 도포되는 동안 "포트 라이프(pot life)"을 허용하기에 충분히 느리다.
다른 방법에서, 이소시안산염은 이소시안산염 화합물이 불활성, 준안정 화합물을 생성하기 위해서 페놀 또는 케톡심(ketoxime)과 같은 다른 화합물과 반응되는 "폐쇄된" 형태로 사용된다. 이 화합물은 고온 온도에서의 분해가 그 후에 코팅을 경화시키도록 반응하는 활성화 이소시안산염 화합물을 유리시키도록 설계되고, 반응은 코팅 형성에서 적절한 촉진제의 결합에 의해 가속된다.
아지리딘은 카르복실-기능 수지 상에 수인성(waterborne) 코팅을 교차 결합하는데 자주 사용된다. 카르복실 그룹은 수지와 일체되어 가용성 아민을 갖는 소금을 형성하는 사이트, 용액 내에서 수지의 가용 및 분산에 대한 반응 정수를 제공한다. 반응은 용액과 가용성 아민이 코팅의 피착하에서 증발된 후 주위 온도에서 시작한다. 아지리딘은 사용시 코팅에 더해지고 불활성 생성물을 생성하도록 용액 내에서 가수 분해의 비율에 의해 조절되는 포트 라이프를 갖는다.
에폭시 반응은, 예를 들어, 보론 3가 플루오르화물 복합체, 특히 시클로지방족(cycloaliphatic) 에폭시-기능 족에 기초를 둔 수지를 사용하여 고온 온도에서 경화될 수 있다. 다른 반응은 UV 노출-발생 카티온 촉진제에 기초를 둔다.
진공 코팅된 박막으로서 일반적으로 도포된 층(104)은 금속이나 금속의 혼합물일 수 있다. 알루미늄과 같은 다른 금속이 유리하게 사용될 수 있다고 해도, 순수 형태의 티타늄이나 또는 합금 또는 중간 금속으로서의 티타늄 중 어느 쪽이나 바람직하다. 티타늄은 특히 실리콘층(106)을 사용하는 건판 구조에서 바람직하다. 특히, 실리콘이 부가 경화에 의해 교차 결합되는 경우에, 하부의 티타늄층은 다른 금속에 대해서 실질적으로 유리하다. 티타늄층에 대해서 추가 경화된 실리콘을 코팅하는 것은 경화중에 촉진 작용을 향상시켜, 실질적으로 완전하게 교차 결합을 진행시키고; 또한 교차 결합이 종료된 후에도 결합 반응을 더 진행시킬 수 있다. 이러한 현상은 티타늄층에 대한 실리콘과 그 결합을 강화시켜, 판 수명을 높이고(보다 완전히 경화된 실리콘이 뛰어난 내구성을 나타내기 때문임), 또한 실리콘 층(하부층을 열화시킬 수 있음)을 통해 잉크를 갖는 용제의 이동에 대한 저항을 제공한다. 촉진 향상은 고속 코팅(또는 잉크 수용 지지체에 대해 열적 손상을 방지하기 위해 저온 온도에서 진행할 필요)에 대한 요구가 코팅 장치 상의 완전 경화를 실행 불가능하게 할 때 특히 유용하고; 티타늄의 출현은 온도 감소에도 불구하고 지속적인 교차 결합을 촉진할 것이다.
층(106)에 유용한 재료 및 코팅 기술이 '737 및 '512 특허에 개시되어 있다. 기본적으로, 적절한 실리콘 재료가 권선 로드(wire-wound rod)를 사용하여 도포된 후, 건조되고 열 경화되어 예를 들어, 2g/m2에서 피착된 균일한 코팅을 생성한다.
도 2를 참조하면, 상술한 바와 같이, 기판(100), 이미징층(104) 및 표면층(106) 또한 절연층(108)을 포함하는 제2 인쇄 부재 실시예를 나타낸다. 본 실시예의 일면에서, 층(108)은 폴리실레인이다. 상기 주지된 바와 같이, 이런 형의 재료는 친유성(oleophilicity)을 나타낼 것같은 파편을 생성할 뿐만 아니라 층(104)에 아주 잘 부착된다. 폴리실레인은 플라즈마 중합 반응(polymerization)에 의해서 층(104)에 도포되고, 이에 의해 폴리머 프리커서가 진공 상태에서 플라즈마에 삽입된다. 후자 방법은 실록산(siloxane) 함량을 포함하는 고도로 교차 결합된 분기된 구조를 자주 생성한다(결과적인 부산물은 임의의 폴리실레인 폴리실록산 코폴리머로서 최적으로 기술되어 있음). 폴리실록산 함유량이 충분히 낮는 한, 결과 층은 잉크를 수용할 수 있다.
플라즈마-중합된 폴리실레인은 실레인 프리커서를 아르곤 반응 가스에서 생성된 플라즈마로 유입하므로써 얻어진다. 적절한 실레인 프리커서는, 예를 들어 트리메틸실레인, 테트라메틸실레인 및 트리메틸디실레인을 포함한다. 사용된 조건에 따라서, 결과 폴리머는 넓게 교차 연결되고 비교적 산소와 유리될 것이다(상부 및 하부 계면 제외). 피착은 일반적으로 느리게 발생하고, 매우 얇은(Å/mn) 막의 응용을 용이하게 한다. 플라즈마 중합 작용 압력은 전형적으로 0.1 - 0.01 torr 범위이다.
폴리실레인은 또한 코팅으로서 도포될 수 있고, 용제로부터 주조될 수 있다. 적절한 용제에 의한 폴리실레인은 PA, Bristol, Huls America이 제조한 PS101(폴리(시클로헥실메틸)실레인), PS101.5(폴리디헥실실레인), PS106(폴리(페닐메틸실레인)), PS109(시클로헥실메틸실레인 디메틸실레인 코폴리머), 및 PS110(디메틸실레인 페닐메틸실레인 코폴리머) 생성물을 포함한다. 다른 적절한 폴리실레인 및 이들의 합성은 미국 특허 제4,992,520호, 제5,039,593호, 제4,987,202호, 제4,588,801호 및 제4,587,205호, 및 Zeigler 등에서, "Self-developing polysilane deep-UV resists -- photochemistry, photophysics, and submicron lithography",SPIE Advances in Resist Technology and Processing II539:166-174(1985)에 기술되어 있다. 일반적으로, 적절히 도포된 폴리실레인은 100 daltons을 초과하는 분자무게를 갖는다.
어떤 응용에서는, 상부층과의 접착을 향상시키기 위해서 기능적 그룹을 폴리실레인으로 통합하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 층(108)에서의 비닐 기능 그룹은 그 위에 인가되어 경화된 부가 경화 실리콘층(106)에서 상호 보완적인 그룹과 결합될 것이다. 그러므로, 잉크 반발 작용을 피하기 위해서 충분히 낮은 레벨(예를 들어, 2% 이하)로 폴리실록산을 대신해서 폴리실레이/폴리실록산 코폴리머가 사용될 수 있다.
본 실시예의 다른 면에서, 층(108)은 그 저항이 다음의 이미징을 제거할 수 있게 도와주는 기능 그룹을 가지지 않는 파편을 생성하도록 선택된다; 즉, 이미징 펄스의 인가로 층(104)이 이미지 영역 내에서 용발할 것이지만, 층(108)(이하 기술될) 및 층(106)에는 단지 미세한 손상만이 일어날 것이다. 그러나, 이들 층들은 기판(100)으로부터의 비정박지(deanchorage)로 인해 제거되게 된다. 이 제거는 세정액으로 출현으로 기계적 작용에 의해 이루어질 수 있고, 이 액체와 층(108) 폴리머의 기능 그룹 간의 화학적 보상이 이미지 영역으로부터의 제거를 돕는다; 적당한 층간 접착을 나타내기 위해서 재료가 선택되는 한, 이 보상은 세정 중에 이미지가 아닌 영역에 손상을 주지 않을 것이다.
세정액이 본래 수성이라면, 층(108)은 폴리비닐 알콜일 것이다. 이들 재료는 실리콘 층(106) 및 티타늄계 층(104)에 뛰어난 접착력을 나타낸다. 더욱이, 물로부터 주조된 폴리비닐 알콜층은 대부분이 압력 용제에 의해 영향받지 않아, 사용시 우수한 판 내구성을 갖는다. 적절한 폴리비닐 알콜 재료는 AIRVOL 폴리머 생성물(즉, AIRVOL 125 또는 AIRVOL 165로 Air Products, Allentown, PA이 제조하는 고도로 가수분해된 폴리비닐 알콜)을 포함한다. 폴리비닐 알콜은 이를 크게 초과한 물(즉, 98:2의 비, W/W)과 결합시키고, 권선 로드를 갖는 혼합물을 도포함으로써 기판(100) 상에 코팅될 수 있고, 다음으로 이 코팅이 실험실 대류 오븐에서 300。F로 1분동안 건조된다. 이 적용 무게 0.2 - 0.5 g/m2이 일반적이다.
폴리비닐 알콜에 대한 대안은 히드록시셀룰로스 즉, Aqualon Co., Houstin , Tx에 의해 상품화된 NATROSIL 비 이온 수용성 폴리머이다. 이 재료는 히드록시에틸 에스테르 셀룰로스이다. NATROSOL 250JR 생성물의 2% 수용액이 티타늄 코팅된 폴리에스테르 기판에 0.2g/m2으로 도포되었고, 실험실 대류 오븐에서 300。F로 1분동안 건조되었다. 수성 세척가능한 건조 판을 생성하기 위해서 0.2g/m2의 실리콘이 코팅된다.
다른 방법에서, 층(108)은 수성 세정액과 호환가능(그리고 제거가능한)하도록 친수성 기능 그룹을 일체하는 아크릴 재료이다. 아크릴 모노머 또는 올리고머에 또는 이들 내에 결합될 수 있는 친수성 그룹은 펜던트 인산 및 에틸렌 산화물 대용을 포함한다. 바람직한 재료는 β-카르복시에틸 아크릴; 상술한 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴; EB-170 생성물, GA, Atlanta, UCB Radcure, Inc.이 제조하는 인산 기능 아크릴; 및 Henkel이 제조하는 PHOTOMER 4152(펜던트 히드록시), 4155 및 4158(고 에폭시 함량), 및 6173(펜던트 카르복시) 생성물을 포함한다.
선택적으로, 친수성 화합물은 코팅 혼합물에서 비반응 화합물로서 포함될 수 있고, 결과로서 경화된 매트릭스 내에 포획되어(entrained), 코팅에 수성 습윤도(wettability)를 주는 친수성 사이트를 나타낸다. 특히, (진공 피착에 대향하여) 코팅에 도포될 때, 아크릴 혼합물에 추가될 수 있는 비 아크릴, 친수성 유기 재료의 범위는 분자 무게가 크게 고려되지 않기 때문에, 상당하다. 본래, 필요한 것 모든 것은 아크릴계 코팅내의 가용성 또는 혼화성(miscibility)이다. 높은 아크릴산 함량을 갖는 아크릴 코폴리머(폴리아크릴 산 폴리머를 포함함)가 또한 가능하다. 비 진공 응용은 또한 고체 충진 재료, 특히 무기물의 사용을 용이하게 하여 수성계 세정액과의 상호 작용을 촉진한다. 이러한 충진제는 친수성일 수 있고 또는 예를 들어 전도성 카본 블랙이 얻어지는 다공성(조직)을 도입할 수 있다(즉, Special Blacks Division of Cabot Corp., Waltham, MA이 제조하는 Vulcan XC-72 pigment).
T-수지 및 사다리 폴리머는 제2 실시예에서 층(108) 또는 제1 실시예에서 층(102) 중 어느 하나의 역할을 재료의 여전히 다른 종류를 나타낸다. 이들 재료는 특히 페닐-치환될 때, 용제로부터 코팅될 수 있고, 매우 고온 저항을 나타낼 수 있다. T-수지는 실험식 RSiO1,5와 고도로 교차 결합된 재료이다. 사다리 폴리머는
구조를 나타낼 수 있다.
이런 형태의 재료 모두는 잉크를 수용하고, (예를 들어, R이 -OH인 실라놀 치환을 이용함으로써) 친수성이 될 수 있거나 또는 (예를 들어, R이 -CH=CH2인 비닐 치환을 이용함으로써) 상부층과 반응할 수 있다. 더욱이, 이들 재료는 저분자 무게 실록산보다 오히려 SiO2-x로 열화되는 경향이 있다.
적당한 재료는, 예를 들어, 폴리에틸실세스퀴옥산(polymethylsilsesquioxane), 폴리페닐-프로필실세스퀴옥산(polyphenyl-prophylsilsesquioxane)(히드록실-치환가능함) 및 폴리페닐-비닐실세스퀴옥산을 포함한다.
도 2에 따른면 판을 이미징 하는 효과가 도 3a에 도시되어 있다. 이미징 펄스는 노출 영역에서 층(104)을 용발시키고, 상부층(106, 108)이 클리닝에 의해 제거되게 하는 층들(100, 108)간에 비정박지 보이드(deanchorage void)(112)를 남긴다. 이 공정은 도 3b에 도시되어 있고, 층(108)의 친수성에 의해 향상된다. 수성 세정액의 응용으로, 층(106, 108)의 고정되지 않은 영역은 여러개의 조각(115)으로 분해되고, 이 조각들은 세정액으로 유인되어 제거되고, 이미징 펄스가 부딪혀 노출된 층(100)이 남는다.
친수성 층(108)을 갖는 인쇄 부재를 사용하는 전형적인 수성 세정액은 수도물(11.4L), CA, Huntington Beach, Sunshine Makers, Inc.이 제조하는 Simple Green 농축 세제(150 ml), 및 NJ, Oakland, Varn Product Company가 제조하는 Super Defoamer 225 생성물의 일 캡풀(capful)을 화합시켜 준비된다. 이 재료는 미국 특허 제5,148,746호에 기술된 바와 같이 이미징 후 표면(106)과 접촉하는 회전 브러시에 적용될 것이고, 이 특허의 전문은 본 발명에 참조로 일체화되어 있다.
최종적으로, 도 4는 상술된 바와 같이, 기판(100), 이미징층(104) 및 표면층(106) 및 층(106)에 대해 효과적인 열적 보호를 제공하기 보다는 오히려 친수성 파편을 발생시키는 것이 주 역할인 유기층(110)을 갖는 판 실시예를 도시한다. 층(110)은 열적으로 안정할 수 있고, 이미징 공정을 통해서 지속되고 층(108)의 방식으로 층(106)에 접착될 수 있다(도 3 참조). 여기서, 층(110)은 수성 세정액과 호환가능한 친수성 표면을 제공하여 이미지 판 영역 위로 층(106)의 제거를 돕는다. 층(110)은, 예를 들어, 이미징 방사에 투과할 수 있고; 빔과 상호 작용하지 않음으로써, 투과층(110)은 전체 빔 에너지가 층(104)에 도달하게 하면서 자체 구조적 보전을 유지한다.
바람직한 버젼에서, 층(110)은 50-1000Å 범위, 및 이상적으로 300Å의 두께로 도포된 실리콘 산화물(SiO2)이다. 층(110)은, 작용가스(전형적으로 아르곤)에 산소를 첨가하면서, 실리콘의 반응적인 스퍼터링에 의해서 생성될 수 있다. 실라놀 기능을 피착된 SiO2재료에 도입하기 위해서 반응 가스에 수분이 또한 첨가될 수 있고, 그에 의해 친수성이 향상된다. 다를 산화물이 또한 이롭게 사용될 수 있다. 그러나, 층(110)이 이미징 방사로 투과하지 않는 정도까지, 결과적인 에너지 낭비를 조정하기 위해서 층(104)의 두께를 감소시킬 필요가 있을 것이다.
이러한 판 구조는 흡수되지 않은 이미징 방사가 층(104)로 되돌아 오는 반사로 이익을 얻을 수 있다. 예를 들어, IR-반사 기판(100)으로 사용하기에 적합한 재료는 DE, Wilmington, ICI Films이 제조하는 화이트 329 막이고, 이 막은 백색 색소로서 IR-반사 황산 바륨을 사용한다.
그러므로 전술한 기술 및 구조는 뛰어난 인쇄 및 성능 특성을 갖는 리소그래픽 인쇄 판이라는 것을 알 수 있을 것이다. 여기에 사용된 용어 및 표현은 설명을 위한 용어로서 사용되었고, 한정하는 것은 아니며, 도시되고 기술된 특성의 임의의 동등물 또는 그 일부를 배제하고 이러한 용어 및 표현을 사용하는데 있어서, 어떠한 의도도 없지만, 다양한 변경이 청구된 발명의 범주 내에서 가능하다는 것을 알 수 있다.

Claims (47)

  1. 리소그래픽 인쇄 부재를 이미징(imaging)하는 방법에 있어서,
    a. 인쇄면을 가지고, 제1 고체층(solid layer), 상기 제1 고체층 밑에 있는 제2 고체층, 및 상기 제2 고체층 밑에 있는 열저항층(heat-resistant layer)을 포함하는 인쇄 부재를 제공하는 단계 - 상기 제1 층 및 상기 열저항층은 잉크에 대한 상이한 친화력을 가지고, 제1 층과는 달리 제2 층은 이미징 방사에 의해 용발 흡수(ablative absorption)될 재료로 형성됨 -,
    b. 상기 열 저항층이 물리적으로 변형되지 않고 상기 제2층을 용발시켜 상부층으로부터 파편(debris)이 포획되지 않도록 이미지를 나타내는 패턴으로 이미징 방사에 상기 인쇄면을 선택적으로 노출하는 단계, 및
    c. 상기 인쇄 부재가 방사를 수신하면, 상기 제1 및 제2 층의 나머지를 제거하는 단계
    를 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 열저항층이 고도로 교차 결합된 폴리머(polymer)인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 제2 층이 금속인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 금속이 티타늄을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 인쇄 부재가 상기 열저항층의 바로 밑에 기판을 더 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  6. 제2항에 있어서, 상기 열저항층이 폴리아크릴(polyacrylate)인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 폴리아크릴은 다기능의 아크릴인 리소그래픽 인쇄 부재를 이미징하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 폴리아크릴은 증착에 의해 도포된 후 경화된 단기능 및 다기능 아크릴의 화합물인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 열저항층은 T-수지인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 열저항층은 사다리형 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  11. 리소그래픽 인쇄 부재에 있어서,
    a. 제1 고체층,
    b. 상기 제1 고체층 밑에 있는 제2 고체층, 및
    c. 상기 제2 고체층 밑에 있는 열저항층
    을 포함하되,
    d. 상기 제1 층 및 상기 열저항층은 잉크에 대한 상이한 친화력을 가지고,
    e. 상기 제1 층과는 달리 상기 제2 층은 이미징 방사에 의해 용발 흡수되는 물질로 형성되고,
    f. 상기 열저항층은 이미징 방사에 따라 물리적으로 변형되지 않는 리소그래픽 인쇄 부재.
  12. 제11항에 있어서, 상기 열저항층이 고도로 교차 결합된 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재.
  13. 제11항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 제2 층이 금속인 리소그래픽 인쇄 부재.
  14. 제13항에 있어서, 상기 금속이 티타늄을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  15. 제11항에 있어서, 상기 열저항층이 폴리아크릴인 리소그래픽 인쇄 부재.
  16. 제15항에 있어서, 상기 폴리아크릴이 다기능의 아크릴인 리소그래픽 인쇄 부재.
  17. 제11항에 있어서, 상기 열저항층이 T-수지인 리소그래픽 인쇄 부재.
  18. 제11항에 있어서, 상기 열저항층이 사다리형 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재.
  19. 리소그래픽 인쇄 부재를 이미징하는 방법에 있어서,
    a. 인쇄면을 가지고, 제1 고체층, 상기 제1 층 밑에 있는 절연층, 이미징층, 및 상기 이미징층 밑에 있는 기판을 포함하는 인쇄 부재를 제공하는 단계 - 상기 제1 층 및 상기 기판은 잉크에 대해 상이한 친화력을 가지고, 상기 제1 층과는 달리 상기 이미지층은 이미징 방사에 의해 용발 흡수되는 물질로 형성됨 -,
    b. 상기 이미징층을 용발하기 위해 이미지를 나타내는 패턴으로 이미징 방사에 상기 인쇄면을 선택적으로 노출하는 단계 - 상기 절연층이 이미징 방사에 따라 상기 제1 층의 상당한 열적 열화를 방지하고, 상기 절연층의 열적 열화는 상기 기판의 친화력과 유사한 적어도 하나의 인쇄 액체에 대한 친화력을 갖는 파편을 만듦 -, 및
    c. 상기 인쇄 부재가 방사를 수신하면, 상기 제1 층, 상기 절연층, 및 상기 이미징층의 나머지 부분을 제거하는 단계
    를 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 절연층이 폴리실레인인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  21. 제19항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 절연층이 아크릴인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  22. 제19항에 있어서, 상기 절연층이 친수성(hydropholic)이고, 상기 제거 단계가 수성 유체를 상기 인쇄 부재에 도포하는 것을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  23. 제22항에 있어서, 상기 절연층이 하이드록시에틸셀룰로스(hydroxyethylcellulose) 및 폴리비닐 알콜 화학종로 구성된 그룹으로부터 선택되는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  24. 제19항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 이미징층이 금속인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  25. 제24항에 있어서, 상기 금속이 티타늄을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  26. 제19항에 있어서, 상기 절연층이 T-수지인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  27. 제19항에 있어서, 상기 절연층이 사다리형 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  28. 리소그래픽 인쇄 부재에 있어서,
    a. 제1 고체층,
    b. 상기 제1 층 밑에 있는 절연 고체층,
    c. 상기 제1 층 밑에 있는 이미징 고체층, 및
    d. 상기 이미지층 밑에 있는 기판
    을 포함하되,
    e. 상기 제1 층 및 상기 기판이 잉크와 잉크에 대한 접착성 유체로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 인쇄액에 대해 상이한 친화력을 가지고,
    f. 상기 제1 층과는 달리 상기 이미징층이 이미징 방사에 의해 용발 흡수되는 물질로 형성되고,
    g. 상기 절연층이 이미징 방사에 따라 상기 제1 층의 상당한 열적 열화를 방지하고, 상기 절연층의 열적 열화는 상기 기판의 친화력과 유사한 상기 적어도 하나의 인쇄액에 대한 친화력을 갖는 파편을 생성하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  29. 제28항에 있어서, 상기 절연층이 폴리실레인인 리소그래픽 인쇄 부재.
  30. 제28항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 절연층이 아크릴인 리소그래픽 인쇄 부재.
  31. 제28항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 절연층이 수용성인 리소그래픽 인쇄 부재.
  32. 제28항에 있어서, 상기 절연층 친수성인 리소그래픽 인쇄 부재.
  33. 제32항에 있어서, 상기 절연층이 하이드록시에틸셀룰로스(hydroxyethylcellulose) 및 폴리비닐 알콜 화학종로 구성된 그룹으로부터 선택되는 리소그래픽 인쇄 부재.
  34. 제28항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 상기 이미징층이 금속인 리소그래픽 인쇄 부재.
  35. 제34항에 있어서, 상기 금속이 티탄늄을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  36. 제28항에 있어서, 상기 절연층이 T-수지인 리소그래픽 인쇄 부재.
  37. 제28항에 있어서, 상기 절연층이 사다리형 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재.
  38. 리소그래픽 인쇄 부재를 이미징하는 방법에 있어서,
    a. 인쇄면을 가지고, 제1 고체층, 상기 제1 층 밑에 있는 중간층, 금속 이미징층, 및 상기 이미징층 밑에 있는 기판을 포함하는 인쇄 부재를 제공하는 단계 - 상기 제1 층 및 상기 기판은 잉크와 잉크에 대한 접착성 유체로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 인쇄액에 대해 상이한 친화력을 가지고, 상기 제1 층과는 달리 상기 이미지층은 이미징 방사에 의해 용발 흡수되는 물질로 형성됨 -,
    b. 상기 이미징층을 용발시키기 위해 이미지를 나타내는 패턴으로 이미징 방사에 상기 인쇄면을 선택적으로 노출하는 단계 - 상기 중간층의 열적 열화는 상기 제1 층을 분해하지 않는 세정액에 대한 친화력을 갖는 파편을 만듦 -, 및
    c. 상기 인쇄 부재가 방사를 수신하면, 상기 제1 층, 상기 중간층, 및 상기 이미징층의 나머지 부분을 제거하는 단계
    를 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  39. 제38항에 있어서, 상기 중간층이 실리콘 2산화물 물질인 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  40. 제38항에 있어서, 상기 중간층이 이미징 방사를 투과하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  41. 제38항에 있어서, 상기 중간층이 이미징 방사에 따라 열화하지 않는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  42. 제38항에 있어서, 상기 기판이 흡수되지 않은 이미징 방사를 반사하는 리소그래픽 인쇄 부재의 이미징 방법.
  43. 리소그래픽 인쇄 부재에 있어서,
    a. 제1 고체층,
    b. 상기 제1 층 밑에 있는 중간 고체층,
    c. 상기 제1 층 밑에 있는 이미징 고체층, 및
    d. 상기 이미지층 밑에 있는 기판
    을 포함하되,
    e. 상기 제1 층 및 상기 기판이 잉크와 잉크에 대한 접착성 유체로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 인쇄액에 대해 상이한 친화력을 가지고,
    f. 상기 제1 층과는 달리 상기 이미징층이 이미징 방사에 의해 용발 흡수되는 물질로 형성되고,
    g. 상기 중간층의 열적 열화는 상기 제1 층을 분해하지 않는 세정액에 대한 친화력을 갖는 파편을 생성하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  44. 제43항에 있어서, 상기 중간층이 실리콘 2산화물 물질인 리소그래픽 인쇄 부재.
  45. 제43항에 있어서, 상기 중간층이 이미징 방사를 투과하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  46. 제43항에 있어서, 상기 중간층이 이미징 방사에 따라 열화하지 않는 리소그래픽 인쇄 부재.
  47. 제43항에 있어서, 상기 기판이 이미징 방사를 반사하는 리소그래픽 인쇄 부재.
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