KR20000052182A - Fan assembly - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 예컨대, 반도체소자 제조용 설비에 장착되는 팬 어셈블리(Fan assembly)에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 회전날개의 표면을 엠보싱처리하여, 회전날개 주변의 공기를 와류시킴으로써, 회전날개 주변에 부유하는 파티클이 회전날개에 흡착되는 현상을 미리 방지할 수 있도록 하는 팬 어셈블리에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, a fan assembly to be mounted in a device for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, by embossing the surface of a rotor blade, by vortexing air around the rotor blade, floating around the rotor blade. The present invention relates to a fan assembly that can prevent particles from adsorbing on a rotor blade in advance.
일반적으로 반도체소자를 제조하는데에는 고도의 정밀성이 요구되며, 이에 따라, 통상의 반도체 생산라인에서는 정밀가공이 가능한 고기능의 설비들을 배치하여 대부분의 반도체소자 제조공정을 수행하고 있다.In general, a high degree of precision is required to manufacture a semiconductor device, and accordingly, most semiconductor device manufacturing processes are performed by arranging high-performance facilities capable of precision processing in a conventional semiconductor production line.
이와함께, 작업자는 각 설비들의 동작상황을 소정의 반도체 제조설비 관리시스템을 통해 면밀히 관찰함으로써, 라인 작업효율의 향상을 꾀하고 있다.At the same time, the operator closely monitors the operation status of each facility through a predetermined semiconductor manufacturing facility management system, thereby improving the line work efficiency.
통상, 상술한 반도체 제조설비는 고온, 고열의 조건에서 반도체소자 제조공정을 진행시키기 때문에, 이 반도체 제조설비의 일정 부위에는 공정 중에 발생되는 열을 외부로 방출하기 위한 팬 어셈블리가 배치되는 것이 일반적이다. 이 팬 어셈블리는 공정중에 발생되는 설비 내부의 열을 외부로 방출하는 역할을 수행함으로써, 설비 내부의 공정 조건이 항상 최적의 상태를 유지할 수 있도록 한다.In general, the above-described semiconductor manufacturing equipment performs a semiconductor device manufacturing process under high temperature and high heat conditions, and therefore, a fan assembly for dissipating heat generated during the process to the outside is generally disposed at a predetermined portion of the semiconductor manufacturing equipment. . The fan assembly discharges heat inside the equipment generated during the process to the outside, so that the process conditions inside the equipment are always maintained at an optimum state.
이러한 종래, 팬 어셈블리의 구조, 형상 등은 예컨대, 미국특허공보 제 4257554 호 "팬 어셈블리(Fan assembly)", 미국특허공보 제 4252181 호 "열 재생 팬(Heat recovering fan)", 미국특허공보 제 5076070 호 "냉각장치용 팬 디바이스(Fan device for refrigerator)", 미국특허공보 제 5092396 호 "에어 컨디셔닝 시스템(Air conditioning system)", 미국특허공보 제 5113844 호 "열 교환기(Heat exchanger)", 미국특허공보 제 5211219 호 "에어 컨디셔너(Air conditioner)" 등에 좀더 상세하게 제시되어 있다.Such a conventional structure, shape, and the like of a fan assembly are described in, for example, US Patent No. 4257554 "Fan Assembly", US Patent No. 4252181 "Heat recovering fan", US Patent No. 5076070 "Fan device for refrigerator", US Patent No. 5092396 "Air conditioning system", US Patent No. 5113844 "Heat exchanger", US Patent Publication 5211219, "Air conditioner" and the like in more detail.
그러나, 이러한 종래의 팬 어셈블리를 운용하는데에는 몇 가지 중대한 문제점이 있다.However, there are some significant problems in operating such a conventional fan assembly.
통상, 상술한 종래의 팬 어셈블리는 회전날개들을 고속으로 회전시켜, 예컨대, 설비 내부의 뜨거운 에어를 설비 외부로 방출시키는 작용을 수행하게 되는데, 이때, 팬 어셈블리의 회전날개들이 고속으로 회전하고 있음에도 불구하고, 이 회전날개들의 표면에는 다량의 파티클이 흡착되게 된다. 이와 같이, 회전날개들의 표면에 다량의 파티클이 흡착되는 이유를 설명하면 다음과 같다.In general, the above-described conventional fan assembly rotates the rotor blades at a high speed, for example, to discharge hot air from the inside of the facility to the outside of the facility. In this case, even though the rotor blades of the fan assembly are rotating at a high speed Then, a large amount of particles are adsorbed on the surface of the rotor blades. As described above, the reason why a large amount of particles are adsorbed on the surfaces of the rotor blades is as follows.
통상, 움직이는 물체의 주변공기는 그 움직임이 매우 적은 것이 일반적이며, 특히, 팬 어셈블리의 회전날개들과 같이 고속으로 회전하는 회전체의 주변공기는 그 흐름이 거의 정지된 상태를 유지하게 된다. 이 경우, 회전체의 주변에 부유하고 있던 파티클은 공기흐름의 정지상태를 조건으로 하여, 회전체의 표면으로 빠르게 낙하함으로써, 회전체의 전 표면을 오염시키게 된다.In general, the ambient air of the moving object is very little movement, in particular, the ambient air of the rotating body that rotates at high speed, such as the rotor blades of the fan assembly will maintain the flow almost stopped. In this case, the particles floating around the rotating body rapidly fall to the surface of the rotating body under the condition of the static air flow, thereby contaminating the entire surface of the rotating body.
요컨대, 회전중인 회전날개들의 표면에 다량의 파티클이 흡착되는 이유는 회전날개들 주변의 공기흐름과 깊은 관계가 있으며, 회전날개들의 회전속도가 빠르면 빠를수록, 회전날개 주변의 공기흐름은 보다 완벽한 정지상태를 유지하게 되고, 이 경우, 회전날개들의 표면에는 보다 많은 량의 파티클이 흡착되는 것이다.In short, the reason why a large amount of particles are adsorbed on the surface of rotating rotors is deeply related to the air flow around the rotor blades.The faster the rotor blades rotate, the faster the airflow around the rotor blades is. In this case, more particles are adsorbed on the surfaces of the rotor blades.
상술한 과정을 통해, 회전날개들의 표면에 다량의 파티클이 흡착되는 경우, 이 회전날개들을 채용한 설비의 전체적인 청정도가 심각하게 파괴되는 문제점이 야기된다.Through the above-described process, when a large amount of particles are adsorbed on the surfaces of the rotor blades, a problem arises in that the overall cleanliness of the equipment employing the rotor blades is seriously destroyed.
이러한 문제점을 방지하기 위하여, 생산라인에서는 팬 어셈블리의 회전날개들을 주기적으로 크리닝하게 되는데, 이 경우, 불필요한 크리닝공정이 추가되는 결과가 초래됨으로써, 전체적인 공정효율이 현저히 저하되는 다른 문제점이 야기된다.In order to prevent this problem, in the production line is periodically cleaning the rotary blades of the fan assembly, in this case, the result of the unnecessary cleaning process is added, thereby causing another problem that the overall process efficiency is significantly reduced.
따라서, 본 발명의 목적은 회전날개 주변의 공기흐름을 원활하게 유도함으로써, 파티클에 의한 회전날개의 오염을 미리 방지하는데 있다.Therefore, it is an object of the present invention to smoothly guide the air flow around the rotor blades, thereby preventing contamination of the rotor blades by particles in advance.
본 발명의 다른 목적은 회전날개의 오염을 미리 방지함으로써, 불필요한 크리닝공정의 추가를 억제하는데 있다.Another object of the present invention is to prevent the addition of unnecessary cleaning process by preventing contamination of the rotor blade in advance.
본 발명의 또 다른 목적은 불필요한 크리닝공정의 추가를 억제시킴으로써, 생산라인의 전체적인 공정효율을 대폭 향상시키는데 있다.Another object of the present invention is to significantly increase the overall process efficiency of the production line by suppressing the addition of unnecessary cleaning process.
본 발명의 또 다른 목적들은 다음의 상세한 설명과 첨부된 도면으로부터 보다 명확해질 것이다.Still other objects of the present invention will become more apparent from the following detailed description and the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 팬 어셈블리를 도시한 예시도.1 is an exemplary view showing a fan assembly according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 팬 어셈블리의 작용을 도시한 예시도.Figure 2 is an illustration showing the action of the fan assembly according to the present invention.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는 소정의 엠보싱처리공정을 진행하여, 회전날개의 일면, 예컨대, 회전날개의 표면에 다수개의 음각홈을 형성시킨다. 이 경우, 회전날개는 올록볼록한 표면을 구비한다.In order to achieve the above object, in the present invention, a predetermined embossing process is performed to form a plurality of intaglio grooves on one surface of the rotating blade, for example, the surface of the rotating blade. In this case, the rotor blade has a convex surface.
이 상태에서, 외력이 작용하여, 회전날개가 고속으로 회전할 경우, 회전날개의 주변공기는 올록볼록한 회전날개 표면의 작용에 의하여 와류현상(turbulent flow appearance)을 일으키게 되며, 이 와류현상에 의하여, 회전날개 주변의 공기는 매우 신속한 흐름상태를 유지하게 된다. 이 경우, 회전날개의 주변에 부유하고 있던 파티클은 상술한 와류에 휩쓸려 회전날개의 전면에서 흩어지고, 결국, 회전날개의 표면으로 낙하하지 못한다.In this state, when an external force is applied and the rotor blade rotates at a high speed, the peripheral air of the rotor blade generates a turbulent flow appearance by the action of the convex rotor blade surface. The air around the rotor blades maintains a very fast flow. In this case, particles suspended around the rotary blades are swept away by the above-mentioned vortex and scattered from the front surface of the rotary blades, and thus cannot fall to the surface of the rotary blades.
이러한 본 발명이 달성되면, 파티클에 의한 회전날개의 오염이 회전날개 주변 공기의 와류현상에 의해 미리 방지되기 때문에, 생산라인에서는 회전날개의 청정화를 위한 불필요한 크리닝 공정을 생략할 수 있으며, 그 결과, 전체적인 공정효율이 대폭 향상되는 효과를 획득할 수 있다.When the present invention is achieved, since contamination of the rotor blades by particles is prevented by the vortex of the air around the rotor blades in advance, an unnecessary cleaning process for cleaning the rotor blades can be omitted in the production line. The effect of greatly improving the overall process efficiency can be obtained.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 팬 어셈블리를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a fan assembly according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 팬 어셈블리(100)는 수납 케이스(10)와, 이 수납 케이스(10)에 수납되는 회전날개 유니트(30)의 조합으로 이루어진다. 이때, 수납 케이스(10)는 프론트 케이스(12)와 백 케이스(도시안됨)가 서로 조합된 구조를 이루며, 회전날개 유니트(30)는 다수개의 회전날개들(32)이 결합 코어(31)를 중심으로 결합된 구조를 이룬다. 도 1에서는 편의상, 전체 수납 케이스(10) 중, 백 케이스의 도시를 생략하였다.As shown in FIG. 1, the fan assembly 100 of the present invention includes a combination of a storage case 10 and a rotary blade unit 30 accommodated in the storage case 10. At this time, the storage case 10 forms a structure in which the front case 12 and the back case (not shown) are combined with each other, and the rotary blade unit 30 has a plurality of rotary blades 32 coupled to the coupling core 31. It forms a structure that is centered. In FIG. 1, illustration of the back case is abbreviate | omitted among all the storage cases 10 for convenience.
여기서, 프론트 케이스(12)의 전면은 자신의 내부에 수납된 회전날개들(32)이 외부로 노출될 수 있도록 일정 크기 만큼 오픈되며, 회전날개들(32)은 프론트 케이스(12)의 전면으로 노출된 상태로, 자신의 결합 코어(31)를 프론트 케이스(12)의 결합 코어(11)에 삽입시켜, 안정적인 수납구조를 이룬다.Here, the front of the front case 12 is opened by a certain size so that the rotary blades 32 stored therein are exposed to the outside, the rotary blades 32 to the front of the front case 12 In the exposed state, its coupling core 31 is inserted into the coupling core 11 of the front case 12, thereby achieving a stable storage structure.
이 회전날개들(32)은 전기신호라인을 통해, 구동모터(도시안됨)와 연결되며, 이러한 구동모터의 구동에 의해 매우 빠른 회전동작을 이룰 수 있다.The rotary blades 32 are connected to a drive motor (not shown) through an electric signal line, and can achieve a very fast rotational motion by driving the drive motor.
이때, 본 발명에서는 회전날개들(32)을 제작할 때, 엠보싱(Embossing) 처리공정, 예컨대, 압출성형공정을 미리 진행하여, 회전날개(32)의 일면, 예컨대, 회전날개(32)의 표면에 다수개의 음각홈들(33)을 형성시킨다. 이 음각홈들(33)을 형성시키기 위한 엠보싱 처리공정은 상술한 압출성형공정 이외에도 생산라인의 상황에 따라서, 다양한 방법들이 채택될 수 있다. 이러한 엠보싱 처리공정이 모두 완료되면, 도면에 도시된 바와 같이, 회전날개들(32)은 올록볼록한 구조의 표면을 구비하게 된다.At this time, in the present invention, when manufacturing the rotary blades 32, the embossing process, for example, the extrusion molding process in advance, on one surface of the rotary blade 32, for example, the surface of the rotary blade 32 A plurality of intaglio grooves 33 are formed. The embossing treatment process for forming the intaglio grooves 33 may employ various methods depending on the situation of the production line in addition to the extrusion molding process described above. When all of these embossing processes are completed, as shown in the drawing, the rotary blades 32 have a convex surface.
이 상태에서, 구동모터로 전기적인 에너지가 가해져, 구동모터가 구동하고, 이에 의해 회전날개들(32)이 고속으로 회전하는 경우, 도 2에 도시된 바와 같이, 회전날개들(32)의 주변공기(300)는 올록볼록한 회전날개들(32) 표면의 작용에 의하여 화살표 방향으로 말려올라가 통상의 와류현상을 일으키게 되며, 이 와류현상에 의하여, 회전날개들(32) 주변의 공기(300)는 매우 신속한 흐름상태를 유지하게 된다.In this state, when electrical energy is applied to the drive motor to drive the drive motor, whereby the rotary blades 32 rotate at high speed, as shown in FIG. 2, the periphery of the rotary blades 32 is shown. Air 300 is rolled up in the direction of the arrow by the action of the surface of the convex rotor blades 32 to cause a typical vortex phenomenon, by the vortex phenomenon, the air 300 around the rotor blades 32 It keeps the flow very fast.
이 경우, 회전날개들(32)의 주변에 부유하고 있던 파티클(200)은 상술한 와류에 휩쓸려 회전날개(32)의 전면으로 흩어지게 되고, 결국, 회전날개(32)의 표면으로 낙하하지 못하게 된다.In this case, the particles 200 floating around the rotary blades 32 are swept away by the above-described vortex and scattered to the front surface of the rotary blades 32, so that they do not fall to the surface of the rotary blades 32. do.
이러한 본 발명이 달성되면, 파티클(200)에 의한 회전날개(32)의 오염이 회전날개(32) 주변 공기(300)의 와류현상에 의해 미리 방지되기 때문에, 생산라인에서는 회전날개(32)의 청정화를 위한 불필요한 크리닝 공정을 생략할 수 있으며, 그 결과, 전체적인 공정효율이 대폭 향상되는 효과를 획득할 수 있다.When the present invention is achieved, since the contamination of the rotary blade 32 by the particle 200 is prevented in advance by the vortex phenomenon of the air 300 around the rotary blade 32, in the production line of the rotary blade 32 Unnecessary cleaning process for cleaning can be omitted, as a result, it is possible to obtain the effect that the overall process efficiency is significantly improved.
상술한 음각홈들(33)은 먼저 설명한 예와 달리, 회전날개들(32)의 이면에 형성되어도 무방하고, 다른 예로, 회전날개들(32)의 표면과 이면에 동시에 형성되어도 무방하다. 이 음각홈들(33)은 자신의 형성위치와 무관하게, 회전날개(32) 주변의 공기(300)를 물리적으로 자극하여, 이들이 상술한 와류현상을 일으키도록 유도할 수 있음으로써, 회전날개(32) 주변에 부유하는 파티클(200)이 회전날개(32)의 해당 면에 흡착되지 않도록 한다.Unlike the above-described example, the intaglio grooves 33 may be formed on the rear surfaces of the rotary blades 32. In another example, the intaglio grooves 33 may be simultaneously formed on the surface and the rear surface of the rotary blades 32. These engraved grooves 33 can physically stimulate the air 300 around the rotary blades 32, regardless of their forming position, and induce them to cause the above-mentioned vortex phenomenon, thereby providing a rotary blade ( 32) The particles 200 floating around are not adsorbed to the corresponding surface of the rotary blade (32).
이때, 도면에 도시된 바와 같이, 회전날개들(32)에 형성된 음각홈들(33)은 예컨대, 반원형태의 평면형상을 이룬다. 물론, 이 음각홈들(33)은 다른 예로, 사각형태의 평면형상을 이룰 수도 있다. 이러한 음각홈들(33)은 회전날개(32) 주변의 공기(300)를 물리적으로 자극할 정도의 깊이와 폭만 유지한다면, 상술한 예들 이외에도 다양한 형태의 평면형상을 이룰 수 있다.At this time, as shown in the figure, the intaglio grooves 33 formed in the rotary blades 32 form a semi-circular planar shape. Of course, the intaglio grooves 33 may form a planar shape in a rectangular shape as another example. The intaglio grooves 33 may have various shapes in addition to the above-described examples as long as the indentations 33 maintain only a depth and a width sufficient to physically stimulate the air 300 around the rotary blades 32.
이후, 본 발명의 팬 어셈블리(100)는 여러 가지 반도체 제조설비, 예컨대, 열교환설비, 공조설비, 냉각설비 등에 다양한 형태로 장착되어 자신에게 주어진 기능을 알맞게 수행한다.Thereafter, the fan assembly 100 of the present invention is mounted in various forms in various semiconductor manufacturing equipment, for example, heat exchange equipment, air conditioning equipment, cooling equipment, and the like to appropriately perform a function given to it.
이상의 설명에서와 같이, 본 발명에서는 회전날개의 표면을 엠보싱처리하여, 회전날개 주변의 공기를 와류시킴으로써, 회전날개 주변에 부유하는 파티클이 회전날개에 흡착되는 현상을 미리 방지할 수 있다.As described above, in the present invention, by embossing the surface of the rotor blades, by vortexing the air around the rotor blades, it is possible to prevent the phenomenon that the particles floating around the rotor blades adsorbed to the rotor blades in advance.
이러한 본 발명의 기술적인 핵심 사상은 상술한 실시예에 국한되지 않으며, 다양한 기기, 예컨대, 선풍기, 환풍기, 에어컨, 냉장고 등에서, 여러 가지 방식으로 응용되어 적용될 수 있다.The technical core idea of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and may be applied and applied in various ways in various devices such as a fan, a fan, an air conditioner, a refrigerator, and the like.
그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.And while certain embodiments of the invention have been described and illustrated, it will be apparent that the invention may be embodied in various modifications by those skilled in the art.
이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.Such modified embodiments should not be understood individually from the technical spirit or point of view of the present invention and such modified embodiments should fall within the scope of the appended claims of the present invention.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 팬 어셈블리에서는 회전날개의 일면, 예컨대, 회전날개의 표면에 다수개의 음각홈을 형성시킨다. 이 경우, 회전날개는 올록볼록한 표면을 구비한다.As described in detail above, the fan assembly according to the present invention forms a plurality of indented grooves on one surface of the rotary blade, for example, the surface of the rotary blade. In this case, the rotor blade has a convex surface.
이 상태에서, 외력이 작용하여, 회전날개가 고속으로 회전할 경우, 회전날개의 주변공기는 올록볼록한 회전날개 표면의 작용에 의하여 와류현상을 일으키게 되며, 이 와류현상에 의하여, 회전날개 주변의 공기는 매우 신속한 흐름상태를 유지하게 된다. 이 경우, 회전날개의 주변에 부유하고 있던 파티클은 상술한 와류에 휩쓸려 회전날개의 전면에서 흩어지고, 결국, 회전날개의 표면으로 낙하하지 못한다.In this state, when an external force is applied and the rotary blade rotates at a high speed, the peripheral air of the rotary blade generates a vortex by the action of the convex surface of the rotary blade, and by this vortex phenomenon, the air around the rotary blade Maintains a very fast flow. In this case, particles suspended around the rotary blades are swept away by the above-mentioned vortex and scattered from the front surface of the rotary blades, and thus cannot fall to the surface of the rotary blades.
이러한 본 발명이 달성되면, 파티클에 의한 회전날개의 오염이 회전날개 주변 공기의 와류현상에 의해 미리 방지되기 때문에, 생산라인에서는 회전날개의 청정화를 위한 불필요한 크리닝 공정을 생략할 수 있으며, 그 결과, 전체적인 공정효율이 대폭 향상되는 효과를 획득할 수 있다.When the present invention is achieved, since contamination of the rotor blades by particles is prevented by the vortex of the air around the rotor blades in advance, an unnecessary cleaning process for cleaning the rotor blades can be omitted in the production line. The effect of greatly improving the overall process efficiency can be obtained.
Claims (1)
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 19990130 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20040115 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 19990130 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20051104 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20060224 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20051104 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |