KR20140012224A - 투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 - Google Patents
투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140012224A KR20140012224A KR1020120077782A KR20120077782A KR20140012224A KR 20140012224 A KR20140012224 A KR 20140012224A KR 1020120077782 A KR1020120077782 A KR 1020120077782A KR 20120077782 A KR20120077782 A KR 20120077782A KR 20140012224 A KR20140012224 A KR 20140012224A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- solar cell
- layer
- amorphous silicon
- transparent conductive
- intermediate layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 107
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 44
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims abstract description 30
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 236
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- -1 poly (3-hexylthiophene-2,5-diyl) Polymers 0.000 claims description 21
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 16
- 239000011529 conductive interlayer Substances 0.000 claims description 12
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 12
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 12
- RGZQGGVFIISIHZ-UHFFFAOYSA-N strontium titanium Chemical compound [Ti].[Sr] RGZQGGVFIISIHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- NPNMHHNXCILFEF-UHFFFAOYSA-N [F].[Sn]=O Chemical compound [F].[Sn]=O NPNMHHNXCILFEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 9
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 8
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 claims description 8
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 7
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000280 Poly(3-octylthiophene) Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 6
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 claims description 6
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 claims description 6
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 6
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 claims description 5
- PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=CC2=NSN=C21 PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NUCIQEWGTLOQTR-UHFFFAOYSA-N 4,4-bis(2-ethylhexyl)-4h-cyclopenta[1,2-b:5,4-b']dithiophene Chemical compound S1C=CC2=C1C(SC=C1)=C1C2(CC(CC)CCCC)CC(CC)CCCC NUCIQEWGTLOQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AZSFNTBGCTUQFX-UHFFFAOYSA-N C12=C3C(C4=C5C=6C7=C8C9=C(C%10=6)C6=C%11C=%12C%13=C%14C%11=C9C9=C8C8=C%11C%15=C%16C=%17C(C=%18C%19=C4C7=C8C%15=%18)=C4C7=C8C%15=C%18C%20=C(C=%178)C%16=C8C%11=C9C%14=C8C%20=C%13C%18=C8C9=%12)=C%19C4=C2C7=C2C%15=C8C=4C2=C1C12C3=C5C%10=C3C6=C9C=4C32C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C12=C3C(C4=C5C=6C7=C8C9=C(C%10=6)C6=C%11C=%12C%13=C%14C%11=C9C9=C8C8=C%11C%15=C%16C=%17C(C=%18C%19=C4C7=C8C%15=%18)=C4C7=C8C%15=C%18C%20=C(C=%178)C%16=C8C%11=C9C%14=C8C%20=C%13C%18=C8C9=%12)=C%19C4=C2C7=C2C%15=C8C=4C2=C1C12C3=C5C%10=C3C6=C9C=4C32C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 AZSFNTBGCTUQFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- 229920000109 alkoxy-substituted poly(p-phenylene vinylene) Polymers 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims description 3
- YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N gallium tin Chemical compound [Ga].[Sn] YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 229920000264 poly(3',7'-dimethyloctyloxy phenylene vinylene) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 claims 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920000329 polyazepine Polymers 0.000 description 2
- 229920001088 polycarbazole Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical group [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-NJFSPNSNSA-N silicon-30 atom Chemical compound [30Si] XUIMIQQOPSSXEZ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
- H10K30/57—Photovoltaic [PV] devices comprising multiple junctions, e.g. tandem PV cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/17—Photovoltaic cells having only PIN junction potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/19—Photovoltaic cells having multiple potential barriers of different types, e.g. tandem cells having both PN and PIN junctions
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/20—Electrodes
- H10F77/244—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. transparent conductive oxide [TCO] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K30/00—Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
- H10K30/80—Constructional details
- H10K30/81—Electrodes
- H10K30/82—Transparent electrodes, e.g. indium tin oxide [ITO] electrodes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 실시예 1과 비교예 1, 2, 3, 4에 따른 적층형 태양전지와 단일 전지의 광전변환 특성을 보여주는 전류밀도-전압 곡선을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1의 투명 전도성 중간층으로 사용된 ITO의 박막 두께가 10 nm와 50 nm 일 때 각각의 광학특성으로서 광투과도와 전기적 특성으로서 면저항 값을 나타낸 것이다.
| JSC(mA/cm2) | VOC(V) | FF | PCE(%) | ||
| a-Si front cell | 비교예2 | 7.71 | 0.906 | 0.71 | 4.93 |
| OPV | 비교예3 | 7.23 | 0.670 | 0.37 | 1.80 |
| OPV back cell | 비교예4 | 2.43 | 0.634 | 0.39 | 0.61 |
| Tandem w/o ITO | 비교예1 | 2.24 | 1.254 | 0.30 | 0.84 |
| Tandem w/ ITO | 실시예1 | 4.46 | 1.443 | 0.37 | 2.38 |
20: p형 비정질 실리콘
30: n형 비정질 실리콘
40: i형 비정질 실리콘
50: 투명 전도성 중간층
60: 정공 수송층
70: 유기 광활성층
80: 전자 수송층
90: 전극
Claims (18)
- 비정질 실리콘 태양전지와 유기 태양전지를 결합한 적층형 태양전지에 있어서,
비정질 실리콘층과 유기 광활성층 사이에 투명 전도성 중간층을 포함하며, 상기 투명 전도성 중간층의 빛 투과도는 700 nm 파장에서 60% 이상인 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 투명 전도성 중간층은 비저항(resistivity)이 10-1 내지 10-6 ohm·cm이거나 또는 면저항(Sheet resistance)이 1 ohm/sq 내지 100 Mohm/sq인 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 투명 전도성 중간층의 평균 두께는 0.1 nm 내지 1 mm인 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 투명 전도성 중간층은 타이타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 스트론튬(Sr), 징크(Zn), 인듐(In), 란타넘(La), 바나듐(V), 몰리브데넘(Mo), 텅스텐(W), 틴(Sn), 나이오븀(Nb), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 바륨(Ba), 알루미늄(Al), 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 사마륨(Sm), 갈륨(Ga), 플로오르(F), 및 스트론튬타이타늄(SrTi)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속, 이들 금속의 산화물, 이들의 합금, 복합 산화물 또는 이들의 나노입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제4항에 있어서,
상기 투명 전도성 중간층은 인듐 틴 옥사이드(ITO), 플루오린 틴 옥사이드(FTO), 안티모니 틴 옥사이드(ATO, SnO2-Sb2O3), 갈륨 틴 옥사이드(GTO), ZnO-Ga2O3 또는 ZnO-Al2O3 중에서 선택된 1종 이상의 금속산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 유기 광활성층은 1종 이상의 공액 고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제6항에 있어서,
상기 공액 고분자는 폴리(3-헥실티오펜-2,5-디일)(P3HT), [6,6]-페닐-C61- 부티릭산 메틸에스테르(PCBM), 폴리(3-옥틸티오펜-2,5-디일)(P3OT), 폴리(3-알킬티오펜)(P3AT), 폴리(2-메톡시-5-(2-에틸헥실옥시)-1,4-(페닐렌비닐렌) (MEH-PPV) 및 폴리[2-메톡시-5-(3',7'-디메틸옥틸옥시)]-1,4-페닐렌비닐렌) (MDMO-PPV), 폴리[2,6-(4,4-비스-(2-에틸헥실)-4H-시클로펜타[2,1-b;3,4-b']-다이싸이오펜)-alt-4,7-(2,1,3-벤조싸이아다이아졸)] (PCPDTBT), 폴리[싸이아노(3,4-b)싸이오펜- 벤조다이 싸이오펜](PTB), 폴리[4,8-비스-벤조[1,2-b:4,5-b0]다이싸이오펜-2,6-다이일-alt-4-싸이아노[3,4-b]싸이오펜-2,6-다이일](PBDTTT) 중에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제6항에 있어서,
상기 유기 광활성층은 [6,6]-페닐-C61-부티르산 메틸 에스테르(PCBM), 페닐 C61-부티르산 메틸 에스테르의 이부가체(bisPCBM), [6,6]-페닐-C71-부티르산 메틸 에스테르(PC[71]BM), 인덴-C60 이부가체(ICBA) 계열의 플러렌 유도체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 비정질 실리콘층, 투명 전도성 중간층, 또는 유기 광활성층 중 어느 한 층이 1회 이상 반복하여 형성되는 다층구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제1항에 있어서,
전도성 기판 위에 형성된 p형 비정질 실리콘층;
상기 p형 비정질 실리콘층 위에 형성된 i형 비정질 실리콘층;
상기 i형 비정질 실리콘층 위에 형성된n형 비정질 실리콘층;
상기 n형 비정질 실리콘층 위에 형성된 투명 전도성 중간층;
상기 투명 전도성 중간층 위에 형성된 정공 수송층;
상기 정공 수송층 위에 형성된 유기 광활성층;
상기 유기 광활성층 위에 형성된 전자 수송층;
상기 전자 수송층 위에 형성된 금속 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제10항에 있어서,
상기 정공수송층은 PEDOT:PSS(폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)-폴리(스타이렌 설포네이트)), 폴리아닐린 또는 폴리피롤 중에서 선택된 1종 이상의 전도성 고분자 또는 CuO, NiO, MoO3, WO3 중에서 1종 이상 선택된 전도성 무기물을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제10항에 있어서,
상기 전자 수송층은 타이타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 스트론튬(Sr), 징크(Zn), 인듐(In), 란타넘(La), 바나듐(V), 몰리브데넘(Mo), 텅스텐(W), 틴(Sn), 나이오븀(Nb), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 바륨(Ba), 알루미늄(Al), 이트륨(Y), 스칸듐(Sc), 사마륨(Sm), 갈륨(Ga), 플로오르(F), 및 스트론튬타이타늄(SrTi)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속, 이들 금속의 산화물, 이들의 합금, 복합 산화물 또는 이들의 나노입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제10항에 있어서,
상기 금속 전극은 Al, Ca, Mg, Au, Ag 중에서 선택된 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제10항에 있어서,
상기 기판은 플라스틱 기판, 유리 기판, 석영 기판, 실리콘 기판, 금속 기판 또는 갈륨 비소 기판 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 제14항에 있어서,
상기 플라스틱 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에테르술폰, 방향족 폴리에스테르 및 폴리이미드 중에서 선택된 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지. - 비정질 실리콘 태양전지와 유기 태양전지를 결합한 적층형 태양전지의 제조 방법에 있어서,
비정질 실리콘층과 유기 광활성층 사이에 투명 전도성 중간층을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 투명 전도성 중간층은 인듐 틴 옥사이드(ITO), 플루오린 틴 옥사이드(FTO), ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3, SnO2-Sb2O3 중에서 선택된 투명 전도성 물질을 스퍼터링(sputtering) 방법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지의 제조 방법. - 제16항에 있어서,
상기 투명 전도성 중간층은 비저항(resistivity)이 10-1 내지 10-6 ohm·cm 또는 면저항(Sheet resistance)이 1 ohm/sq 내지 100 Mohm/sq이며, 빛 투과도는 700 nm 파장에서 60% 이상인 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지의 제조 방법. - 제16항에 있어서,
(a) 전도성 기판 위에 p형 비정질 실리콘층을 형성하는 단계;
(b) 상기 p형 비정질 실리콘층 위에 i형 비정질 실리콘층을 형성하는 단계;
(c) 상기 i형 비정질 실리콘층 위에n형 비정질 실리콘층을 형성하는 단계;
(d) 상기 n형 비정질 실리콘층 위에 투명 전도성 중간층을 형성하는 단계;
(e) 상기 투명 전도성 중간층 위에 정공 수송층을 형성하는 단계;
(f) 상기 정공 수송층 위에 유기 광활성층을 형성하는 단계;
(g) 상기 유기 광활성층 위에 전자 수송층을 형성하는 단계 및
(h) 상기 전자 수송층 위에 금속 전극층을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 투명 전도성 중간층은 인듐 틴 옥사이드(ITO), 플루오린 틴 옥사이드(FTO), ZnO-Ga2O3, ZnO-Al2O3, SnO2-Sb2O3 중에서 선택된 금속산화물을 스퍼터링(sputtering) 방법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 적층형 태양전지의 제조 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120077782A KR20140012224A (ko) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | 투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120077782A KR20140012224A (ko) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | 투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140012224A true KR20140012224A (ko) | 2014-02-03 |
Family
ID=50263177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020120077782A Ceased KR20140012224A (ko) | 2012-07-17 | 2012-07-17 | 투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20140012224A (ko) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101537223B1 (ko) * | 2014-05-02 | 2015-07-16 | 선문대학교 산학협력단 | 유기-무기 하이브리드 박막 태양전지 |
| CN114068750A (zh) * | 2020-07-31 | 2022-02-18 | 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司 | 钙钛矿/硅异质结双面叠层太阳能电池及其制备方法和太阳能系统 |
| CN114512508A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-05-17 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种基于钙钛矿/TOPCon的叠层太阳能电池及其制备方法 |
| CN115188838A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-10-14 | 华中科技大学 | 一种硒化镉/晶硅串联集成太阳能电池及其制备方法 |
| CN116669439A (zh) * | 2023-07-31 | 2023-08-29 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 太阳能电池及其制备方法、光伏组件和光伏装置 |
| WO2025208873A1 (zh) * | 2024-04-03 | 2025-10-09 | 天合光能股份有限公司 | 叠层太阳能电池及其制备方法和应用 |
-
2012
- 2012-07-17 KR KR1020120077782A patent/KR20140012224A/ko not_active Ceased
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101537223B1 (ko) * | 2014-05-02 | 2015-07-16 | 선문대학교 산학협력단 | 유기-무기 하이브리드 박막 태양전지 |
| CN114068750A (zh) * | 2020-07-31 | 2022-02-18 | 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司 | 钙钛矿/硅异质结双面叠层太阳能电池及其制备方法和太阳能系统 |
| CN114512508A (zh) * | 2021-12-31 | 2022-05-17 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种基于钙钛矿/TOPCon的叠层太阳能电池及其制备方法 |
| CN115188838A (zh) * | 2022-06-28 | 2022-10-14 | 华中科技大学 | 一种硒化镉/晶硅串联集成太阳能电池及其制备方法 |
| CN116669439A (zh) * | 2023-07-31 | 2023-08-29 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 太阳能电池及其制备方法、光伏组件和光伏装置 |
| CN116669439B (zh) * | 2023-07-31 | 2024-04-12 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 太阳能电池及其制备方法、光伏组件和光伏装置 |
| WO2025208873A1 (zh) * | 2024-04-03 | 2025-10-09 | 天合光能股份有限公司 | 叠层太阳能电池及其制备方法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101117127B1 (ko) | 비정질 실리콘 태양전지와 유기 태양전지를 이용한 탠덤형 태양전지 | |
| Ke et al. | Efficient fully-vacuum-processed perovskite solar cells using copper phthalocyanine as hole selective layers | |
| KR101310058B1 (ko) | 역구조 유기 태양전지 및 그 제조방법 | |
| Sista et al. | High-efficiency polymer tandem solar cells with three-terminal structure | |
| KR101645872B1 (ko) | 유-무기 하이브리드 태양 전지 | |
| Li et al. | Design of the solution-processed intermediate layer by engineering for inverted organic multi junction solar cells | |
| US20110297216A1 (en) | Organic solar cell and method of manufacturing the same | |
| WO2014007867A1 (en) | Semi-transparent, transparent, stacked and top-illuminated organic photovoltaic devices | |
| KR101389381B1 (ko) | 수명이 향상된 유·무기 복합 탠덤 태양전지 및 이의 제조방법 | |
| KR100927721B1 (ko) | 광전변환소자 및 이의 제조방법 | |
| US20110030782A1 (en) | Solar cell and method for manufacturing the same | |
| WO2019243864A1 (en) | Organic solar module and/or fabrication method | |
| KR20140012224A (ko) | 투명 전도성 중간층을 포함하는 적층형 태양전지 및 그 제조방법 | |
| KR100971113B1 (ko) | 소자 면적분할을 통해 광전변환효율이 향상된 유기광전변환소자를 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된유기 광전변환소자 | |
| JP2012099592A (ja) | 有機光電変換素子、太陽電池およびその製造方法 | |
| KR20230159925A (ko) | 탠덤 태양전지 및 이의 제조방법 | |
| KR102032012B1 (ko) | 유기 전자소자, 태양전지 및 그의 제조방법 | |
| Park et al. | Water-processable electron-collecting layers of a hybrid poly (ethylene oxide): Caesium carbonate composite for flexible inverted polymer solar cells | |
| bin Mohd Yusoff et al. | Extremely stable all solution processed organic tandem solar cells with TiO 2/GO recombination layer under continuous light illumination | |
| KR20150121673A (ko) | 적층형 유기태양전지 | |
| KR20170040708A (ko) | 양면 투명전극을 활용한 높은 내구성을 가지는 유-무기 하이브리드 태양전지 및 이의 제조 방법 | |
| KR101434090B1 (ko) | 세슘카보네이트가 블랜딩된 산화아연 전자수송층이 구비된 유기 태양전지 및 그의 제조방법 | |
| KR102072680B1 (ko) | 유기 태양 전지 | |
| KR102286258B1 (ko) | 페로브스카이트 구조의 물질층의 상부 및 하부 양면에 형성된 초박막 폴리머 박막층을 구비하는 태양 전지, 정구조의 태양전지, 역구조의 태양전지, 반도체 소자 및 이의 제조방법 | |
| KR20110123484A (ko) | 유기 태양 전지 및 그 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20120717 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20131123 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20140829 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20131123 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |