KR200158366Y1 - Chemical treatment tank - Google Patents
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Abstract
1. 청구범위에 기재된 고안이 속한 기술분야1. TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
질화막 제거 공정용 화학 처리조Chemical treatment tank for nitride film removal process
2. 고안이 해결하려고 하는 기술적 과제2. The technical problem the invention is trying to solve
화학 처리조 외부로 유출되는 용액을 효과적으로 처리할 수 있는 수단을 제공하여 유출 용액 및 그의 화학 증기에 의한 화학 처리조의 부식 및 손상을 방지하므로써, 화학 처리조의 수명을 연장할 수 있는 화학 처리조를 제공하고자 함.Provide a chemical treatment tank that can prolong the life of the chemical treatment tank by providing a means for effectively treating the solution flowing out of the chemical treatment tank to prevent corrosion and damage of the chemical treatment tank by the effluent solution and its chemical vapor. To do so.
3. 고안의 해결 방법의 요지3. Summary of solution of design
화학 용액이 내재되며, 그 상단부에 외측으로 격자부재가 일체로 연장되게 구비된 용기; 그 상단부에 용기의 격자부재 내에 밀착되게 끼워지는 직립부가 일체로 형성되며, 상기 용기의 외부를 감싸 보호하는 외벽체; 및 상기 용기 상단부과 상기 외벽체 상단부 사이에 배치되어 상기 용기로부터 유출된 화학 용액 및 그의 화학 증기가 상기 용기와 외벽체 사이로 유입되는 것을 차단하는 차단수단을 포함하여 이루어진 화학 처리조를 제공한다.A container in which a chemical solution is inherent, and a grating member is integrally extended to the outside at an upper end thereof; An outer wall body integrally formed at an upper end thereof in close contact with the lattice member of the container and surrounding and protecting the outside of the container; And a blocking means disposed between the upper end of the container and the upper end of the outer wall to block the chemical solution and the chemical vapor thereof flowing out of the container from flowing between the container and the outer wall.
4. 고안의 중요한 용도4. Important uses of the devise
반도체 제조 공정 중, 질화막 제거 공정에 사용되는 화학 처리조에 적용되어 파티클의 원인을 억제하며, 처리조의 수명을 연장하는 효과가 있다.It is applied to the chemical treatment tank used for the nitride film removal process in a semiconductor manufacturing process, suppressing the cause of a particle, and extending the life of a treatment tank.
Description
본 고안은 반도체 제조에서 질화막 제거 공정에 사용되는 화학 처리조에 관한 것으로, 특히, 간단한 구조 개선을 통해 화학용액 및 그의 화학 증기로 인한 처리조의 부식을 방지하여 수명을 연장한 화학 처리조에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical treatment tank used for the nitride film removal process in semiconductor manufacturing, and more particularly, to a chemical treatment tank which has a long life by preventing corrosion of the treatment tank due to chemical solution and its chemical vapor through a simple structural improvement.
일반적으로, 반도체 제조 공정에서 질화막 제거를 수행하기 위하여 화학 물질인 인산(H3PO4)을 약 175℃로 가열시켜 사용하게 되는데, 이때 상기 인산으로부터 화학 증기를 다량 발생시키는 특성이 있으며, 순수(DI) 스파이크에 따른 화학 반응으로 출렁임이 생기고 이에 의해 소량의 원액이 처리조 외부에 유출되게 된다. 유출 용액에 의한 부식은 장치의 내구성에 지대한 영향을 미치며, 반도체 제조 공정중에 악영향을 미치는 파티클의 원인을 제공할 수도 있고, 인체에 해로운 영향을 미칠 수 있다.In general, in the semiconductor manufacturing process, phosphoric acid (H 3 PO 4 ), which is a chemical substance, is heated to about 175 ° C. in order to perform nitride removal, and at this time, a large amount of chemical vapor is generated from the phosphoric acid, The chemical reaction caused by the DI) spikes causes a small amount of raw liquid to flow out of the treatment tank. Corrosion by the effluent solution has a significant impact on the durability of the device, may provide a source of particles that adversely affect the semiconductor manufacturing process, and may have a detrimental effect on the human body.
종래 기술의 화학 처리조의 일실시예 구성을 제1도를 참조하여 간단하게 살펴보면, 크게 화학 처리 용액을 수용하는 내부 용기(1); 상부 내부 용기를 수납하여 보호하는 내산성 실리콘 외벽체(2); 및 상기 내부 용기와 외부 용기 사이에 형성된 공간에 배치되어 내부 용기 내에 수용된 화학 용액을 가열하는 가열 수단(3)으로 구성된다. 상기 내부 용기의 상단 가장자리부에는, 도시된 바와 같이, 하방이 개방된 뒤집힌 'ㄷ'자 형상으로 굽혀진 격자 부재(1a)가 형성되며, 상기 외벽체(2)의 상단 가장자리부에는 상기 내부 용기(1)의 격자 부재(1a) 내부에 수납되는 직립부(2a)와 상기 직립부의 하단에서 외벽체(2) 바깥으로 소정 길이로 연장된 경사 돌출부(2b)가 형성된다. 따라서, 처리조를 조립시, 상기 내부 용기의 격자 부재는 상기 외벽체의 직립부(2a)를 감싸 맞물리게 되고 씰링 처리되어 상기 두 용기 사이의 공간 내에 설치된 가열 수단(3)은 외부로부터 밀폐되게 된다. 따라서, 어떤 원인으로 용기로부터 화학 용액이 유출되면, 상기 내부 용기(1)의 격자 부재(1a)의 외면을 타고 흘러내린 유출 용액은 상기 경사 돌출부의 경사면을 따라 흘러 바닥에 떨어진다.Looking at the configuration of one embodiment of the prior art chemical treatment tank with reference to Figure 1, the inner container (1) largely accommodates the chemical treatment solution; An acid resistant silicone outer wall body 2 which accommodates and protects the upper inner container; And heating means 3 arranged in a space formed between the inner container and the outer container to heat the chemical solution contained in the inner container. As shown in the drawing, the upper edge portion of the inner container is formed with a lattice member 1a bent in an inverted 'c' shape, and the inner edge of the outer wall body 2 is formed at an upper edge of the outer wall body 2. The upright part 2a accommodated in the grating member 1a of 1) and the inclined protrusion part 2b extended by the predetermined length from the lower end of the upright part to the outer wall 2 are formed. Therefore, when assembling the treatment tank, the lattice member of the inner container is enclosed by the upstanding portion 2a of the outer wall and is sealed so that the heating means 3 installed in the space between the two containers is sealed from the outside. Therefore, if the chemical solution flows out of the container for some reason, the outflow solution flowing down the outer surface of the lattice member 1a of the inner container 1 flows along the inclined surface of the inclined protrusion and falls to the bottom.
그러나, 전술된 유출 용액을 처리하기 위한 대비가 완전하지 않으므로, 유출 용액은 내부 용기와 외벽체 사이에 정열된 가열 수단과 외부와의 차단 부위인 씰런트 부위에 도달하여 상기 부위를 부식시켜 손상하며, 상기 손상 부위로 화학 증기가 가열 수단 내부로 유입되게 되며, 그 결과, 유입된 화학 증기에 의한 쇼트로 가열 수단의 고장이 빈번하게 발생하였으며, 이로 인해, 화학 처리조의 수명이 단축되어, 장치의 설치 후, 약 2개월의 주기로 교체 작업이 필요하게 되어 생산성 및 경제적 손실이 매우 큰 문제점이 있었다.However, since the preparation for treating the effluent solution described above is not complete, the effluent solution reaches the sealant portion, which is a blocking portion of the heating means and the outside arranged between the inner vessel and the outer wall, corrodes and damages the portion, Chemical vapor is introduced into the heating means into the damaged part, and as a result, the failure of the heating means occurs frequently due to the short-circuit caused by the chemical vapor introduced therein, which shortens the life of the chemical treatment tank, thereby installing the device. After that, the replacement work is required at a cycle of about 2 months, there was a very big problem in productivity and economic loss.
따라서, 전술한 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 고안은, 화학 처리조 외부로 유출되는 용액을 효과적으로 처리할 수 있는 수단을 제공하여 유출 용액 및 그의 화학 증기에 의한 화학 처리조의 부식 및 손상을 방지하므로써, 화학 처리조의 수명을 연장할 수 있는 화학 처리조를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention devised to solve the above-mentioned problems provides a means for effectively treating the solution flowing out of the chemical treatment tank, thereby preventing corrosion and damage of the chemical treatment tank by the effluent solution and its chemical vapor. Thus, it is to provide a chemical treatment tank that can extend the life of the chemical treatment tank.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은, 화학 용액이 내재되며, 그 상단부에 외측으로 격자 부재가 일체로 연장되게 구비된 용기; 그 상단부에 용기의 격자 부재 내에 밀착되게 끼워지는 직립부가 일체로 형성되며, 상기 용기의 외부를 감싸 보호하는 외벽체; 및 상기 용기 상단부과 상기 외벽체 상단부 사이에 배치되어 상기 용기로부터 유출된 화학 용액 및 그의 화학 증기가 상기 용기와 외벽체 사이로 유입되는 것을 차단하는 차단수단을 포함하여 이루어진 화학 처리조를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a container in which a chemical solution is inherent, and a lattice member is integrally extended outward at an upper end thereof; An outer wall body integrally formed at an upper end thereof in a close contact with the lattice member of the container and surrounding and protecting the outside of the container; And a blocking means disposed between the upper end of the container and the upper end of the outer wall to block the chemical solution and the chemical vapor thereof flowing out of the container from flowing between the container and the outer wall.
제1도는 종래 기술에 따른 화학 처리조의 일실시예를 나타낸 사시도.1 is a perspective view showing an embodiment of a chemical treatment tank according to the prior art.
제2도는 본 고안의 일실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 나타낸 사시도.Figure 2 is a perspective view showing a part of the chemical treatment tank according to an embodiment of the present invention with a partial cross section.
제3도는 본 고안의 다른 실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 나타낸 사시도.Figure 3 is a perspective view showing a part of the chemical treatment tank according to another embodiment of the present invention with a partial cross section.
제4도는 본 고안의 또다른 실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 나타낸 사시도.Figure 4 is a perspective view showing a portion of the chemical treatment tank according to another embodiment of the present invention with a partial cross section.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1,21 : 내부 용기 21a,21b : 격자 부재1,21: inner container 21a, 21b: lattice member
2,22 : 외벽체 22a : 직립부2,22: outer wall 22a: upright part
22b : 경사 돌출부 3,23 : 가열 수단22b: inclined protrusion 3, 23: heating means
24 : 순수 공급 라인 25 : 유수로24: pure water supply line 25: water flow path
25a : 순수 인입구25a: pure inlet
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 고안에 따른 화학 처리조의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail an embodiment of the chemical treatment tank according to the present invention.
먼저 본 고안에 따른 화학 처리조의 제1실시예를 설명한다. 제2도는 본 고안의 일실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 도시한 사시도이다. 제2도를 참조하면, 도면 부호 21은 내부 용기, 21a는 격자 부재, 22는 외벽체, 22a는 직립부, 22b는 경사 돌출부, 23은 가열 수단, 24는 순수 공급라인, 24a는 분출공을 각각 나타낸다.First, a first embodiment of a chemical treatment tank according to the present invention will be described. 2 is a perspective view showing a part of the chemical treatment tank according to an embodiment of the present invention with a partial cross section. 2, reference numeral 21 denotes an inner container, 21a a lattice member, 22 an outer wall body, 22a an upright portion, 22b an inclined protrusion, 23 a heating means, 24 a pure water supply line, and 24a a blow hole, respectively. Indicates.
도시된 바와 같이, 본 고안은 상부가 개방된 용기로 내부에 화학 용액을 수용하는 내부 용기(21); 관 형상으로 외부 소정 위치에 소정 간격으로 형성된 다수의 분출공(24a)을 갖으며, 상기 내부 용기(21)의 상단의 격자 부재(21a)의 단부를 따라 배치되어 순수를 상기 분출공을 통해 분사하는 순수 공급라인(24); 상기 내부 용기를 바깥에서 둘러싸 수납하는 외벽체(22); 상기 내부 용기(21)와 외벽체(22) 사이에 배치되어 상기 내부 용기를 가열하는 가열 수단(23)을 포함한다.As shown, the subject innovation is an inner container (21) for receiving a chemical solution therein into an open top container; It has a plurality of jet holes (24a) formed in a tubular shape at a predetermined interval at an external predetermined position, is disposed along the end of the grating member (21a) of the upper end of the inner container 21 to spray pure water through the jet holes Pure water supply line 24; An outer wall body 22 enclosing the inner container from the outside; And a heating means 23 disposed between the inner container 21 and the outer wall 22 to heat the inner container.
상기 내부 용기(21)에는 그 상단의 가장자리부를 따라서 용기 측벽에 대해 직각으로 굽혀져 소정 길이 연장되고 다시 하방으로 굽혀져 소정 길이만큼 연장되어 'ㄷ'자 단면 형상을 갖는 연속된 격자 부재(21a)가 형성되며, 후술될 외벽체(22)의 상단부가 상기 격자 부재(21a)의 내부 공간에 삽입되게 된다. 또한, 상기 격자 부재(21a)의 단부를 따라서 순수 공급라인(24)이 설치된다.The inner container 21 has a continuous lattice member 21a that is bent at a right angle with respect to the side wall of the container along the edge of the upper end thereof and extends a predetermined length, and is bent downward again and extends by a predetermined length to have a 'c' cross-sectional shape. Is formed, and the upper end of the outer wall body 22 to be described later is inserted into the inner space of the grating member 21a. In addition, a pure water supply line 24 is installed along the end of the grating member 21a.
상기 내부 용기(21)의 격자 부재(21a)에 끼워지는 외벽체(22)의 상단부는 'ㄷ'형의 상기 격자 부재(21a)의 내부 공간에 삽입되는 직립부(22a)와 상기 직립부의 하부에는 외벽체 바깥측으로 돌출되되, 그 상면이 하방으로 경사진 경사 돌출부(22b)가 형성된다.An upper end portion of the outer wall body 22 fitted into the lattice member 21a of the inner container 21 is located at an upright portion 22a inserted into an inner space of the lattice member 21a having a 'c' shape and a lower portion of the upright portion. The inclined protrusion part 22b which protrudes outward of the outer wall body and inclines downward is formed.
상기 외벽체(22)의 내부에 상기 내부 용기(21)를 삽입하여 조립하면, 제2도에 도시된 바와 같이, 외벽체 상단의 직립부(22a)가 내부 용기의 격자 부재(21a) 내부에 배치되며, 외벽체의 경사 돌출부(22b)의 경사면이 상기 격자 부재(21a)의 단부를 따라 배치된 순수 공급라인(24) 바로 아래에 위치하게 된다. 따라서, 순수를 순수 공급라인(24)에 공급하면, 순수는 순수 공급라인 상에 형성된 다수의 분출공(24a)을 통해 분사되고 분사된 순수는 상기 경사 돌출부(22b)의 경사면을 따라 흘러 내려간다.When the inner container 21 is inserted into the outer wall 22 and assembled, the upright portion 22a of the upper end of the outer wall is disposed inside the grating member 21a of the inner container, as shown in FIG. The inclined surface of the inclined protrusion 22b of the outer wall is positioned directly below the pure water supply line 24 disposed along the end of the grating member 21a. Therefore, when pure water is supplied to the pure water supply line 24, pure water is injected through a plurality of jet holes 24a formed on the pure water supply line and the injected pure water flows down the inclined surface of the inclined protrusion 22b. .
만일, 질화막 제거 공정중에 화학용액이 용기 외부로 유출되어, 유출 용액이 격자 부재(21a)을 따라 상기 경사 돌출부(22b)에 도달되면 상기 순수 공급라인(24)에서 분사된 순수의 흐름에 의해 경사면을 따라 용이하게 순수와 함께 흘러 내려 바닥에 떨어지게 된다.If the chemical solution flows out of the container during the nitride film removal process, and the effluent solution reaches the inclined protrusion 22b along the lattice member 21a, the inclined surface by the flow of pure water injected from the pure water supply line 24. It will easily flow down with pure water and fall to the floor.
본 발명자는 상기 순수 공급라인이 설치된 화학 처리조를 사용하여 수많은 실험을 해본 결과, 유출된 용액의 유입 및 화학 증기의 유입이 종래의 처리조의 경우보다 감소하여 화학 처리조의 교체 주기가 종래의 2개월에서 약 4∼6개월로 연장되었다.As a result of numerous experiments using the chemical treatment tank in which the pure water supply line is installed, the present inventors have found that the inflow of outflowed solution and the inflow of chemical vapor are reduced compared to the conventional treatment tank, so that the replacement cycle of the chemical treatment tank is two conventional months. Extended from about 4 to 6 months.
이하, 본 고안에 따른 화학 처리조의 제2실시예를 설명한다. 제3도는 본 고안의 다른 실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 도시한 사시도이며, 제2도의 제1실시예에 내부 용기(21)의 상단의 격자 부재(21a)에 정렬된 순수 공급수단(24) 및 외벽체 상단의 경사 돌출부(22b) 대신에 외벽체 상단부에 순수 유수로(25)를 설치한 것을 제외하고는 제1실시예 구성과 같다. 따라서, 동일한 부분과 동일한 기능은 동일한 부호로 나타내며, 그 부호의 설명은 생략한다. 이하, 상기 차이점을 주로 하여 설명한다.Hereinafter, a second embodiment of the chemical treatment tank according to the present invention. 3 is a perspective view showing a part of a chemical treatment tank according to another embodiment of the present invention with a partial cross section, and pure water aligned with the grating member 21a at the top of the inner container 21 in the first embodiment of FIG. It is the same as the structure of 1st Example except that the pure water flow path 25 was provided in the upper end of the outer wall instead of the supply means 24 and the inclined protrusion 22b of the upper end of the outer wall. Therefore, the same part and the same function are shown with the same code | symbol, and description of the code | symbol is abbreviate | omitted. In the following, the above differences will mainly be described.
본 실시예에서는, 이전 실시예에서 순수 공급수단(24)(제2도 참조) 대신에 외벽체(22)의 직립부(22a)의 하단에는, 그로부터 소정 길이 만큼 연장되고 다시 상방향의 굽혀져 'ㄴ'자 단면 형상의 순수 유수로(25)가 일체로 제공된다. 외벽체 상단부 둘레로 형성된 상기 순수 유수로의 하부의 소정 위치에는 순수가 공급되는 인입구(25a)와 상기 순수가 배출되는 배출구(도시되지 않음)가 형성되어 일정량의 순수가 상기 유수로(25) 내를 순환하며, 전술한 제1실시예에서의 순수 공급수단(24) 및 경사 돌출부(22b)의 기능을 대신하게 된다(제2도 참조). 즉, 외벽체(22)의 내부 공간에 내부 용기(21)가 삽입되어 설치된 경우, 제3도에 도시된 바와 같이, 상기 내부 용기(21)의 상단부 격자 부재(21a)의 단부는 유수로(25) 내부로 인입된 상태가 되며, 상기 유수로(25)에서 일정 높이의 순수 유면에 상기 내부 용기(21)의 격자 부재(21a)의 단부가 잠기게 된다.In this embodiment, instead of the pure water supply means 24 (see FIG. 2) in the previous embodiment, the lower end of the upright portion 22a of the outer wall body 22 extends by a predetermined length therefrom and is bent upwardly ' A pure water flow channel 25 having a b 'cross section shape is provided integrally. An inlet 25a through which pure water is supplied and a discharge port (not shown) through which pure water is discharged are formed at a predetermined position of the lower portion of the pure water flow channel formed around the upper end of the outer wall so that a predetermined amount of pure water flows into the flow channel 25. It is circulated, and replaces the functions of the pure water supply means 24 and the inclined protrusion 22b in the above-described first embodiment (see FIG. 2). That is, when the inner container 21 is inserted and installed in the inner space of the outer wall body 22, as shown in FIG. 3, the end of the upper end grating member 21a of the inner container 21 has an oil channel 25 ) And the end of the grid member 21a of the inner container 21 is locked to the pure oil surface having a predetermined height in the flow channel 25.
따라서, 내부 용기의 바깥으로 유출된 용액은 상기 유수로(25) 내부로 흘러 들어가게 되더라도 유수로 내부에서 순환하는 순수의 유면 및 상기 순수의 유면에 잠긴 상기 내부 용기(21)의 격자 부재(21a)의 단부가 형성하는 차단 벽에 의해 내부로의 유입이 방지되며, 또한, 유수로 내의 순수의 흐름과 함께 상기 배출구(도시되지 않음)로 배출되게 된다.Accordingly, even if the solution leaked out of the inner container flows into the flow channel 25, the grating member 21a of the inner container 21 immersed in the oil surface of the pure water circulating in the flow channel and the surface of the pure water. The inflow into the interior is prevented by the blocking wall formed by the end of the, and is discharged to the discharge port (not shown) with the flow of pure water in the flow channel.
본 발명자는 상기 순수 유수로가 형성된 순수 공급라인이 설치된 화학 처리조를 사용하여 실험해 본 결과, 유출된 용액의 유입 및 화학 증기의 유입이 제1실시예의 경우보다 현저하게 감소함과 동시에 화학 처리조의 교체 주기는 제1실시예와 동일한 효과를 얻을 수가 있었다.As a result of experimenting with a chemical treatment tank equipped with a pure water supply line in which the pure water flow channel is formed, the inventors found that the inflow of the outflowed solution and the inflow of chemical vapors were significantly reduced compared to those of the first embodiment, and the chemical treatment was performed. The replacement cycle of the tank was able to obtain the same effect as in the first embodiment.
이하, 제4도를 참조하여 본 고안의 제3실시예를 설명한다. 제3도는 본 고안의 또다른 실시예에 따른 화학 처리조의 일부분을 부분적 단면과 함께 도시한 사시도이며, 제3도의 제2실시예에서 내부 용기(21)의 상단의 격자 부재(21a)의 구조를 이중으로 구성한 것을 제외하고는 제2실시예 구성과 같다. 따라서, 동일한 부분과 동일한 기능은 동일한 부호로 나타내고, 그 부호의 설명은 생략하며, 상기 차이점을 주로 하여 설명한다.Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 3 is a perspective view showing a part of a chemical treatment tank according to another embodiment of the present invention with a partial cross-sectional view, and shows the structure of the grating member 21a at the top of the inner container 21 in the second embodiment of FIG. The configuration is the same as in the second embodiment except that the configuration is double. Therefore, the same part and the same function are shown with the same code | symbol, description of the code | symbol is abbreviate | omitted, and it demonstrates mainly the said difference.
이전 실시예의 경우, 유수로(34)에서 순환하는 순수의 유량이 적어서 유면이 상기 내부 용기(21)의 격자 부재(21a)의 단부 아래로 하강하게 되면, 화학 용액과 순수의 반응으로 생성된 화학 증기 및 유출 용액이 상기 유면과 격자 부재 사이로 유입되어 씰런트를 부식시킬 수 있는 문제점이 있었다. 따라서, 본 실시예에서는 화학 용액 및 화학 증기를 이중으로 차단할 수 있는 수단을 제공한다. 즉, 내부 용기의 상단의 가장자리부에는, 용기 측벽에 거의 수직으로 바깥측으로 굽혀져 소정 길이만큼 연장하고, 소정 위치에서 서로 간격을 두고 하방으로 연장된 두개의 격자 부재(21a,21b)가 일체로 형성된다.In the previous embodiment, if the flow rate of the pure water circulating in the flow channel 34 is low, so that the oil surface is lowered below the end of the lattice member 21a of the inner container 21, the chemical produced by the reaction of the chemical solution and pure water There was a problem that the vapor and the effluent solution may flow between the oil surface and the grid member to corrode the sealant. Accordingly, the present embodiment provides a means for double blocking of chemical solution and chemical vapor. That is, at the edge of the upper end of the inner container, two lattice members 21a and 21b which are bent outwardly perpendicular to the container side wall and extend by a predetermined length and extend downward at intervals from each other at a predetermined position are integrally formed. Is formed.
따라서, 외벽체(22)에 내부 용기가 조립되면, 외벽체(22)의 직립부(22a)와 유수로(34)의 측벽이 상기 두개의 격자 부재(21a,21b)와 엇갈려 삽입된 형태가 된다. 즉, 내부 용기(21)의 내측 격자 부재(21a)는 상기 유수로(25)를 흐르는 순수의 유면에 잠기게 되고 내부 용기의 외측 격자 부재(21b)는 상기 유수로(25)의 측벽의 바깥측에서 그의 측벽과 평행하게 정렬된 상태가 된다.Therefore, when the inner container is assembled to the outer wall body 22, the upright part 22a of the outer wall body 22 and the side wall of the water flow path 34 are inserted so that the two grating members 21a and 21b may be crossed. That is, the inner lattice member 21a of the inner container 21 is immersed in the oil surface of the pure water flowing through the flow channel 25 and the outer lattice member 21b of the inner container is outside the sidewall of the flow channel 25. It is in a state aligned parallel with its side wall at the side.
따라서, 내부 용기(21)의 화학 용액이 유출되면, 일차적으로 유출 용액은 상기 내부 용기의 외측 격자 부재(21b)를 타고 처리조 아래 바닥으로 떨어지게 되고, 화학 용액의 증기가 상기 두개의 격자 부재 사이로 들어오더라도, 이차적으로 상기 유수로(25) 내의 순수 유면에 잠긴 내측 격자 부재(21a)에 의해 효과적으로 차단될 수 있다. 그 결과, 화학 용액 및 화학 증기의 폐해를 최대한으로 억제될 수 있다.Therefore, when the chemical solution of the inner container 21 flows out, the effluent solution firstly falls to the bottom under the treatment tank by taking the outer grating member 21b of the inner container, and the vapor of the chemical solution passes between the two lattice members. Even if it enters, it can be effectively blocked by the inner grating member 21a submerged in the pure oil surface in the flow channel 25. As a result, the damage of chemical solution and chemical vapor can be suppressed to the maximum.
본 발명자는 상기 이중 격자 부재(21a,21b) 및 유수로(25)가 형성된 화학 처리조를 사용하여 실험해 본 결과, 이전 실시예에서와 같이, 유입된 용액과 순수가 반응하여 씰런트를 부식시키는 문제점을 완전히 해결되었으며, 화학 증기의 생성을 최대한 억제가 가능하였다. 또한 처리조의 교체 주기가 1년이상으로 연장될 수 있었다. 그 결과, 년간 6개의 처리조의 소모량을 년간 1개로 감소되어 처리조 제작비용 및 처리조 교체에 따른 소요 인력을 감축시킬 수 있었다.The present inventors experimented with the chemical treatment tank in which the double lattice members 21a and 21b and the flow channel 25 were formed. As in the previous embodiment, the introduced solution and the pure water reacted to corrode the sealant. To solve the problem to completely solve, it was possible to suppress the production of chemical vapor as much as possible. In addition, the replacement cycle of the treatment tank could be extended to more than one year. As a result, the consumption of six treatment tanks per year was reduced to one per year, thereby reducing the manufacturing cost of the treatment tank and the manpower required to replace the treatment tank.
이상에서 설명한 본 고안은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 고안의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형, 및 변경이 가능함이 본 고안이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible in the art without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill.
상기와 같이 구성된 본 고안에 따르면, 처리조 외부로 유출되는 용액 및 그 용액의 화학 증기를 효과적으로 처리할 수 있으므로, 처리조의 내부 수명을 연장시키는 경제적인 효과 및 반도체 제조 공정시, 파티클 발생의 원인을 억제하여 생산성을 향상시키는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, since it is possible to effectively treat the solution and the chemical vapor of the solution flowing out of the treatment tank, the economic effect of extending the internal life of the treatment tank and the cause of particle generation in the semiconductor manufacturing process It is effective to suppress and improve productivity.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960058658U KR200158366Y1 (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Chemical treatment tank |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019960058658U KR200158366Y1 (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Chemical treatment tank |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980045516U KR19980045516U (en) | 1998-09-25 |
| KR200158366Y1 true KR200158366Y1 (en) | 1999-10-15 |
Family
ID=19484095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019960058658U Expired - Fee Related KR200158366Y1 (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Chemical treatment tank |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200158366Y1 (en) |
-
1996
- 1996-12-27 KR KR2019960058658U patent/KR200158366Y1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19980045516U (en) | 1998-09-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| UA0108 | Application for utility model registration |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-UA0108 |
|
| UA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-UA0201 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| UG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-UG1501 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| UE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-UE0701 |
|
| REGI | Registration of establishment | ||
| UR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-UR0701 |
|
| UR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-UR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| UG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-UG1601 |
|
| UN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-UN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-UN2301 |
|
| UN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-UN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-UN2301 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R17-oth-X000 |
|
| UR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-UR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| UR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-UR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| UR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-UR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20050621 Year of fee payment: 7 |
|
| UR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-UR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| UC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-UC1903 Not in force date: 20060713 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| UC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-UC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20060713 |
|
| UN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-UN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-UN2301 |
|
| UN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-UN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-UN2301 |
|
| UN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-UN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-UN2301 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |