KR20130121020A - 정전 척 - Google Patents
정전 척 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20130121020A KR20130121020A KR1020130041512A KR20130041512A KR20130121020A KR 20130121020 A KR20130121020 A KR 20130121020A KR 1020130041512 A KR1020130041512 A KR 1020130041512A KR 20130041512 A KR20130041512 A KR 20130041512A KR 20130121020 A KR20130121020 A KR 20130121020A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- plate
- suction
- electrostatic chuck
- insulator
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/72—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using electrostatic chucks
- H10P72/722—Details of electrostatic chucks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q3/00—Devices holding, supporting, or positioning work or tools, of a kind normally removable from the machine
- B23Q3/15—Devices for holding work using magnetic or electric force acting directly on the work
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02N—ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H02N13/00—Clutches or holding devices using electrostatic attraction, e.g. using Johnson-Rahbek effect
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
Description
도 2a, 도 2b, 도 3a, 도 3b, 도 4 및 도 5는 정전 척의 제조 방법을 나타내는 개략 단면도.
도 6은 전극 단자와 베이스 사이의 절연의 신뢰성의 평가 결과를 나타내는 테이블.
도 7은 정전 척의 종례 예를 나타내는 개략 단면도.
도 8은 도 7의 정전 척에 배치된 전원 공급 유닛의 확대 단면도.
11 : 베이스 플레이트 12 : 점착층
13 : 히터 플레이트 14 : 금속 플레이트
15 : 히터 20 : 점착층
30 : ESC 흡인 플레이트 40 : 흡인 전극
41 : 전극층 42 : 제 1 배선층
43 : 제 2 배선층 50 : 커넥터
51 : 관 52 : 유지부
53 : 탄성 부재 54 : 전원 단자
60 : 절연체 61 : 베이스
62 : 제 1 관 형상부 63 : 제 2 관 형상부
70 : 절연체
Claims (12)
- 두께 방향으로 관통 연장되는 제 1 스루홀(through hole)을 포함하는 베이스,
상기 베이스에 본딩된 정전 척 흡인 플레이트,
상기 정전 척 흡인 플레이트 내에 내장되고, 정전하를 발생시켜 정전 척으로 흡인 대상을 정전기적으로 흡인하는 흡인 전극,
상기 베이스의 상기 제 1 스루홀과 정렬되어 상기 정전 척 흡인 플레이트 내에 형성되고, 상기 흡인 전극을 부분적으로 노출시키는 오목부,
상기 정전 척 흡인 플레이트와 상기 베이스 사이에 형성되고, 상기 오목부의 내면을 덮는 점착층,
상기 오목부 내에 배치되고, 제 2 스루홀을 포함하는 관 형상 절연체, 및
상기 베이스의 상기 제 1 스루홀 및 상기 관 형상 절연체의 상기 제 2 스루홀 내에 배치되고, 상기 오목부로부터 노출된 상기 흡인 전극에 전기적으로 접속되는 선단부를 포함하는 전원 단자를 포함하는 정전 척. - 제 1 항에 있어서,
상기 점착층은 상기 오목부의 내면 전체를 덮는 정전 척. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 절연체는 상기 오목부로부터 노출된 상기 흡인 전극과 접촉하는 선단부를 포함하는 정전 척. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 오목부는 상기 흡인 전극에 인가되는 전압의 값 및 상기 점착층의 브레이크다운(breakdown) 특성에 따라 설정된 깊이를 갖는 정전 척. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착층은 제 1 점착층이고,
상기 절연체는 제 1 절연체이고,
상기 베이스는 베이스 플레이트 및 상기 베이스 플레이트에 제 2 점착층에 의해 본딩된 히터 플레이트를 포함하고,
상기 제 1 스루홀은 상기 베이스 플레이트를 두께 방향으로 관통 연장되는 제 3 스루홀, 및 상기 히터 플레이트를 두께 방향으로 관통 연장되고 상기 제 3 스루홀과 연통하는 제 4 스루홀을 포함하고,
상기 정전 척은, 상기 전원 단자와 상기 히터 플레이트 사이에 배치되며 상기 히터 플레이트에 본딩되는 제 2 절연체를 더 포함하고,
상기 제 1 절연체는 상기 제 2 절연체에 본딩되는 정전 척. - 제 5 항에 있어서,
상기 히터 플레이트는 금속 플레이트 및 상기 금속 플레이트의 표면에 본딩된 히터를 포함하고,
상기 히터는 상기 제 2 점착층에 의해 상기 베이스 플레이트에 본딩되는 정전 척. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 흡인 전극은,
상기 오목부로부터 부분적으로 노출되는 배선층, 및
상기 배선층에 전기적으로 접속되고, 상기 배선층보다 상기 정전 척 흡인 플레이트의 흡인면에 가깝게 형성되는 전극층
을 포함하는 정전 척. - 제 1 항에 있어서,
상기 관 형상 절연체 및 상기 점착층은 상기 오목부 내에 상기 전원 단자를 둘러싸는 2층 절연 구조체를 형성하는 정전 척. - 제 5 항에 있어서,
상기 제 1 절연체, 상기 제 2 절연체, 및 상기 제 1 점착층은 상기 제 4 스루 홀 내에 상기 전원 단자를 둘러싸는 3층 절연 구조체를 형성하는 정전 척. - 제 9 항에 있어서,
상기 제 1 절연체 및 상기 제 1 점착층은 상기 오목부 내에 상기 전원 단자를 둘러싸는 2층 절연 구조체를 형성하는 정전 척. - 흡인면 및 상기 흡인면에 반대측인 비흡인면을 포함하는 정전 척 흡인 플레이트,
상기 정전 척 흡인 플레이트의 상기 비흡인면에 본딩된 금속 플레이트를 포함하는 베이스,
상기 정전 척 흡인 플레이트 내에 배치되고 상기 비흡인면으로부터 이격된 흡인 전극,
상기 베이스에 고정되는 기단부, 및 상기 베이스 및 상기 정전 척 흡인 플레이트를 통해 상기 흡인 전극과 접촉하는 가늘고 긴 선단 단자를 포함하는 소켓,
상기 정전 척 흡인 플레이트 내의 상기 선단 단자를 둘러싸는 2층 절연 구조체, 및
상기 베이스의 상기 금속 플레이트 내의 상기 선단 단자를 둘러싸는 3층 절연 구조체를 포함하는 정전 척. - 제 11 항에 있어서,
상기 정전 척 흡인 플레이트와 상기 금속 플레이트를 본딩하는 절연용 점착층을 더 포함하고,
상기 정전 척 흡인 플레이트 내의 상기 2층 절연 구조체는, 상기 정전 척 흡인 플레이트 내에 형성된 오목부 내에 배치되는 관 형상 절연 부재, 및 상기 오목부의 내면을 덮는 상기 절연용 점착층을 포함하고,
상기 금속 플레이트 내의 상기 3층 절연 구조체는, 상기 관 형상 절연체, 상기 금속 플레이트 내에 형성된 스루홀 내에서 상기 관 형상 절연체의 외측에 배치되는 절연용 관 형상부, 및 상기 관 형상 절연체와 상기 절연용 관 형상부를 본딩하는 상기 절연용 점착층의 관 형상 부분을 포함하는 정전 척.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2012-100925 | 2012-04-26 | ||
| JP2012100925A JP6006972B2 (ja) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 静電チャック |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20130121020A true KR20130121020A (ko) | 2013-11-05 |
| KR102092094B1 KR102092094B1 (ko) | 2020-03-23 |
Family
ID=49477074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020130041512A Active KR102092094B1 (ko) | 2012-04-26 | 2013-04-16 | 정전 척 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9240340B2 (ko) |
| JP (1) | JP6006972B2 (ko) |
| KR (1) | KR102092094B1 (ko) |
| TW (1) | TWI587441B (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150135071A (ko) * | 2014-05-22 | 2015-12-02 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 정전척 및 반도체·액정 제조장치 |
| KR20200131668A (ko) * | 2019-05-14 | 2020-11-24 | 주식회사 동탄이엔지 | 절연 저항이 우수한 정전척 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5829509B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2015-12-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 載置台及びプラズマ処理装置 |
| US9101038B2 (en) | 2013-12-20 | 2015-08-04 | Lam Research Corporation | Electrostatic chuck including declamping electrode and method of declamping |
| JP5811513B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-11 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| JP6219227B2 (ja) * | 2014-05-12 | 2017-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | ヒータ給電機構及びステージの温度制御方法 |
| JP6308871B2 (ja) | 2014-05-28 | 2018-04-11 | 新光電気工業株式会社 | 静電チャック及び半導体・液晶製造装置 |
| JP6433204B2 (ja) * | 2014-09-01 | 2018-12-05 | 株式会社ディスコ | 静電支持プレート及び静電支持プレートの製造方法 |
| US10002782B2 (en) | 2014-10-17 | 2018-06-19 | Lam Research Corporation | ESC assembly including an electrically conductive gasket for uniform RF power delivery therethrough |
| JP6572788B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2019-09-11 | 住友大阪セメント株式会社 | 静電チャック装置 |
| JP6238098B1 (ja) * | 2016-07-20 | 2017-11-29 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| WO2018016588A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| WO2018016587A1 (ja) * | 2016-07-20 | 2018-01-25 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| JP6238097B1 (ja) * | 2016-07-20 | 2017-11-29 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| US10388558B2 (en) * | 2016-12-05 | 2019-08-20 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus |
| JP6758175B2 (ja) * | 2016-12-21 | 2020-09-23 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
| JP7014821B2 (ja) * | 2018-01-29 | 2022-02-01 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
| JP7090481B2 (ja) * | 2018-06-15 | 2022-06-24 | 新光電気工業株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP2020061445A (ja) * | 2018-10-09 | 2020-04-16 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
| WO2020111194A1 (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
| JP7586682B2 (ja) * | 2020-10-07 | 2024-11-19 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
| JP7550685B2 (ja) | 2021-03-17 | 2024-09-13 | 新光電気工業株式会社 | 静電チャック及び基板固定装置 |
| JP7797762B2 (ja) * | 2021-08-25 | 2026-01-14 | 新光電気工業株式会社 | 基板固定装置 |
| JP7554171B2 (ja) * | 2021-10-19 | 2024-09-19 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
| US20250273498A1 (en) * | 2024-02-23 | 2025-08-28 | Applied Materials, Inc. | Embedded electrostatic chuck (esc) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000188321A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-07-04 | Applied Materials Inc | 静電チャックコネクタとそのコンビネ―ション |
| JP2003060016A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-28 | Applied Materials Inc | 電流導入端子及び半導体製造装置 |
| JP2003115529A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チャック装置、その組立方法および静電チャック装置用部材 |
| JP2011091297A (ja) * | 2009-10-26 | 2011-05-06 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 静電チャック |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3238925B2 (ja) * | 1990-11-17 | 2001-12-17 | 株式会社東芝 | 静電チャック |
| JP2003197727A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-11 | Kyocera Corp | ウエハ載置ステージ |
| JP2006344613A (ja) | 2003-06-24 | 2006-12-21 | Shin-Etsu Engineering Co Ltd | 基板貼り合わせ装置 |
| US8038796B2 (en) | 2004-12-30 | 2011-10-18 | Lam Research Corporation | Apparatus for spatial and temporal control of temperature on a substrate |
-
2012
- 2012-04-26 JP JP2012100925A patent/JP6006972B2/ja active Active
-
2013
- 2013-04-16 KR KR1020130041512A patent/KR102092094B1/ko active Active
- 2013-04-16 US US13/863,870 patent/US9240340B2/en active Active
- 2013-04-18 TW TW102113700A patent/TWI587441B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000188321A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-07-04 | Applied Materials Inc | 静電チャックコネクタとそのコンビネ―ション |
| JP2003060016A (ja) * | 2001-07-31 | 2003-02-28 | Applied Materials Inc | 電流導入端子及び半導体製造装置 |
| JP2003115529A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 静電チャック装置、その組立方法および静電チャック装置用部材 |
| JP2011091297A (ja) * | 2009-10-26 | 2011-05-06 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 静電チャック |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150135071A (ko) * | 2014-05-22 | 2015-12-02 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 정전척 및 반도체·액정 제조장치 |
| KR20200131668A (ko) * | 2019-05-14 | 2020-11-24 | 주식회사 동탄이엔지 | 절연 저항이 우수한 정전척 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TWI587441B (zh) | 2017-06-11 |
| JP2013229464A (ja) | 2013-11-07 |
| KR102092094B1 (ko) | 2020-03-23 |
| TW201347082A (zh) | 2013-11-16 |
| US9240340B2 (en) | 2016-01-19 |
| JP6006972B2 (ja) | 2016-10-12 |
| US20130286531A1 (en) | 2013-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102092094B1 (ko) | 정전 척 | |
| CN111226309B (zh) | 静电卡盘组件、静电卡盘及聚焦环 | |
| TWI564991B (zh) | Electrostatic sucker | |
| JP6758175B2 (ja) | 静電チャック | |
| US10147628B2 (en) | Electrostatic chuck and semiconductor-liquid crystal manufacturing apparatus | |
| JP5117146B2 (ja) | 加熱装置 | |
| JP2019009270A (ja) | 基板固定装置 | |
| JP2007258615A (ja) | 静電チャック | |
| JP2018060833A (ja) | 静電チャック、基板固定装置 | |
| TW201816931A (zh) | 基板固定裝置 | |
| JP2008305968A (ja) | ウェハ保持体の電極接続構造 | |
| US9673079B2 (en) | Clamp with electrode carrier disk | |
| JP2018060834A (ja) | 静電チャック、基板固定装置 | |
| KR102203859B1 (ko) | 절연 저항이 우수한 정전척 | |
| US10847401B2 (en) | Wafer holding apparatus and baseplate structure | |
| KR102219255B1 (ko) | 개량된 절연 부재를 포함하는 정전척 | |
| JP6475032B2 (ja) | 静電チャック | |
| KR20070069463A (ko) | 정전척 및 히터 | |
| US12176238B1 (en) | Cryogenic susceptor and electric connector assembly used therein | |
| TWI850832B (zh) | 靜電吸盤 | |
| TW202538971A (zh) | 基板固定裝置 | |
| JP4323746B2 (ja) | 半導体ウエハの補強プレート | |
| JP2009246325A (ja) | 静電チャック | |
| JP2026053769A (ja) | 静電チャック | |
| JP2024131204A (ja) | 保持装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |