KR20020031981A - 2-머캡토피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법 - Google Patents
2-머캡토피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20020031981A KR20020031981A KR1020000062795A KR20000062795A KR20020031981A KR 20020031981 A KR20020031981 A KR 20020031981A KR 1020000062795 A KR1020000062795 A KR 1020000062795A KR 20000062795 A KR20000062795 A KR 20000062795A KR 20020031981 A KR20020031981 A KR 20020031981A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- oxide
- mercaptopyridine
- sodium
- pyridine
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-thiol N-oxide Chemical class [O-][N+]1=CC=CC=C1S FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract 2
- ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N pyridine N-oxide Chemical compound [O-][N+]1=CC=CC=C1 ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 11
- YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N pyrithione Chemical compound ON1C=CC=CC1=S YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- -1 sodium and potassium Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 8
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 3
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 claims description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims 1
- 229960002026 pyrithione Drugs 0.000 abstract description 4
- 239000004599 antimicrobial Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 abstract description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000005749 2-halopyridines Chemical class 0.000 description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001204 N-oxides Chemical class 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical compound S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 1
- 241000233866 Fungi Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N disulfur monoxide Inorganic materials O=S=S TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003541 multi-stage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229940070891 pyridium Drugs 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007039 two-step reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/89—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms directly attached to the ring nitrogen atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
Abstract
본 발명은 피리치온계 항균제 내지 그 금속염을 제조함에 있어 핵심 중간체로 작용하는 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체의 새로운 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 출발물질로 피리딘 N-옥사이드를 사용하여 1단계 반응으로서 2번위치에 직접 황(S) 작용기 즉, 치올기(-SH, -SK 등)를 도입하여 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 금속염을 제조하는 새로운 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법에 관한 것이다.
이때의 M은 나트륨(Na), 칼륨(K) 등의 알칼리금속이나 수소(H)를 의미한다.
2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체는 곰팡이 방지제, 플라스틱용 항균제, 비듬방지제, 사상균 방지제 등 피리치온계 항균제로 작용하고 또한 하기 화학식 2로 표시되는 다른 피리치온 항균제 금속염을 제조함에 있어 핵심 중간체로 작용한다.
여기서 M'는 아연(Zn), 구리(Cu), 마그네슘(Mg), 스트론튬(Sr)을 의미한다.
종래의 2-머캡토피리딘 N-옥사이드의 제조방법 중의 하나는 하기 반응식 1에 표시된 바와 같이 2-할로피리딘을 출발물질로 하여 초산과 과산화수소를 반응중에 첨가하고 과산화초산이 형성되도록 한 후 2-할로피리딘 N-옥사이드를 제조한 후 NaSH와 NaOH를 사용하여 2번 위치의 할로겐 작용기를 치올기(-SNa)로 변환시키는 방법이 일반적으로 알려져 있다.
미국특허 2,745,826에 의하면 산화제로 사용가능한 과산화초산을 제조하여 2-할로피리딘에 반응시켜 2-할로피리딘 N-옥사이드를 제조한 후 치오우레아 (thiourea)에 투입하여 2-머캡토피리딘 N-옥사이드의 치오우레아 콤플렉스 화합물을 만든 후 다시 2-머캡토피리딘 N-옥사이드로 전환시키는 방법을 소개하고 있다. 그러나 이 방법은 산화반응 자체의 반응시간이 10시간 이상으로 길고 수율이 50%대로 낮으며 산화제의 과량 사용함으로 인해 중화처리시 과량의 염기가 필요하게 되어 낮은 생산성을 유발한다. 또한 그 제조방법이 복잡하다고 할 수 있다.
JACS〔Journal of American Chemical Society〕Vol 72, p4362(1950)에 따르면 2-할로피리딘을 출발물질로 하여 산화제인 과산화초산을 이용, 2-할로피리딘 N-옥사이드를 만든 후 NaSH를 사용하여 치올기를 도입하여 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 제조하는 방법이 있다. 그러나 이 방법은 반응이 두단계로서 반응시간이 길며 수율 또한 50%이하로 낮게 얻어진다.
미국특허 4,396,766 및 4,080,329에서는 2-할로피리딘 N-옥사이드를 출발물질로 하여 소듐히드로설파이드(NaSH), 나트륨카보네이트(Na2CO3)를 사용 수율이 90%이상의 높은 수율을 얻는 방법을 소개하고 있다. 이 방법 자체로만 볼 때는 높은 수율을 얻는 간단한 반응이지만 목표물질인 피리치온 항균제로 만들기 위해서는 출발물질인 2-할로피리딘으로부터 2-할로피리딘 N-옥사이드를 합성해야 하는 공정이 생략되어 있기 때문에 결국 합성시 한 단계의 반응공정이 더 필요하게 된다.
또 다른 기술로는 미리 산화제인 과산화초산을 만듦에 있어 촉매로 황산을 사용(미국특허 2,951,844)하거나 2-할로피리딘 존재하에 반응을 진행하면서 황산 및 황산화물을 촉매로 사용(미국특허 4,585,871)하는 방법이 있다. 그러나, 과산화초산의 불안정성으로 인하여 미리 산화제를 제조하더라도 저장하는데 문제점이 있으며 황산 및 황산화물을 사용하는 방법은 반응시간을 줄이고 과산화수소의 사용량을 다소 줄여주는 효과는 있지만 강산을 촉매로 사용하기 때문에 중화시 염기의 사용량이 많아져서 제조효율이 떨어지게 되고 반응 색상을 어둡게 하는 단점이 있으며, 특히, 상기방법들 모두 출발물질인 2-할로피리딘 대비 수율이 40%대로 낮으며 수율저하의 가장 큰 단계인 산화반응 단계를 거쳐야 한다는 단점이 있다.
이러한 기존의 방법들은 거의 2-할로피리딘 유도체를 출발물질로 하여 과산화화합물을 사용한 산화공정을 거쳐 2-할로피리딘 N-옥사이드를 제조하고 여기에서 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 제조하는 것이 주된 특징이다. 그러나 이러한 방법들은 피리딘의 N-산화(N-oxidation) 공정에 있어 pH의 조절이 중요한 요소가 될 수 있다. 즉, 낮은 pH에서는 수소양이온에 의해 피리디윰(pyridium)이온이 형성되어 N-산화를 방해할 수 있으며, 높은 pH에서는 과산화음이온이 형성되어 산소가 발생하면서 생성된 N-옥사이드가 빨리 분해된다. 이러한 이유로 기존의 과산화수소, 초산을 사용하거나(미국특허 2,951,844) 과산화수소, 초산 및 촉매로서 황산을 사용한 방법(미국특허 4,585,871)은 반응액의 pH가 1.0이하나 마이너스로 떨어지는 강산조건이 되어 반응성 50% 정도로 높지 않게 된다는 문제점이 있다.
이에, 본 발명자는 수율이 높은 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체의 새로운 제조방법을 개발하기 위하여 오랬동안 지속적인 연구를 한 결과, 피리딘 N-옥사이드를 출발물질로 하여 별도의 부반응물의 생성없이 선택적으로 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 60%이상의 수율로 제조함으로써 전술한 종래기술의 문제점을 효과적으로 극복할 수 있는 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명은 기존의 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체의 제조방법보다 그 수율이 높은 2-머캡토피리딘 N-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 하기 화학식 1의 피리딘 N-옥사이드를 출발물질로 하고 염기촉매 및 유기용매 하에서 황분자(S8)와 반응시켜 직접 황 작용기(-SH, -SNa, -SK 등 )를 도입함으로써 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 제조하는 신규한 방법에 관한 것이다.
1 2
이때의 M은 나트륨, 칼륨 등의 알칼리금속이나 수소분자를 의미한다.
여기에서 황은 출발물질인 피리딘 N-옥사이드 대비 황분자 0.5몰당량에서 10몰당량, 바람직하게는 1.0 내지 5몰당량을 사용한다.
염기촉매는 수소화나트륨(NaH), n- 부틸리튬(n-BuLi), 소듐아미드 (NaNH2), t-부톡사이드 칼륨염, t-부톡사이드 나트륨염, 메톡시나트륨, 에톡시나트륨으로 이루어진 군으로부터 선택되며 그 사용량은 피리딘 N-옥사이드에 대해 0.1 내지 5몰당량이고 바람직하게는 0.5 내지 3몰당량이다.
반응온도는 상온(20℃) 내지 100℃이고 바람직하게는 30 내지 80℃에서 반응시키는 것을 특징으로 한다.
유기용매는 사용하는 염기에 따라 달라지지만 보통 테트라히드로퓨란(THF), 디옥산, 헥산, 시클로헥산, 톨루엔, 벤젠, 자일렌, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드 중에서 선택된 것을 사용하며 그 사용량은 출발물질 대비 부피/무게비로서 1 내지 20배, 바람직하게는 3 내지 10배이고 반응시간은 1시간∼20시간에 걸쳐 반응시킨다.
본 발명의 특징은 전술한 종래기술의 가장 큰 단점으로 볼 수 있는 다단계 반응 및 낮은 반응성(50%대 이하), 낮은 제조효율 문제를 극복하고 피리딘으로부터 널리 알려진 방법으로 제조가 용이하며 가격이 저렴한 피리딘 N-옥사이드를 출발물질로 하여 별도의 부반응물의 생성없이 선택적으로 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 60%이상의 수율로 제조할 수 있다는 것이다. 또한 미반응물인 피리딘 N-옥사이드는 녹는점과 끓는점이 낮기 때문에 용매와 더불어 진공증류로서 회수(Recycle)가 가능하며, 따라서 높은 제조수율(70% 이상)을 얻을 수 있다.
이하 실시예를 들어 본 발명의 내용을 구체적으로 설명하나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
1L 둥근바닥플라스크에 피리딘 N-옥사이드 9.5g(0.1몰)과 디메틸포름아미드 (DMF) 30ml를 넣고 잘 교반하였다. 칼륨 t-부톡사이드 11.2g(0.1몰)을 플라스크에투입한 후 온도를 서서히 상승시켜 70∼80℃에서 2∼3시간 동안 유지시켰다. 황(S8) 96g(3몰)을 투입한 후 이 온도에서 약 10시간 동안 유지시켰다. 반응 확인은 TLC로 하면서 반응후 온도를 상온으로 냉각한 후 과량 사용된 황 화합물을 여과한 후 여액은 진공증류를 통해 용매인 DMF와 미반응물인 피리딘 N-옥사이드를 회수하였다. 진공도는 15mmHg, 증기온도 140℃일 때 나오는 물질이 피리딘 N-옥사이드이며 분별증류를 하여 따로 얻거나 DMF와 같이 증류하여 모다 두었다. 증류한 후 온도를 상온으로 낮추고 순수(H2O) 50ml를 투입하고 17% 염산수용액을 이용하여 pH를 7.0에서 8.0사이로 맞추고 이 용액을 분석하여 생성된 2-머캡토피리딘 N-옥사이드의 함량을 측정하여 생성량을 계산하였을 때 수율 70%로 얻어졌다.
실시예 2
염기촉매를 나트륨 t-부톡사이드를 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 과정으로 진행하였다. 이때 수율은 65%로 얻어졌다.
실시예 3
1L 둥근바닥플라스크에 피리딘 N-옥사이드 9.5g(0.1몰)과 테트라하이드로퓨란 (THF) 30ml를 넣고 나트륨 t-부톡사이드 9.62g(0.1몰)을 가하여 잘 교반시킨 후 황(S8) 96g(3몰)을 투입하고 온도를 서서히 승온시켜 환류 (65∼70℃)시켰다. 이 온도에서 약 8시간 반응시킨 후 TLC로 반응진행을 확인하였다. 반응이 완료되면 진공증류를 통해 먼저 용매인 THF를 회수하고 미반응 피리딘 N-옥사이드는 135∼140℃/15mmHg 조건에서 회수하였다. 그 이후에는 실시예 1과 동일한 조건으로 처리하여 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 얻었다. 이 때 수율은 73%이었다.
본 발명에 따른 공정은 종래의 공정에 비해 반응단계가 1단계라는 이점과 종래 공정보다 수율이 높다는 장점이 있다.
Claims (4)
- 하기 화학식 1의 피리딘 N-옥사이드를 출발물질로 하여 염기촉매 및 유기용매 하에서 황분자를 반응시킴으로써 하기 화학식 2의 2-머캡토피리딘 N-옥사이드를 합성하는 제조방법.이 때의 M은 나트륨, 칼륨 등의 알칼리금속이나 수소를 의미한다.
- 제1항에 있어서, 황은 황분자 자체를 사용하며 그 사용량은 피리딘 N-옥사이드에 대해 0.5 내지 10몰당량을 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
- 제1항에 있어서, 염기촉매는 수소화나트륨, n-부틸리튬, 소듐아미드, t-부톡사이드 칼륨염, t-부톡사이드 나트륨염, 메톡시나트륨, 에톡시나트륨으로 이루어진군으로부터 선택되며 그 사용량은 피리딘 N-옥사이드에 대해 0.1 내지 5몰당량을 사용하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
- 제1항에 있어서, 반응온도는 상온 내지 100℃에서 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020000062795A KR20020031981A (ko) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 2-머캡토피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020000062795A KR20020031981A (ko) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 2-머캡토피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20020031981A true KR20020031981A (ko) | 2002-05-03 |
Family
ID=19695283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020000062795A Ceased KR20020031981A (ko) | 2000-10-25 | 2000-10-25 | 2-머캡토피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규한 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20020031981A (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100830557B1 (ko) * | 2002-01-02 | 2008-05-21 | 에스케이케미칼주식회사 | 피리티온염의 제조 방법 |
| US9079857B2 (en) | 2012-04-03 | 2015-07-14 | Arch Chemicals, Inc. | Process for preparing alkali metal pyrithione and its polyvalent metal complexes from pyridine oxide |
| CN105820116A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-03 | 滨海明鸿精细化工有限公司 | 一种2-氯吡啶氮氧化物巯基化的新工艺 |
-
2000
- 2000-10-25 KR KR1020000062795A patent/KR20020031981A/ko not_active Ceased
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100830557B1 (ko) * | 2002-01-02 | 2008-05-21 | 에스케이케미칼주식회사 | 피리티온염의 제조 방법 |
| US9079857B2 (en) | 2012-04-03 | 2015-07-14 | Arch Chemicals, Inc. | Process for preparing alkali metal pyrithione and its polyvalent metal complexes from pyridine oxide |
| CN105820116A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-03 | 滨海明鸿精细化工有限公司 | 一种2-氯吡啶氮氧化物巯基化的新工艺 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4396766A (en) | Process for producing sodium and zinc pyrithione | |
| US6603009B2 (en) | Method for oxidizing a thioether group into a sulfoxide group | |
| EP1556370B1 (en) | Method for the synthesis of a benzimidazole compound | |
| CN115417756A (zh) | 一锅法以丁香酚制备香兰素的工艺 | |
| CN114716428A (zh) | 制备砜吡草唑中间体的方法 | |
| JP4407062B2 (ja) | ジフェニルジスルフィド誘導体の製造法 | |
| JPS6153346B2 (ko) | ||
| JP4338237B2 (ja) | ピリジルメチルイソチオシアネートの製造法 | |
| WO2001029004A1 (en) | Oxidation process for the preparation of intermediates useful in the synthesis of diarylpyridines | |
| HU209737B (en) | Process for preparation of 4-alkyl-2,6 bis (fluoromethyl)-3,4-dihydro-pyridine- dicarboxylic acid-oxyesters and thioesters | |
| FI58917C (fi) | Foerfarande foer framstaellning av bis-(2-pyridyl-1-oxid)disulfid | |
| JP5269031B2 (ja) | トリブロモメチルスルホニルピリジンの製造方法 | |
| KR100830557B1 (ko) | 피리티온염의 제조 방법 | |
| JPH0513150B2 (ko) | ||
| CN114591231B (zh) | 一种可规模化生产4-甲酸-2,2’-联吡啶的方法 | |
| KR950008529B1 (ko) | 피리딘 유도체의 제조방법 | |
| JP4287083B2 (ja) | ２−または４−モノ置換ピリジンの製造方法並びに４−モノ置換ピリジンまたはその塩の選択的製造方法および分離方法 | |
| JPH05230026A (ja) | ２−クロロ−５−メチルピリジン誘導体の製造方法 | |
| KR20140145186A (ko) | 피리딘 옥사이드로부터의 알칼리 금속 피리티온 및 이의 다가 금속 착물의 제조 방법 | |
| KR20020051353A (ko) | 2-할로피리딘 ｎ-옥사이드 유도체의 신규 제조방법 | |
| JP4831897B2 (ja) | （２，６−ジクロロピリジン−４−イル）メタノールの製造方法 | |
| KR20000018793A (ko) | 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온의 제조방법 | |
| KR100517343B1 (ko) | 메톡시페닐하이드라진의 제조방법 | |
| JPH0557270B2 (ko) | ||
| KR100771655B1 (ko) | 라베프라졸 및 그 중간체의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20001025 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20050929 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20001025 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20061026 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20070310 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20061026 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |