KR20100111237A - 광조사 장치 - Google Patents
광조사 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100111237A KR20100111237A KR1020100022919A KR20100022919A KR20100111237A KR 20100111237 A KR20100111237 A KR 20100111237A KR 1020100022919 A KR1020100022919 A KR 1020100022919A KR 20100022919 A KR20100022919 A KR 20100022919A KR 20100111237 A KR20100111237 A KR 20100111237A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- condenser
- lamp
- hole
- mirror
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2041—Exposure; Apparatus therefor in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Arrangement Of Elements, Cooling, Sealing, Or The Like Of Lighting Devices (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
Abstract
집광경(2)의 후측에 원통 형상의 정풍판(8)이 장착되고, 이 정풍판(8)에 의해 집광경(2)의 관통 구멍(2a)으로부터 램프(1)를 고정하고 있는 대좌(4)까지의 간격을 좁게 한다. 집광경(2)의 관통 구멍(2a)을 통과하여 집광경(2)의 내측을 향하는 냉각풍(도 2의 (a))은, 이 극간을 통과하여 흐르고, 집광경(2)의 내측을 흘러 램프(1)를 냉각하는 바람의 풍량은 적어진다. 또, 그 만큼, 집광경(2)의 외측을 흐르는 바람(도 2의 (b))의 풍량은 늘어난다. 이것에 의해, 집광경(2)의 외측을 흘러 집광경(2)을 냉각하는 바람의 풍량이 많아져, 집광경(2)의 온도 상승을 적게 할 수 있다. 또, 램프(1)를 냉각하는 바람의 풍량은 적어지므로, 냉각 풍량을 늘려도, 램프(1)가 과냉각이 되는 것을 방지할 수 있다.
Description
도 2는 본 발명의 제1 실시예의 광원부의 확대도이다
도 3은 정풍판의 형상예를 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예의 광원부의 확대도이다. .
도 5는 본 발명의 제2 실시예의 집광경과 통풍 구멍을 가지는 지지판의 사시도이다.
도 6은 지지판의 변형예를 나타낸 도이다.
도 7은 종래의 광조사 장치의 구조의 일례를 나타낸 도이다.
도 8은 도 7에 나타내는 광조사 장치의 광원부의 확대도이다.
2a 관통 구멍 3 집광경 지지판
3a 스프링 3b 통풍 구멍
3c 관통 구멍 4 대좌
5 램프축 조절 기구 6 프레임
7 집광경 지지판 8 정풍판
9 나사 10 광원부
10a 냉각풍 도입구 11 램프 점등 전원
12 케이스 13, 16 평면경
14 인티그레이터 렌즈 15 셔터 기구
17 콜리메이터 렌즈 18 광조사면
19 배기구 20 배기팬
30 광조사 장치
Claims (2)
- 쇼트 아크형의 방전 램프와, 그 램프로부터 방사하는 광을 반사하고 그 반사한 광을 출사하는 개구를 구비한 타원 집광경과, 상기 램프와 상기 집광경을 냉각하는 냉각풍을 상기 집광경의 상기 개구와는 반대의 배후측으로부터 도입하는 냉각풍 도입구와, 상기 냉각풍을 상기 집광경의 상기 개구측으로부터 배기하는 냉각풍 배기구를 구비하고,
상기 집광경에는, 상기 개구와는 반대측에 관통 구멍이 형성되고, 상기 램프는, 그 일단이 상기 관통 구멍을 통하여, 상기 집광경의 배후에 설치된 대좌에 고정되며,
상기 냉각풍은, 상기 집광경의 외측과, 상기 관통 구멍으로부터 들어가 상기 집광경의 내측을 흐르는 광조사 장치에 있어서,
상기 집광경의 관통 구멍의 둘레에, 그 관통 구멍으로부터 상기 집광경의 내측에 흘러드는 냉각 풍량을 제한하는 정풍판(整風板)이 설치되고,
상기 정풍판은, 상기 관통 구멍으로부터 상기 램프를 고정하는 대좌까지의 간격을 좁히는 원통 형상의 부재인 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 집광경의 배후에 집광경을 지지하는 집광경 지지판이 설치되고, 그 지지판에 통풍 구멍이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 광조사 장치.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2009-091716 | 2009-04-06 | ||
| JP2009091716A JP2010244821A (ja) | 2009-04-06 | 2009-04-06 | 光照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100111237A true KR20100111237A (ko) | 2010-10-14 |
Family
ID=42945048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100022919A Withdrawn KR20100111237A (ko) | 2009-04-06 | 2010-03-15 | 광조사 장치 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010244821A (ko) |
| KR (1) | KR20100111237A (ko) |
| CN (1) | CN101859071A (ko) |
| TW (1) | TW201100712A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120089184A (ko) * | 2011-02-01 | 2012-08-09 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 램프 유닛 및 이 램프 유닛을 구비한 광 조사 장치 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5271855B2 (ja) * | 2009-09-24 | 2013-08-21 | 株式会社オーク製作所 | 防風部材を備えた照明装置 |
| CN103836596B (zh) * | 2012-11-22 | 2016-06-01 | 上海微电子装备有限公司 | 一种高功率汞灯灯室装置 |
| JP6523868B2 (ja) * | 2015-08-25 | 2019-06-05 | 株式会社オーク製作所 | 防風部材を備えた照明装置 |
| JP6457162B2 (ja) * | 2017-02-02 | 2019-01-23 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 高圧放電ランプ及び照明装置 |
| JP7516169B2 (ja) * | 2020-09-03 | 2024-07-16 | キヤノン株式会社 | 光源装置、露光装置、及び物品の製造方法 |
-
2009
- 2009-04-06 JP JP2009091716A patent/JP2010244821A/ja active Pending
-
2010
- 2010-03-01 TW TW099105825A patent/TW201100712A/zh unknown
- 2010-03-08 CN CN201010129561A patent/CN101859071A/zh active Pending
- 2010-03-15 KR KR1020100022919A patent/KR20100111237A/ko not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20120089184A (ko) * | 2011-02-01 | 2012-08-09 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 램프 유닛 및 이 램프 유닛을 구비한 광 조사 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101859071A (zh) | 2010-10-13 |
| TW201100712A (en) | 2011-01-01 |
| JP2010244821A (ja) | 2010-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4630182A (en) | Illuminating system | |
| KR20100111237A (ko) | 광조사 장치 | |
| TWI421647B (zh) | 曝光裝置、曝光光束照射方法以及顯示用面板基板的製造方法 | |
| US7841744B2 (en) | Illumination apparatus | |
| US7988301B2 (en) | Heat transfer apparatus | |
| JP3827492B2 (ja) | 放電灯 | |
| KR20110108246A (ko) | 광 조사 장치 | |
| JP2009058924A (ja) | 照明装置 | |
| KR101601006B1 (ko) | 냉기공급 유닛을 구비한 led 광원 노광장치 | |
| KR101591859B1 (ko) | Led 광원 노광장치 | |
| JP2007026517A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JP5847574B2 (ja) | 高速度撮影用照明装置 | |
| US10161618B2 (en) | Stage light fixture | |
| KR20160093415A (ko) | 발광장치 및 이를 가지는 노광장치 | |
| JP2007036007A (ja) | 発光光源 | |
| JP2006142186A (ja) | 紫外線照射装置 | |
| JP5271855B2 (ja) | 防風部材を備えた照明装置 | |
| JPH0555847B2 (ko) | ||
| JPH0546004Y2 (ko) | ||
| JP2004354655A (ja) | 露光用反射鏡及び基板の露光装置 | |
| JP2016051092A (ja) | 画像投影装置 | |
| JP6500392B2 (ja) | 光照射装置 | |
| JP6358012B2 (ja) | 光照射装置 | |
| JP2007292999A (ja) | 露光装置の光源 | |
| TW200916970A (en) | An exposing equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| PC1203 | Withdrawal of no request for examination |
St.27 status event code: N-1-6-B10-B12-nap-PC1203 |
|
| WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid | ||
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| R18 | Changes to party contact information recorded |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-3-3-R10-R18-OTH-X000 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |