KR20030004331A - 데이터 마크를 매체 상에 분포시키는 방법, 데이터를홀로그램으로 기록 및 판독하는 방법 및 장치 - Google Patents

데이터 마크를 매체 상에 분포시키는 방법, 데이터를홀로그램으로 기록 및 판독하는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 데이터 마크를 매체 상에 분포하는 방법에 관한 것이다. 데이터 소스(44)의 화상은 광 매체(2) 상에 기록된다. 데이터는 검출된 화상 위에 있는 식별 마크의 도움으로 판독된다. 기록될 데이터는 동일한 상태를 가진 데이터가 소정 회수 이상으로 즉시 연속되는 것을 방지하는 코드로 부호화된다. 데이터 소스의 매트릭스에는 식별 데이터 마크 및 사용자 데이터 마크를 포함하는 소정 크기 및 위치의 어레이가 형성된다. 또한 2차원 데이터 소스(44), 및 상기 데이터 소스를 대물 빔(35)과 기준 빔(36)을 통하여 광 매체 상에 화상을 형성하는 광 시스템을 갖는 장치에 관하여 기재되어 있다. 광 매체는 상기 데이터 소스(44)의 화상과 결합된 푸리에면에 위치된다. 홀로그램의 푸리에면 외에, 광 시스템은 데이터 소스(44)와 홀로그램(9) 사이에 다른 푸리에면(51)을 포함하고, 상기 다른 푸리에면에는 공간 여과 수단이 위치된다.

Description

데이터 마크를 매체 상에 분포시키는 방법, 데이터를 홀로그램으로 기록 및 판독하는 방법 및 장치 {METHOD FOR THE DISTRIBUTION OF DATA MARKS ON A MEDIUM, AND METHOD AND APPARATUS FOR THE HOLOGRAPHIC RECORDING AND READOUT OF DATA}
특히, WO 99/57719에는 2차원 데이터 어레이를 홀로그램으로 기록 및 판독하는 방법 및 장치에 대하여 기재되어 있다. 이러한 시스템을 실행하는데는 여러 가지 문제가 발생된다. 그 중 한 가지 문제는 제거가능하고 교체가능한 데이터 기억 매체를 재삽입할 때의 정확도가 문제이며, 이는 성공적인 판독에 크게 영향을 미친다. 판독된 비트맵 화상의 개별 화상 화소가 단지 하나의 검출기 화소 상에 항상 정확하게 맞추어진다는 것은 상당히 곤란하거나 또는 가능하지 않는 경우도 종종 있을 수 있다. 이 문제는 재삽입된 매체가 자신의 원위치에 대하여 작은 각도로 회전하고 또한 판독된 화상이 판독 검출기 상에서 회전할 때 특히 심각하다. 광 시스템의 화상 오차로 인하여, 단일 화상 화소 간의 거리는 화상 공간의 상이한 부분에서도 또한 변할 수 있다. 높은 밀도의 데이터는 검출기, 및 다수의 화소를 가진 데이터 소스를 사용하는 것이 필요하므로, 작은 각도로 회전하는 경우에도 검출기 화소로부터의 비트맵 화상의 소정 화상점이 "크리핑 오프"하거나, 또는 다른 행 또는 칼럼 상에 들러붙게 되고, 이로써 데이터의 재생이 매우 곤란하거나 불가능할 수 있다. 이러한 이유로, 판독된 비트맵의 화상점에 대한 관련 데이터 소스 화상점을 판정하기 위한 적절한 연산이 필요하다.
간격이 조밀한 홀로그램을 기입(기록) 및 판독하는 도중에, 화상 빔의 에지가 또한 인접하는 홀로그램 상으로 향한다(이른바 페이지 간의 간섭)는 다른 문제가 있다. 이를 방지하기 위하여, 분포되는 빔은 적절한 애퍼춰를 가진 홀로그램의 평면에서 여과되어야 한다.
본 발명의 목적은 전술한 문제점을 해소하거나, 또는 문제점을 적어도 부분적으로 제거하는 것이다.
본 발명은 데이터 마크를 매체 상에 분포시키는 방법, 및 광 기록된 데이터를 판독하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법은 적어도 두 가지 상태를 갖는 데이터 마크로 부호화된 데이터가 2차원 매트릭스 구조를 갖는 데이터 소스로 생성되는 경우에 적용될 수 있고, 데이터 소스의 화상은 광 매체 상에 기록되며, 데이터 소스의 화상이 광학 방법으로 판독되는 동안 재생된 화상은 2차원 검출기로 검출되고, 데이터는 검출된 화상 위의 식별 마크의 도움에 의하여 재생된 화상으로부터 판독된다.
또한, 본 발명은 데이터를 홀로그램으로 기록 및 판독하는 개선된 방법 및 장치에 관한 것이다. 이 방법은 2차원 데이터 소스의 화상이 홀로그램으로 광 매체 상에 기록되는 유형이며, 홀로그램은 데이터 소스 화상의 푸리에면(화상 시스템의 초점면)의 대물 빔과 기준 빔 사이의 간섭으로 인하여 생기고, 기록된 홀로그램은 판독하는 도중에 2차원 검출기에 의하여 검출된다.
도 1은 본 발명의 데이터 구성 방법을 실행하는 장치에 사용되는 카드의 사시도이다.
도 2a 및 도 2b는 도 1에 도시된 카드의 평면도 및 측면도이다.
도 3은 도 1에 도시된 카드의 매체 구조의 단면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 매체에 사용된 소정의 데이터 구조의 상세도이다.
도 5는 본 발명의 이미지 개선 방법을 실행하는 광 시스템의 주요부를 예시하는 도면이다.
도 6a 및 도 6b는 도 5에 도시된 광 시스템 내에서 대물 빔과 기준 빔이 광 전파되는 것을 예시하는 도면이다.
도 7은 이미지 개선 방법을 사용하는 판독 헤드의 광 시스템을 예시하는 도면이다.
도 8은 도 5에 도시된 시스템과 유사한 변형 광 시스템의 광 배치의 개략도이다.
도 9는 도 5에 도시된 광 시스템의 편광층을 예시하는 개략도이다.
도 10은 도 8에 도시된 광 시스템에 사용되는 검출기의 개략도이다.
도 11은 도 10에 도시된 검출기의 다른 실시예를 예시하는 도면이다.
도 12 및 도 13은 본 발명의 데이터 구성 방법을 실행하는데 사용되는 광 시스템의 데이터 소스 및 검출기의 일부를 예시하는 도면이다.
본 발명에 있어서, 재삽입(재위치)으로 인한 문제는 아래와 같이 전술한 유형의 방법에 의하여 해소된다.
a, 기록될 데이터는 동일한 상태를 가진 데이터가 소정 회수 이상으로 즉시 연속되는 것을 방지하는 코드로 부호화되고,
b, 데이터 소스의 매트릭스 내에는 식별 데이터 마크 및 사용자 데이터 마크를 포함하는 소정 크기 및 위치의 어레이가 형성되며,
c, 식별 어레이의 크기는 식별 어레이의 데이터 마크와 크기 및 상태가 동일한 데이터 마크를 포함할 수 있는 데이터 세트와 같은 사용자 데이터 마크를 포함하는 어레이 내에서 생성하지 않는 방식으로 결정되고,
d, 식별 어레이는 동일 상태를 갖는 식별 데이터 마크로 채워진다.
바람직하기로는, 하나의 데이터 소스 매트릭스 요소의 화상은 더 많은 데이터 비트가 바람직하지만 적어도 하나, 바람직하기로는 그레이 스케일로 부호화된 1바이트를 포함하도록 부호화된다.
본 발명에 있어서, 데이터는 본 발명의 방법으로 기록된 데이터 마크를 포함하는 매체로부터 다음 단계:
식별 어레이를 검색하여, 그들의 위치를 정하는 단계, 및
데이터 마크를 포함하는 어레이의 위치를 식별 어레이에 대하여 정하는 단계
에 따라 판독하는 방법을 제안한다.
1차원을 따르는 검출기의 매트릭스 요소의 개수는 데이터 소스의 매트릭스요소의 개수의 배수, 바람직하기로는 2-5배가 되도록 선택되는 것이 특히 바람직한 것으로 판명되었다. 이 경우, 데이터 소스의 매트릭스 요소에 속하는 검출기 매트릭스 요소의 어레이가 식별되고, 이렇게 식별된 어레이의 중앙 영역 내의 매트릭스 요소 또는 요소들에 의하여 검출된 값이 판독값으로 된다는 점을 알 수 있다. 이것은 최소 노이즈, 및 오차가 있는 데이터는 과다 샘플링된 많은 데이터 세트로부터 여과되고, 10-100의 함수로 데이터가 저하된다는 장점을 갖는다.
또한, 본 발명에 따르면, 전술한 방법에 있어서, 화상 형성 도중에 홀로그램의 푸리에면 외에, 화상 형성 셋업에서 데이터 소스와 홀로그램 사이에 다른 푸리에면이 형성되고, 이 다른 푸리에면에서 여과되는 홀로그램 사이에 혼선을 방지하는 방법이 제안되어 있다. 바람직하기로는, 애퍼춰로 공간 여과된다. 콤팩트 광 시스템을 제공하기 위하여, 미러를 다른 푸리에면에 위치시키고 애퍼춰는 미러에 의하여 구성되는 것이 특히 바람직하다는 점을 알 수 있다.
본 발명은 데이터의 홀로그램 기록 및 판독, 특히 본 발명에서 제안된 공간 여과 해결 방법을 실현하는 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 장치는 2차원 데이터 소스, 및 상기 데이터 소스를 대물 빔과 기준 빔을 통하여 광 매체 상에 화상을 형성하고, 상기 매체 상의 대물 빔과 기준 빔을 간섭하는 광 시스템을 포함한다. 광 매체는 데이터 소스의 화상과 결합된 푸리에면에 위치된다. 본 발명에 있어서, 홀로그램의 푸리에면 외에, 광 시스템은 데이터 소스와 홀로그램 사이의 다른 푸리에면을 포함하고, 상기 다른 푸리에면에는 공간 여과 수단이 위치된다.
바람직하기로는, 광 시스템은 데이터 소스에 대물로서 결합된 다른 화상면을포함하고, 또한 데이터 소스의 주기 및 데이터 소스 애퍼춰의 회절로 인한 푸리에 피크를 적어도 부분적으로 중립화하는 중립화 수단을 포함한다. 중립화 수단은 임의의 위상 마스크가 바람직하다.
다음에, 본 발명을 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
본 발명에 따른 데이터 구성 방법을 도 1에 도시된 광 카드(1)에서 사용되는 데이터 구조로 설명한다. 카드(1)는 홀로그램 기록에 적합한 광 매체(2)를 갖는다. 광 매체(2)는 광 층 구조(3)를 지지하는 기계적인 베이스층으로서 또한 작용한다. 특정의 물리적인 데이터 기억 매체는 실제로 광 층 구조(3)이다. 광 카드(1)는 도시되지 않은 광 기록 장치에 의하여 기록 및 판독된다. 상기 장치는 적합한 기입/판독부를 포함한다. 기입-판독부의 상세는 본 발명의 제2 방법에 대한 설명과 함께 후술한다.
카드(1)는 여러 번 기입, 판독, 및 삭제될 수 있으며, 광 층 시스템(3)의 기억층 매체에 의하여 확실하게 삭제된다. 광 매체(2)의 광 층 구조(3) 내에는 별개의 캐리어(기판)층(5)이 있다. 캐리어층(5)은 광 품질면을 제공하며, 접합층(4)으로 카드의 표면에 부착된다. 캐리어층(5)은 미러층(6), 기억층(7) 및 보호층(8)으로 피복된다. 카드(1)의 크기는 표준 크레디트 카드 정도이지만 다른 크기 또한 적용가능하다. 도면에서, 층 구조(3)는 카드(1)의 면으로부터 돌출되어 있지만 반드시 돌출되는 것은 아니다. 선택적으로, 층 구조(3)의 상단층, 즉 보호층(8)은 카드(1)의 면과 완전하게 높이가 동일하거나, 또는 이 면보다 더 낮게 할 수도 있다. 이 경우에는 매체(2)가 카드(1) 내로 들어간다.
기입용의 사각형(10) 둘레에는 폭이 약 0.5 밀리미터인 프레임(11)이 있다. 프레임(11)은 후술하는 바와 같이 카드(1)의 위치를 결정하는 작용을 한다. 위치결정 프레임(11) 밖에는 또한 폭이 약 0.5 밀리미터인 다른 영역(12)이 있고, 여기에서는 위치결정 프레임(11)을 검색할 때 광이 여전히 움직일 수 있다. 매체(2) 상의 사각형(12)의 외측 영역은 사용되지 않는다. 사각형(12)의 크기는 약 12 x 12 밀리미터이다. 매체(2)용으로 정해진 기계적 및 광학적 공차는 상기 12 x 12 밀리미터 영역 내에 유지되어야 한다. 또한 사각형(10) 내에 광 층 구조(3)를 만드는 것이 충분하며, 이 층 구조(3)는 사각형(10)의 경계선 밖으로 연장될 필요는 없다.
데이터는 블록(13)(페이지) 내에 구성된 시스템에 기억된다. 각각의 블록(13)은 물리적으로 하나의 기입 펄스로 기록되는 하나의 홀로그램(9)으로 이루어진다. 광 시스템은 완성된 블록(13)과 동시에 기록 및 판독한다. 데이터는 간단한 파일 구조로 블록(13) 내에 구성된다.
사각형(10) 내에는 블록(13)이 소정의 방식으로 기하학적으로 배열된다. 본 명세서의 경우에는 사각형(10)을 실질적으로 채우는 사각형 매트릭스 배열이 도시되어 있다. 그러나, 블록(13)은 다른 형태, 예를 들면, 6각형으로 될 수 있으므로 완성된 매체(2)를 벌집 모양으로 채울 수 있다.
블록(13a)은 카드의 실제 시스템 데이터의 기억 장치용으로 준비되고, 이 블록(13a)은 좋은 위치, 예를 들면 기억가능한 영역의 모서리에 위치되는 것이 바람직하다. 이것이 카드(1)에 관한 데이터를 포함하며, 각 기입 작업 도중에 기록된이른바 설명 블록 및 결함 블록이다. 서로를 벗어나 동시에 기록된 블록은 간단한 파일 시스템을 구성하고, 파일의 명칭, 길이 및 물리적인 위치는 설명 블록에 기록된다. 카드(1)를 삽입할 때, 시스템이 먼저 이 블록을 판독한 다음, 카드가 기록되어 있는 경우에는 시스템이 이 데이터 블록을 검출하여 재기입한다. 제어 프로그램이 이미 기록되어 있는 영역을 보호한다.
본 발명의 제1 개념은 본질적으로 하나의 홀로그램(9)으로 기록된 블록(13)의 데이터를 분포시키는데 관한 것이다. 이것은 도 4b, 도 4c 및 도 4d에 예시되어 있다. 본 발명에 따르면, 데이터는 적어도 두 가지 상태를 갖는 데이터 마크, 다른 워드로 부호화되고, 홀로그램에 기억되어 있는 화상 화소는 적어도 하나의 비트를 나타낸다. 화상 화소에 관련하여 검출된 광 휘도는 임계치와 단지 비교되기 때문에, 이들 화소를 검출하는 것이 가장 용이하다. 동적 범위가 보다 크고 분포가 보다 적은 홀로그램 재료로는 여러 개의 비트를 하나의 화상 화소에 기억시키는 것이 이론적으로 가능하다. 도 4c에 도시된 바와 같이, 상기 실시예에는 4레벨의 그레이 스케일이 사용되고(흰색, 옅은 회색, 짙은 회색 및 흑색), 이로써 각각의 화상 화소에 두 개의 비트가 기억될 수 있다. 적절한 재료로는 각각의 화상 화소에 1바이트까지 기억할 수 있다.
다음에, 홀로그램(9)에 기억된 데이터 구조로 다시 돌아가면, 도 4b 및 도 4c는 데이터가 2차원 매트릭스 구조를 갖는 데이터 소스로부터 생성된다는 점을 나타내고 있다. 도 4b는 데이터 소스 자체의 개략도, 또는 기입-판독 시스템의 검출기 상에 화상을 형성하여 검출기 상에 화상(휘도 분포)으로서 표시되는홀로그램(9) 내에 기억되어 있는 재구성된 화상이라고 할 수 있다. 2차원 데이터 소스는 SLM(Spatial Light Modulator) 매트릭스이며, 이 화상이 광 매체, 즉 카드(1) 상의 홀로그램에 기록된다. 판독 도중에, 데이터 소스의 화상이 광학 방법으로 재생되고, 재생된 화상은 매트릭스 구조를 갖는 2차원 검출기로 검출되며, 즉 SLM에 의하여 생성된 비트맵이 홀로그램으로부터 재생되어 이것이 CCD 검출기 상에 화상으로 나타난다. 이렇게 생성된 화상으로부터 오리지널 데이터를 검색하는 것이 필요하기 때문에, 화상 비트맵 상의 화상 화소의 위치를 식별하는 것이 문제가 된다.
따라서, 다음과 같이 처리된다: SLM에 의하여 생성된 비트맵에 표시되는 데이터, 즉 물리적으로 직접 기록될 데이터는 소정의 회수 이상으로 동일한 상태로 데이터가 즉시 연속되는 것을 방지하는 코드로 부호화된다. 특히, 공지된 하밍(Hamming) 및 리드-솔로몬(Reed-Solomon) 오차 수정 코드가 이러한 성질을 나타낸다. 이것이 비트맵 상에 단지 어둡거나 또는 단지 밝은 화상 화소로 구성될 수 있는 영역이 나타나는 것을 방지한다.
또한, 데이터 소스의 매트릭스 내에는 식별 데이터 마크 및 사용자 데이터 마크를 포함하는 소정 크기 및 위치를 가진 어레이가 형성된다. 도 4b 및 도 4c에 서 명확하게 알 수 있는 바와 같이, 전체 화상(9b)은 여러 개의 서브-블록(14)으로 구성된다. 블록(13)의 중앙부에는, 후술하게 될 광 셋업 때문에 4개의 서브-블록(2 X 2)이 생략되어 있다. 서브-블록(14)의 대부분은 데이터 어레이(15)로 구성되지만, 서브-블록(14)의 모서리 영역은 식별 어레이(16)를 나타낸다. 실제 데이터, 즉 사용자 데이터는 데이터 어레이(15) 내에 기억된다. 식별 어레이(16)의 크기는 모든 데이터 마크가 동일한 상태를 가질 수 있는 식별 어레이(16)의 데이터 마크의 크기와 동일한 데이터 마크를 포함할 수 있는 이러한 데이터 세트를 코드가 데이터 어레이(15) 내에서 결코 생성할 수 없는 방식으로 결정된다.
식별 어레이(16)는 동일한 상태를 갖는 데이터 마크로 채워진다. 이들은 식별 데이터 마크이고, 이 식별 데이터 마크에 관련하여 사용될 수 있는 사용자 데이터는 없다. 즉, 식별 어레이(16) 내의 화상 화소(17)는 상태가 균일하며, 예를 들면, 이들은 모두 밝다(도 4d 참조). 도시된 실시예에서, 완성된 SLM 매트릭스는 320 x 240 화소(화상점 또는 화상 화소)를 포함한다. 이들 내에서, 300 x 200 화소 영역이 데이터 코드화에 사용된다. 서브-블록(14)의 크기는 25 x 22 화소이고, 5 x 5 화소로 이루어지는 식별 어레이(16)는 이들(도 4c에 도시된 서브-블록의 상단 좌측 모서리) 내에 형성된다.
이와 같은 방식으로 분포된 데이터는 본 발명에 따른 방법으로 판독되고, 여기에서 식별 어레이(16)가 검색되어 이들의 위치가 결정된 후 데이터 식별 어레이(16)에 대한 어레이(15)의 위치가 결정된다. 이것은 프레임(11)용 광으로 먼저 검색하고 이에 따라 카드(1)의 매체(2) 상의 사각형(10)에 대하여 광 시스템의 대응 시스템을 정확하게 설정하여 결정된다. 다음에, 판독 광의 이동 및 제어 시스템이 소정의 어드레스를 가진 홀로그램을 찾을 수 있어야 한다. 판독 광의 위치결정 정확도는 임의의 어드레스를 갖는 (13a)블록을 찾고, 그 내용 즉 기억된 홀로그램(9)의 화상을 기입/판독 시스템의 검출기 상에 화상을 형성하는 판독 광 용도로 충분하다. 다음에, 상관 연산은 크기가 5 x 5인 화소를 갖고 균일한 내용을 가진 식별 어레이(16)의 위치를 식별한다. 보다 정밀하게는, 상관 연산은 식별 어레이(16)의 화상점에 관련되는 이들 CCD 검출기 화소를 식별한다. 식별 어레이(16)의 위치를 알게 되면, 두 개의 인접하는 식별 어레이(16) 사이의 화상점에 관련되는 이들 CCD-검출장치 화소의 위치를 두 개의 인접하는 식별 어레이(16)의 화상점(17) 데이터로부터 선형 보간에 의하여 계산할 수 있다.
식별 어레이(16)는 서로 충분하게 근접하여 두 개의 인접하는 식별 어레이(16) 사이의 왜곡이 보간을 위해 충분히 작아서 각각의 화상점(18)에 관련된 검출기 화소를 모호하지 않게 형성하는 것이 바람직하다.
카드가 충분히 적게 회전하는 것이 안전한 경우, 하나의 화상점(18)의 위치는 단지 하나의 식별 어레이(16)에 따라 식별 어레이(16) 둘레에 형성될 수 있다. 이 경우, 식별 어레이(16)는 서브-블록(14)의 모서리가 아닌 그 중앙에 형성되는데, 그 이유는 이와 같은 방식으로 거리가 소정의 식별 어레이(16)로부터 위치가 계산된 위치로부터의 식별 어레이(16)로부터 가장 먼 화상점(18)까지 가장 짧기 때문이다. 소정의 경우, 화상점(18)의 위치는 이 위치가 두 개의 인접하는 식별 어레이(16)으로부터 결정되지만 다른 식별 어레이의 위치와는 별개로 결정되도록 정해질 수 있고, 두 가지 결과 간의 거리가 소정값을 유지하는 경우, 두 어레이 사이의 위치가 실제 위치로 간주된다. 그 차이가 지나치게 큰 경우, 카드는 광에 대하여 기계적으로 재위치된다.
1차원을 따르는 검출기의 매트릭스 요소 개수가 데이터 소스의 매트릭스 요소 개수의 배수, 바람직하기로는 2-5배로 선택되는 경우, 판독의 정확성은 본 발명에 따라 대폭 향상될 수 있다. 이로써 일단의 검출기 화소를 가진 홀로그램으로부터 복원된 화상점을 커버하게 된다.
따라서, 데이터 소스의 매트릭스 요소에 속하는 검출기 매트릭스 요소의 어레이, 특히 식별 어레이(16)의 화상점(17)에 관련된 검출기 매트릭스 요소의 어레이를 식별하게 된다. 이것은 전술한 바와 같이 위치를 찾기 위하여 실행된 상관 계산의 결과로서 실행될 수 있다. 이렇게 식별된 화소 블록 중앙 영역의 검출기 요소 또는 요소들에 의하여 검출된 값이 판독값으로 생각된다. 예를 들면, 판독된 CCD 검출기 화소의 개수가 한쪽을 따르는 데이터 소스 SLM의 개수의 5배(즉, 전체 면 상의 5 x 5 = 25배)인 경우, 하나의 화상점(17)은 CCD 검출기 상의 5 x 5 화소 영역에 포함된다. 이것은 동일 스케일로 도 12 및 도 13에 예시되어 있다. 도 12에 도시된 데이터 소스 화상점(18 또는 17)의 화상(실제로는, 데이터 소스 SLM 중 하나의 요소)은 도 13에서와 같이 화소(27) 그룹 상에 화상을 형성한다. 데이터 소스 화상점(18 또는 17)은 5 x 5 화소로 이루어지는 화소(27) 그룹에 대응한다는 점이 명백하다. 화상의 부정확성 때문에, 에지 화소에 의하여 검출된 휘도값은 더 부정확할 수 있다. 도 13에 도시된 바와 같이, 모서리 화소에 의하여 검출된 휘도는 이론상의 휘도값과 상이하다(도 13에서 검출된 휘도는 화소(27)의 색으로 예시되어 있음). 그러나, 3 x 3 화소의 내부 화소 그룹(28)은 흰색의 화상점만 검출하기 쉽다(도시된 실시예에서, 내부 그룹(28)의 상단 우측 모서리는 노이즈의 영향을받음). 가장 내측의 하나의 화소(29)가 관련 화상점의 휘도를 실질적으로 안전하게 검출한다. 광 화상이 충분하게 양호한 경우, 적어도 3 x 3 화소의 화소 세트는 5 x 5 화소의 이론상 화소 세트로부터 식별될 수 있다. 선형 보간을 위하여 중앙 화소를 사용함으로써, 중간 화소점(18)에 관련된 CCD-화소는 정확성이 충분하게 결정될 수 있고, 3 x 3(또는 5 x 5) 화소의 검출기 화소의 중앙 화소는 상기 화상점의 휘도를 실제로 검출할 수 있고, 여기서 화소 그룹은 계산에 의하여 화상점에 관련된다.
전술한 바와 같이, 데이터를 포함하는 홀로그램(9)은 프레임(11)으로 둘러싸여 있다. 검색하는 동안, 카드의 조정 시스템 및 이동 시스템과 함께 상기 프레임(11)을 먼저 찾고, 이로써 이동 시스템에 고정된 광 조정 시스템이 서로 결합된다. 다음에, 검출기 매트릭스의 모서리에 대한 식별 어레이(16)를 탐색한다. 식별 어레이(16)는 홀로그램(9)으로부터 재구성된 화상(9b)의 정확한 위치를 식별한다.
기입/판독부는 상기 방법을 실행하는 시스템 소프트웨어로 동작하는 외부 또는 내부 마이크로프로세서에 의하여 제어된다. 기입 및 판독 명령, 기입될 데이터, 및 기입할 영역은 마이크로프로세서로부터 기입/판독 시스템에 전달된다. 오차 수정 부호화 및 복호화는 마이크로프로세서에 의하여 실행되지만, 적합한 특정 하드웨어(예를 들면, 적당한 전달율을 유지하기 위하여 하밍 및/또는 리드-솔로몬 부호화)를 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 특정 하드웨어는 최종 데이터 판독BER(비트 오차율)을 약 10-2-10-3의 생(raw) BER로부터 적어도 10-12의 값으로 개선시킬 수 있다.
기입/판독부는 판독하는 도중에 데이터가 지워지는 것을 방지하는 보호 모듈을 포함할 수 있다. 소정의 기억 재료에서는 판독 도중에 기준 빔이 기록된 신호의 일부를 지울 수 있기 때문에 이 보호 모듈이 필요할 수 있다. 소정 회수의 판독 후에는 데이터가 판독될 수 없도록 신호 레벨이 열화될 수 있다. 보호 모듈은 판독 도중에 홀로그램의 신호 레벨을 측정하도록 되어 있지만, 판독 신호 레벨이 임계 레벨 이하로 저하되는 경우, 보호 모듈이 홀로그램 내의 정보를 갱신(삭제 및 재기입)한다.
다음에, 본 발명에 따른 데이터의 홀로그램 기록 및 판독 방법에 관하여 설명한다. 이것은 2차원 데이터 소스의 화상이 광 매체 상의 홀로그램에 기록되는 방법이다. (전술한 실시예에서, 2차원 데이터 소스는 SLM 매트릭스이다). 기록된 홀로그램은 데이터 소스의 화상에 관련된 푸리에면의 대물 빔과 기준 빔 사이의 간섭에 기인한다. 본 발명에서 광 매체는 광 카드(1)이다. 판독하는 도중에, 기록된 홀로그램(9), 보다 정밀하게는, 홀로그램(9)으로부터 복원된 화상(9b)은 2차원 검출기로 검출된다. 본 발명에 따른 방법에 있어서, 홀로그램의 푸리에면 외에, 다른 푸리에면이 데이터 소스와 화상 셋업 내의 홀로그램 사이에 형성된다. 여기에서 다른 푸리에면 공간 여과가 실행된다. 본 발명은 방법을 실행하는 장치를 예시하고 있다.
보다 상세하게 도시되지는 않았지만 전술한 카드 기입/판독 시스템의 기입/판독부는 도 5에 개략적으로 도시된 광 시스템을 포함한다. 광 시스템의 광원은 레이저(31), 본 실시예에서는 녹색 다이오드 레이저로 구성된다. 레이저(31)의 빔은 가우스 분포를 가지며, 빔은 구형 빔 신장기(32)에 의하여 적절한 크기로 신장된다. 양호한 파두면을 달성하기 위하여, 핀홀 방법으로 이 위치에 공간 여과를 또한 적용할 수 있다.
녹색 레이저 대신에, 청색 다이오드 레이저, 특히 DPSS(Diode-Pumped Solid State) 레이저 또한 생각할 수 있다.
빔은 뉴트럴 빔 스플리터 큐브(34)에 의하여 적절한 휘도를 가진 두 개의 빔, 즉 대물 빔(35) 및 기준 빔(26)으로 분할된다. 선택적으로, 대물 빔과 기준 빔 사이의 휘도율은 빔 스플리터 큐브(34)의 분할율로 변형될 수 있다.
대물 빔(35) 및 기준 빔(36)은 사각형의 측면을 따라 전파되고, 사각형의 대향하는 측면은 간섭계의 두 암을 구성한다. 사각형의 세 모서리 상의 빔 전환은 절연 미러층을 갖는 평면 미러(37, 38, 40)에 의하여 만들어진다. 사각형의 측면 길이를 적절하게 조정함으로써, 대물 빔과 기준 빔의 층 구조(3) 까지의 광 경로의 길이의 균일화가 확실하게 될 수 있다.
대물 빔 암에 있어서, 가우스 분포를 가진 신장된 대물 빔(35)은 빔 형성 렌즈(39)를 가진 균질의 평파로 변형된다. 빔 형성 광은 두 개의 비구면을 가진 단일 조각의 렌즈이다. 마찬가지로, 기준 암에서도 신장된 가우스 빔은 빔 형성 렌즈(40)를 가진 균질의 평파로 변형된다. 균질의 빔은 구면 빔 컨버터(41)에 의하여 적절한 크기로 압축된다. 선택적으로, 비구면 빔 형성 렌즈(40)는 생략되거나, 또는 평면 평행판으로 대체될 수 있고, 이로써 기준 암에는 가우스 형상을 갖는 조사 빔을 사용할 수 있다. 이 경우 이 요소는 빔 컨버터(41)를 설계할 때 반드시 고려하여야 한다.
기준 암에 있어서, 빔 컨버터(41)에 이어 다른 미러(43)가 있고 이어서 사각형 애퍼춰(42)가 있다. 애퍼춰(42)는 기준 빔(36)으로 카드(1) 상에 화상을 형성한다. 본 실시예에서는 사용된 애퍼춰(42)는 사각형 형태이지만 원형이나 또는 다른 형상도 균등하게 적용될 수 있다. 사각형의 한쪽 측면을 따라 대물 빔(35)과 기준 빔(36)이 결합된다. 대물 빔(35)은 미러(38)를 가진 SLM(44) 상에 결합된다. SLM(44)은 2차원 데이터 소스를 구성한다(본 실시예에서는 LCD-베이스 전송 모드 SLM이 사용되었다). SLM(44)의 활성 영역의 홀로그램은 층 구조(3)의 기록 층(7)의 카드(1) 상에 기록된다.
대물/화상의 화상화를 제공하는 푸리에 홀로그램 렌즈의 광축은 SLM(44) 및 애퍼춰(42)를 조사하는 빔과 직각을 이룬다. SLM(44)은 홀로그램 광 시스템의 대물을 구성하는 반면, 애퍼춰(42)는 홀로그램 광 시스템의 기준으로서 작용한다.
상기 푸리에 홀로그램 시스템의 원리는 도 6a 및 도 6b에 접혀진 위치로 도시되어 있다. 대물 빔(35)에 의하여 구성되는 대물/화상 빔은 이른바 8f 시스템으로 실현되고 이는 도 6a에 도시되어 있다. 또한 상기 대물 암은 편광 스플리터 프리즘(45, 46)(편광 스플리터 프리즘은 화상화 자체에는 아무 역할을 하지 않기 때문에 도 6a 및 도 6b에는 도시되어 있지 않다)을 포함하지만, 단지 대물 빔 및 기준 빔을 광 경로 내에 결합하는 작용을 한다. 기입/판독 시스템은 두 개의 동일한 푸리에 대물 렌즈(47, 48)를 포함한다. 푸리에 대물 렌즈(47, 48)의 각각의 푸리에면(초점면)(49, 50)에는 미러가 있고, 이와 같이 하여 이론적으로 필요한 4개의 대물 렌즈 대신에 단지 두 개의 푸리에 대물 렌즈를 8f 시스템용으로 사용할 수 있다. 제1 미러는 공간 여과 수단으로서 또한 사용되는 미러(51)이다. 다른 미러는 홀로그램 카드의 층 구조(3)에 기록되는 홀로그램(9) 자체, 및 층 구조(3)의 홀로그램(9) 하측의 미러 층(6)이다(도 3 참조). 도 5에서 알 수 있는 바와 같이, 스플리터 프리즘(45, 46)은 두 개의 푸리에 대물 렌즈(47, 48) 사이에 위치된다.
기준 빔(36)으로 구성되는 기준 암은 기준 애퍼춰(42)의 화상을 홀로그램(9) 상에 화상을 형성하는 이른바 4f 시스템(도 6b 참조)이다. 시스템은 설계 및 초점 길이가 상이한 두 개의 푸리에 대물 렌즈를 포함한다. 제1의 푸리에 대물 렌즈(52)는 한 조각의 렌즈이며, 기준 애퍼춰(42)와 결합 편광 스플리터 프리즘(45) 사이에 위치된다. 제2의 대물 렌즈는 대물/화상 암의 제2 푸리에 대물 렌즈(48)이다. 푸리에 대물 렌즈(52, 48)의 초점 길이를 적절하게 선택함으로써, 기준 애퍼춰(42)는 적당하게 확대 또는 축소하여 홀로그램 카드(1) 상에 화상을 형성할 수 있다.
대물 빔(35) 및 기준 빔(36)은 제1의 편광 스플리터 프리즘(45)을 통하여 함께 결합된다. 편광 스플리터 층(53)은 대물 빔(35)을 상측으로, 제1의 푸리에 대물 렌즈(47)를 향하여 편향시키는 한편, 기준 빔(36)은 하측으로, 푸리에 대물 렌즈(52, 48)의 공통 초점면을 향하게 한다.
대물 렌즈를 구성하는 SLM(44)은 제1의 푸리에 대물 렌즈(47)에 의하여 구현된 광 화상 시스템의 제1 초점면에 위치된다. 미러(51)는 후방 초점면, 이른바 푸리에면에 위치된다. 본 발명의 실시예에서 미러(51)는 소정의 크기를 가진 평면 미러이다. 전술한 공지된 해소책과 비교하여, 광 시스템은 홀로그램 자체를 형성하는데 필요한 푸리에면 외에 다른 푸리에면을 형성함으로써 변형된다. 상기 다른 푸리에면은 광 경로 상의 홀로그램 이전에 형성된다. 미러(51)는 상기 다른 푸리에면에 위치된다.
홀로그램을 기입하는 도중에, 미러(51)는 홀로그램 광 시스템의 공간 여과 수단, 즉 애퍼춰로서 작용한다. 상기 공간 여과 수단의 중요성은 광 시스템의 크기 문제 때문에 애퍼춰를 배치할 수 없는 경우 홀로그램(9)의 평면 내 애퍼춰를 실제로 대체한다는데 있다. 제한 애퍼춰로서의 미러(51)는 인접하는 홀로그램 상에 떨어지는 광을 저하시킨다. 즉, 상기 공간 여과는 이른바 페이지 내 인터-페이지 간섭을 저하시킨다. 또한, 애퍼춰 효과는 분포된 광을 여과하고, 또한 기록하는 대물 빔의 원뿔 각도를 제한한다.
다른 바람직한 수단으로서, 적합한 크기의 미러(51) 및 적절하게 설계된 광 시스템을 사용함으로써 교란시키는 푸리에 성분이 대물 빔(35)으로부터 여과될 수 있다. 예를 들면, SLM(44)의 주기 구조는 화상 렌즈 내에 그리드로서 나타나 있다. 이 그리드로 인하여 푸리에면의 피크가 커지게 된다. 이들 커다란 피크가 홀로그램 상에 떨어지는 경우, 이들은 홀로그램의 달성가능한 SNR을 상당히 저하시킨다. 그러나, 이들 커다란 피크 중 일부를 미러(51)로 여과할 수 있다.
이 공간 여과는 미러(51)의 크기가 기록된 홀로그램의 크기와 정확하게 동일하기 때문에 달성가능한 데이터 밀도에 영향을 미친다는 점이 다른 장점이다. 즉, 미러가 작을수록 홀로그램도 작아진다. SLM의 크기가 동일하므로 보다 작은 홀로그램은 보다 큰 데이터 밀도를 의미한다. 물론, 상기 방법으로 달성가능한 데이터 밀도의 상한선이 있는데, 그 이유는 화상의 해상도가 푸리에 구성품으로부터 여과에 의하여 저하되기 때문이다.
최종적으로, 상기 시스템은 완전하게 동일한 두 개의 푸리에 대물 렌즈를 갖는 광 시스템으로 설계될 수 있다. 따라서, 광 시스템의 소정의 제조 비용이 보다 적게 들 수 있다. 일반적으로, 스플리터 프리즘은 공지된 해결책, 예를 들면 WO99/57719호에 공지된 광 시스템에 비하여 보다 간단한 구성을 갖는다.
푸리에 대물 렌즈(47, 48), 미러(51) 및 홀로그램(9)은 대칭인 광 시스템을 구성하고, 상기 시스템의 중간부(편광 스플리터 프리즘(45, 46) 사이)에는 SLM(44)의 실제 화상이 형성된다. 상기 화상면에는 화소 배열을 갖는 임의로 분포된 위상 마스크(53)가 위치되어 있다. 위상 마스크(53) 화소의 위치, 크기 및 개수는 SLM(44)의 대응하는 데이터와 동일하다. 위상 마스크(53)는 매 화소마다 변하는 임의의 위상 이동을 대물 빔(35) 내에 가산한다. 상기 위상 마스크(53)로 인하여 SLM(44) 상에 기입된 비트맵 화상의 주기성으로부터 야기될 수 있는 푸리에 구성품이 크게 되는 것이 방지되고, 0의 공간 주파수 둘레에 나타나는 SLM(44)의 회절로 인하여 야기되는 이들 구성품이 크게 되는 것이 또한 생략될 수 있다.
기준 암 내의 애퍼춰(42)의 푸리에 변형은 위상 마스크(53)의 중간에서 나타난다. 이 때문에, 위상 마스크(53)의 중앙 영역에는 위상 변화가 일어나지 않는다.
그러나, 기준 빔(36)의 푸리에 여과를 위하여 위상 마스크(53)의 표면 상의 제2 위상 및/또는 진폭 마스크를 사용할 수 있으므로, 상기 제2 마스크는 대물 빔(35)에 의하여 사용된 "주변" 위상 마스크와 별개로 된다.
위상 마스크(53)에 이어서, 대물 및 기준 빔은 제2 편광 스플리터 프리즘 및 제2 푸리에 대물 렌즈(48)을 통해 퍼지게 되어 카드 상에 홀로그램을 생성/재구성/삭제한다. 판독하는 도중에, 홀로그램(9)의 재구성된 화상은 제2 푸리에 대물 렌즈(48)를 통해 화상을 형성하고, 제2 편광 스플리터 프리즘(46)에 의하여 검출기 매트릭스를 향하여 편향된다. 상기 실시예에서 검출기 매트릭스 또는 어레이는 CCD 검출장치 매트릭스(54)에 의하여 달성된다. 편광 스플리터 프리즘 다음에는 직선-원형 및 원형-직선 편광 변형을 각각 실행하는 λ/4 플레이트(55, 56)가 있다. 따라서, λ/4 플레이트(55)를 통과하는 광이 미러(51) 상에서 반사되고, 다시 λ/4 플레이트(55)를 통과하여 이전 상태의 편광에 직각인 직선 편광을 갖는다.
카드(1)에 더 근접한 제2 편광 스플리터 프리즘(46)의 편광층(57)에는, 스플리터층이 없는 작은 중앙 영역(61)이 있다. 이것은 도 9에 또한 도시되어 있다. 이 중앙 영역(61)은 기준 빔(36)의 리드 스루로 작용한다. 이와 같이 대물 빔(35)에 대하여 직교하는 편광을 가진 카드(1)를 향하여 퍼지는 기준 빔(36)은 반사되지 않고 스플리터층(57)을 통과한다. 즉, 기준 빔(36)이 퍼지도록 렌즈에는 별개의 채널이 있고, 이 채널은 두 개의 주요한 요소, 즉 위상 마스크(53) 중앙의 비변형영역(60), 및 편광 스플리터 프리즘(46)의 편광 스플리터층(57)에 형성된 스플리터층이 없는 영역(61)을 포함한다.
회절되지 않고 카드(1)로부터 반사된 기준 빔(36), 및 렌즈면으로부터 반사된 다른 구성품은 λ/4 플레이트를 2회 통과하기 때문에 검출기에 도달하지 않는다. 그러나, 다른 편광 필터를 CCD 검출기 매트릭스(54) 앞에 위치시켜 최종적으로 흩어지는 광을 여과시킬 수 있다.
광 시스템에서 각종 빔의 편광 상태는 다음과 같다:
광은 직선 편광을 가진 레이저(31)로부터 방사된다. 이 편광은 대물 암 및 기준 암 양쪽 모두 직선 편광으로서 초기에는 변하지 않는다.
제1 λ/4 플레이트(55)에 이어서, 광은 원형으로 편광되고, 제1 편광 스플리터 프리즘(45)에 이어서, 대물 빔(35) 및 기준 빔(36)은 서로 직각을 이루어 직선으로 편광된다. 제2 λ/4 플레이트(56) 후에 대물 빔(35) 및 기준 빔(36)은 또한 서로 직각을 이루어 원형으로 편광된다. 홀로그램으로부터 복귀되는 대물 빔(38)은 제2 편광 스플리터 프리즘(46) 후에 직선으로 편광된다.
전술한 바와 같이, 홀로그램(9)의 위치를 결정하기 위하여, 홀로그램 기억 카드(1) 상의 데이터 영역 외측에 위치결정 프레임(11)이 있다. 카드(1)를 삽입할 때, 판독 헤드가 프레임(11)의 위치를 측정하고 이것을 이동하는 도중에 기준 프레임으로 생각한다. 기록될 개별 홀로그램(9)의 위치는 이 프레임(11)에 대하여 결정되고, 판독하는 도중에, 기록된 다른 홀로그램(9)을 프레임(11)에 대하여 검색한다, 이 프레임(11)은 반사 배경에 비반사면을 갖거나, 또는 프레임(11)이 비반사배경없이 반사될 수 있다. 위치결정 프레임(11)을 검색하는 도중에, SLM(44)의 중앙 영역(60)만이 사용된다(도 4b 참조), 중앙 영역(60)의 화소는 위상 마스크(53)의 중앙 영역, 즉 기준 빔(36)이 통과하는 영역 상에 화상을 형성하는 화소이다. 프레임(11)을 검색하는 도중에, 이들 화소는 "온"으로 되고, 즉 완전한 휘도의 광이 화소를 통과한다. 위상 마스크(53)의 중앙 영역에 위상 변화가 없기 때문에, 카드(1) 상에는 예리한 초점(푸리에 피크)이 있게 된다. 이 초점은 SLM(44)의 조사된 중앙 영역(60)에 의하여 결정된다. 이 초점의 직경은 대략 5-10 ㎛이다. 프레임(11)은 다음 방식으로 이 초점에 의하여 검색된다. 프레임(11)을 가로 질러 초점을 이동시킴으로써, 검출기 매트릭스 상에 떨어지는 전체 휘도가 모니터된다. 광 시스템의 초점이 프레임(11)에 도달할 때, CCD(54) 상에 측정된 전체 휘도가 대폭 상승한다(또는 프레임(11) 및 그 배경의 설계에 따라 감소된다). 프레임(11)의 위치는 카드(1)상의 매체(2)의 상이한 점에서 CCD 검출기 매트릭스(54)에 의하여 측정된 최대 전체 휘도에 따라 보다 정확하게(±2 ㎛) 결정될 수 있다.
도 7은 광 카드(1)에 기억된 정보를 판독하는데 사용되는 판독 헤드의 광 시스템을 도시하는 도면이다. 이 시스템은 여러 가지 점에서 도 5에 도시된 시스템과는 상이하다. 먼저, 대물 암이 없고, 따라서 SLM이 없다. 이 광 시스템은 판독에만 사용된다. 둘째, 광 매체에 대하여 광 헤드를 위치결정하는데 별개의 레이저가 사용된다.
기준 빔(36)은 상기 광 시스템에서와 동일한 방식, 즉 중앙 영역(61)이 있는 편광층(57)을 갖는 편광 스플리터 프리즘(46)의 도움으로 홀로그램(9) 상에 결합되고, 여기서 중앙 영역(61)은 편광 성질을 갖고 있지 않다(도 9 참조).
도 7의 광 시스템은 다음과 같이 동작한다:
기준 레이저 모듈(131)은 가우스 빔을 방사하며, 이것은 선택적인 빔 신장기(132)에 의하여 적절한 크기로 신장된다. 이 빔은 적당한 방향으로 직선으로 편광되므로 기준 빔(36)이 스플리터 프리즘(45)의 편광층(53) 상에 반사된다. 기준 빔은 미러(37, 43)에 의하여 기준 애퍼춰(42) 내로 편향된다. 기준 애퍼춰(42)는 사각형 격벽을 갖지만, 다른 형태도 또한 적용가능하다. 일반적으로, 원형 애퍼춰를 또한 사용할 수 있다.
조준된 기준 빔은 구형 렌즈(52)를 가진 푸리에 대물 렌즈(48)의 초점면(153) 내에 집속된다. 렌즈(52)에 이어서 평면 평행 플레이트(143)를 사용하여 기준 빔(36)의 광축을 조정한다. 이것은 평면 평행 플레이트(143)를 약간 기울여서 조정한다. 이와 같은 방식으로 기준 빔(36)의 광축은 보다 정확하게 조정된다.
도 5를 참조하여 기재된 바와 같이 초기 셋업 도중에 프레임(11)을 검색하는데 사용되는 별개의 레이저 다이오드(133)가 있다. 기준 빔(36)은 카드(1)의 매체(2) 상에 집속되지 않기 때문에, 대물 빔이 없는 경우에 렌즈(147)에 의하여 프레임(11)의 평면 상에 집속되는 다른 광원이 필요하다. 애퍼춰(151)는 검색 빔의 빔 크기를 제한한다.
레이저 다이오드(133)의 빔은 적절한 방향으로 직선으로 편광되므로, 검색 빔(35)은 스플리터 프리즘(45)의 편광층(53)을 통하여 전달된다.
검색 빔(35) 및 기준 빔(36)은 편광 스플리터 프리즘(45)과 함께 결합된다. 편광층(53)은 검색 빔(35)을 전달하는 한편, 기준 빔(36)을 카드(1)를 향하여 편향시킨다.
기준 암은 기준 애퍼춰(42)의 화상을 홀로그램(9) 상에 형성하는 4f 광 시스템으로서 실현된다. 이 시스템은 초점 길이가 상이한 두 개의 상이한 푸리에 대물 렌즈를 포함한다. 제1 대물 렌즈(52)는 애퍼춰(42)와 커플링 렌즈(45) 사이에 있는 하나의 렌즈이다. 제2 대물 렌즈는 4f 시스템의 대물/화상 암의 제2 대물 렌즈(48)와 같다. 푸리에 대물 렌즈의 초점 길이를 적합하게 선택함으로써, 기준 애퍼춰가 홀로그램 카드(1) 상에 원하는 크기로 화상이 형성될 수 있다.
기준 빔(36)은 파두면(plane wavefront)이 카드 상에 생성되도록 푸리에 대물 렌즈(28)에 의하여 평행하게 된다. 기준 애퍼춰(12)의 화상은 카드 상의 조리개로서 기능한다.
제1 스플리터 프리즘(45)에 이어서, 검색 빔(35) 및 기준 빔은 제2 스플리터 프리즘(46)을 통과한다(검색 빔은 위치 셋업 도중, 즉 프레임(11)을 찾아서 위치할 때에만 사용된다). 기준 빔은 홀로그램(9)으로부터 반사되고, 홀로그램에 기억된 화상은 재구성된다. 반사된 빔은 제2 스플리터 프리즘(46)을 한 번 더 통과하여, 검출기 매트릭스(54)를 향하여 편향되는 한편, 기준 빔은 편광층(57)의 중앙 영역(61)을 통과한다. 릴레이 렌즈 시스템(141)을 사용하여 검출기 매트릭스(54)를 스플리터 프리즘(46)으로부터 적당한 거리에 위치시킨다.
제2 스플리터 프리즘(46) 하측에는, 직선-원형 편광 변형 및 반대로 원형-직선 편광 변형을 실행하는 λ/4층(56)이 있다. 따라서, 스플리터 프리즘(46)으로부터의 빔은 이전의 편광 방향과 직각으로 직선으로 편광된다.
상기로부터, 도 5에 도시된 셋업과 마찬가지로, 기준 빔(36)에 대한 별개의 채널이 광 시스템 내에 있다.
도 8은 도 5의 시스템과 동일하게 기능하는 광 시스템의 변형 실시예가 도시되어 있는 도면이다. 이 시스템는 대물 빔(35), 및 기준 빔(36) 양자 모두를 포함하지만 데이터 소스는 반사 모드 SLM(144)인 광 시스템이다. 따라서, 대물 빔(36)을 SLM(144)을 통해 시스템 내에 결합시킬 수 없다. 대신에, 이를 위해서는 제1 스플리터 프리즘(45)이 사용된다. 따라서, 기준 빔(36)은 어디에서든지 시스템 내에 결합되어야 한다. 상기 실시예에 있어서는, 이를 위하여 검출기 매트릭스(154)가 사용되었다. 상기 검출기 매트릭스(154)는 기준 빔(36)이 통과할 수 있는 애퍼춰(62)를 중앙 영역에 포함한다. 이것은 공간 여과 요소인 미러(51)를 푸리에면 중 하나에 갖는 8f 시스템이다. 중간 화상면에는 임의의 위상 마스크(53)가 위치되고, 이것은 도 5에 도시된 동일한 기능을 갖는다. 광을 형성하는 빔 중 일부분은 도 8에 도시되어 있지 않다. 동일 참조부호를 갖는 다른 요소는 도 5에 도시된 요소와 기능이 동일하다.
검출기 매트릭스(154)는 도 11에 도시된 구성에 도시된 4개의 각기 다른 사각형 검출기(154A-D)에 의하여 실현된다.
본 발명은 도시된 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 데이터 기억 매체는카드 대신 디스크 또는 테이프일 수 있고, 본 발명에 따른 데이터 식별 방법은 홀로그램이 아닌 광 데이터 기억에도 또한 사용될 수 있다. 2차원 데이터 소스 및 2차원 검출기는 당업자가 분명하게 이해할 수 있는, 예를 들면 데이터 소스로서 마이크로미러, 또는 검출기 매트릭스로서 CMOS 검출기인 다수의 적합한 다른 실시예를 가질 수 있다. 식별 어레이는 사용자 데이터 어레이의 모서리에 배치될 필요는 없고 중앙 위치에 배치될 수 있다. 다른 푸리에면의 공간 여과에 사용되는 애퍼춰는 여러 형상, 즉 사각형, 특히 정사각형, 또는 원형, 6각형 또는 다른 복잡한 형상을 가질 수 있다.

Claims (27)

  1. 적어도 두 가지 상태를 갖는 데이터 마크로 부호화된 데이터가 2차원 매트릭스 구조를 갖는 데이터 소스로 생성되고,
    상기 데이터 소스의 화상은 광 매체 상에 기록되며,
    판독하는 도중에 상기 데이터 소스의 화상은 광학 방법으로 재생되고,
    상기 재생된 화상은 2차원 검출기로 검출되며, 상기 데이터는 검출된 화상의 식별 마크의 도움으로 상기 재생된 화상으로부터 판독되는
    광 데이터 기억 장치의 매체 상에 데이터 마크를 분포시키는 방법에 있어서,
    a. 기록될 데이터는 동일한 상태를 갖는 데이터가 소정 횟수 이상으로 즉시 연속되는 것을 방지하는 코드로 부호화되고,
    b. 데이터 소스 매트릭스에는 소정 크기 및 위치의 어레이가 형성되며, 상기 어레이는 식별 데이터 마크 및 사용자 데이터 마크를 포함하고,
    c. 식별 어레이의 크기는 코드가 데이터 세트 등과 같이 식별 어레이의 데이터 마크와 크기 및 상태가 동일한 데이터 마크를 포함할 수 있는 사용자 데이터 마크를 포함하는 어레이 내에 생성하지 않도록 결정되고,
    d. 식별 어레이는 동일한 상태를 갖는 식별 데이터 마크로 채워지는
    방법.
  2. 제1항에 있어서,
    하나의 데이터 소스 매트릭스 요소의 화상으로서 매체 상에 기록되는 데이터 마크는 그레이 스케일로 부호화된 적어도 2 데이터 비트를 포함하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 따라 기록되는 데이터 마크를 포함하는 매체로부터 데이터를 판독하는 방법에 있어서,
    식별 어레이가 검색되며 그들의 위치가 결정되고,
    상기 데이터 마크를 포함하는 어레이의 위치는 상기 식별 어레이에 대하여 결정되는
    방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 식별 어레이는 상관 결정 방법으로 검색되는 방법.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    1차원을 따르는 검출기의 매트릭스 요소의 개수는 데이터 소스의 매트릭스 요소의 개수의 배수, 바람직하기로는 2-5배가 되도록 선택되는 방법.
  6. 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    데이터를 포함하는 홀로그램은 프레임으로 둘러싸이고,
    상기 프레임을 먼저 검색하고, 상기 프레임의 소정점에 대한 상기 홀로그램의 정확한 위치를 식별하는 식별 어레이를 검색하는
    방법.
  7. 제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    데이터 소스의 매트릭스 요소에 속하는 검출기 매트릭스 요소의 어레이가 식별되고, 이렇게 식별된 어레이 중앙 영역의 검출기 요소 또는 요소들에 의하여 검출되는 값이 판독값으로 되는 방법.
  8. 2차원 데이터 소스의 화상은 광 매체 상의 홀로그램에 기록되고,
    상기 홀로그램은 데이터 소스의 화상과 결합된 푸리에면의 대물 빔과 기준 빔 사이의 간섭으로 인해 생기고,
    상기 기록된 홀로그램은 판독하는 도중에 2차원 검출기로 검출되는
    데이터의 홀로그램 기록 및 판독 방법에 있어서,
    상기 홀로그램의 푸리에면 외에, 화상 셋업에서 다른 푸리에면이 데이터 소스와 홀로그램 사이에 형성되고, 다른 푸리에면 공간 여과가 실행되는
    방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 공간 여과는 애퍼춰로 실행되는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    거울이 다른 푸리에면에 위치되고, 상기 애퍼춰는 거울로 구성되는 방법.
  11. 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다른 푸리에면은 상기 대물 빔에 형성되는 방법.
  12. 데이터의 홀로그램 기록 및 판독 장치에 있어서,
    2차원 데이터 소스, 및
    상기 데이터 소스를 광 매체 상의 대물 빔 및 기준 빔을 통해 화상을 형성하고, 상기 매체 상에 대물 빔과 기준 빔의 간섭을 형성하며, 상기 광 매체는 상기 데이터 소스의 화상과 결합된 푸리에면에 위치되는 광 시스템
    을 갖고,
    상기 홀로그램의 푸리에면 외에, 상기 광 시스템은 데이터 소스와 홀로그램 사이에 다른 푸리에면을 포함하고, 상기 다른 푸리에면에는 공간 여과 수단이 있는
    장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 공간 여과 수단은 애퍼춰인 장치.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서,
    상기 다른 푸리에면에 거울을 포함하고, 상기 애퍼춰는 상기 거울로 구성되는 장치.
  15. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 시스템은 대물로서 상기 데이터 소스에 결합된 다른 화상면을 포함하고, 데이터 소스의 주기 및 데이터 소스의 애퍼춰의 회절로 인한 푸리에 피크를 적어도 부분적으로 중성화하는 중성화 수단을 포함하는 장치.
  16. 제12항에 있어서,
    상기 중성화 수단은 임의의 위상 마스크인 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 기준 빔은 상기 위상 마스크의 중앙에 위치된 영역을 통과하고, 상기 위상 마스크의 영역은 위상 변형이 없는 장치.
  18. 제12항에 있어서,
    상기 광 시스템의 대물 암은 두 개의 동일한 푸리에 렌즈를 포함하는 8f 시스템인 장치.
  19. 제12항에 있어서,
    상기 광 시스템의 기준 암은 두 개의 상이한 푸리에 렌즈를 포함하는 4f 시스템인 장치.
  20. 제12항에 있어서,
    상기 광 시스템은 편광층을 포함하는 편광 스플리터 프리즘을 포함하고, 상기 편광층은 편광 및/또는 스플리팅 성질을 갖지 않은 중앙 영역을 포함하는 장치.
  21. 제8항에 있어서,
    상기 홀로그램의 크기, 즉 데이터 밀도는 다른 푸리에면에 위치된 거울 애퍼춰의 크기 및/또는 기준 애퍼춰의 크기로 조정되는 방법.
  22. 제6항에 있어서,
    상기 데이터 소스의 화상점을 기억 매체 상에 초점을 맞춤으로써 검색 빔이 생성되는 방법.
  23. 제22항에 있어서,
    제17항 및 제20항에 따른 광 시스템을 사용하고, 상기 검색 빔은 상기 위상 마스크의 중앙 영역 및 상기 편광층의 중앙 영역을 통과하는 방법.
  24. 제22항에 있어서,
    상기 위치결정 프레임은 상기 검색 빔의 광 시스템의 푸리에면에 위치되고, 상기 위치결정 프레임의 교차는 상기 반사된 검색 빔의 전체 강도를 모니터링하고, 상기 모니터링된 강도의 예리한 변화를 검출함으로써 검출되는 방법.
  25. 제12항에 있어서,
    상기 광 시스템은 중앙 개구를 가진 검출기 배열을 포함하는 장치.
  26. 제26항에 있어서,
    상기 검출기 배열은 중앙 개구 둘레에 배열된 4개의 사각형 검출기를 포함하는 장치.
  27. 데이터의 홀로그램 판독 장치에 있어서,
    기준 빔을 홀로그램 매체 상에 화상을 형성하고, 데이터 소스의 화상을 광 매체에 기록된 홀로그램으로부터 재구성하며, 상기 데이터 소스의 화상을 검출기 매트릭스 상에 화상을 형성하는 기준 암을 구비한 광 시스템을 갖고,
    상기 광 시스템은 편광층을 가진 편광 스플리터 프리즘을 포함하고,
    상기 편광층은 편광 및/또는 스플리팅 성질을 갖지 않은 중앙 영역을 포함하며,
    상기 기준 빔은 상기 편광층의 중앙 영역을 통과하는
    장치.
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