KR20150106573A

KR20150106573A - 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체의 제조 방법

Info

Publication number: KR20150106573A
Application number: KR1020140028790A
Authority: KR
Inventors: 유중환; 신지혜
Original assignee: 한국세라믹기술원
Priority date: 2014-03-12
Filing date: 2014-03-12
Publication date: 2015-09-22

Abstract

본 발명은 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체를 제조하는 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 고굴절 나노 무기물 전구체를 다양한 벤조산 화합물을 이용하여 균일하게 혼합하여 혼합물에 용매를 첨가하고, 일정한 반응 온도에서 산수용액을 첨가한 후, 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계를 통해 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체 제조 방법을 제공한다.
본 발명을 통해서 발명의 조성물은 얇은 필름으로 구성될 수 있으며, 고 강도, 고 내열성, 고 투명성 및 내구성이 우수하고, 높은 굴절률을 필요로 하는 광학 재료에 제공될 수 있다. 이와 같은 본 발명의 광학 재료는 프리즘 시트 및 다양한 전기, 전자, 광 기능성 막에 효과적으로 적용이 가능한 이점이 있으며, 특히, 습식공정을 통한 저가 대량생산의 적용가능성이 매우 높은 이점이 있다.

Description

고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체의 제조 방법 {PROCESS FOR PREPARATION ORGANIC-INORGANIC COMPOSITE CONTAINING HIGH REFRACTIVE INDEX NANO CERAMIC MATERIAL}

본 발명은 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체 제조 방법에 관한 것으로. 더욱 상세하게는 고굴절률을 갖는 나노 무기물 전구체에 다양한 벤조산 화합물을 첨가 후 결합시켜 고굴절 나노 세라믹 입자가 반응 결합된 유무기 복합체 제조하는 기술에 관한 것이다.

일반적으로, 무기물은 고굴절성, 고유전성, 내화학성, 높은 기계적 물성 및 내열특성 등과 같은 우수한 물성을 지니고 있으므로 광학재료, 전기전자재료, 구조재료, 보호용 코팅재료 등과 같은 분야에서 폭넓게 활용 되어지고 있으며, 이러한 우수한 물성을 지니는 무기소재들에 대한 연구가 활발히 진행 중에 있다.

특히, 최근 전기전자 및 정보용 소자의 효율 향상을 위해서 투명도가 유지되면서 고굴절률을 지니는 소재의 요구가 많아지고 있는 실정이며 이를 위해 고굴절 무기소재에 대한 연구가 활발히 진행 중에 있다.

기존의 고굴절률 무기물 소재의 경우 소결과 같은 고온 열처리 공정을 통해 무기물 내부구조의 치밀화와 결정성의 제어를 통해 높은 굴절률을 얻을 수는 있지만, 대체적으로 수백 마이크로 이상의 큰 입자의 제조 및 건식공정을 통한 벌크상태로의 적용이 대부분을 차지함으로 투과도는 매우 떨어지고 있는 실정이며 코팅막 제조의 액상소재로는 많은 한계를 지니고 있다.

따라서, 기존의 고굴절률 무기소재의 장점인 높은 굴절률의 큰 저하없이 기계적, 열적, 화학적 우수성, 고순도를 지니며, 입자 사이즈가 굉장히 작은 무기물 나노졸의 연구에 대한 요구가 증가 되고 있으며, 이러한 요구조건을 충족시키기 위해서, 고순도를 지니는 고굴절 무기물 나노졸의 제조가 매우 중요한 문제로 인식되며 현재 활발한 연구가 진행 중에 있다.

일반적으로, 고굴절 무기물 졸은 수용액 상에서 고굴절을 지니는 무기물 전구체에 촉매를 첨가하여 교반을 통해 제조가 되며, 무기물 전구체 농도, 온도, 용매, 촉매의 종류와 같은 여러 반응조건들에 따라 입자 사이즈, 입자 형성, 결정도, 분산 안정도를 제어할 수 있다.

하지만, 상기 공정을 통해 제조된 고굴절 무기물 졸은 상이 다소 불안정하고 무기물 결정의 함량이 낮아서 실제적으로 고굴절을 지니면서 균일한 막을 제조하기 위해 요구되는 충분한 고형분, 균일한 입자 분포, 기판 및 입자간 결합력 등과 같은 물성이 부족하여 실제적용에는 문제점이 있다.

또한, 수많은 고분자 유기 폴리머들은 높은 광학적 투명성과 처리의 용이함을 제공하지만 고 굴절률은 제공하지 않는다.

따라서, 고분자가 가지는 열 및 기계적 불안정으로 인한 장기 신뢰성 한계에 대한 문제점과 무기물 자체가 지니는 취성으로 인한 기계적 약점을 극복하기 위하여 최근들어 전기전자, 에너지, 광 등을 포함하는 산업분야에서 저가의 습식공정을 적용한 유기-무기 복합체에 대한 연구가 많이 진행되고 있지만, 무기물과 유기물의 표면특성의 차이로 인해 많은 양의 무기물 혼합이 원천적으로 한계가 있을 뿐 아니라 이종재료의 혼합시 상분리 또는 무기입자의 침전 등으로 투명하고 안정한 소재를 제조하기 힘들뿐 아니라 공정 후 기판 및 막에서 여러 가지 결함 등이 발견되는 한계를 지니고 있다.

본 발명은 유연성과 고굴절률의 상반되는 기능을 겸비하고, 또한 투명성이 높은 광학 재료를 실현할 수 있는 유무기 복합체를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 나아가서는, 기재 등의 보강재를 사용하지 않아도 자립적으로 형상을 유지할 수 있고, 최종 제품의 설계 자유도를 확대하며, LED등의 광원의 개수를 저감시켜, 소비 전력의 저감과 저비용화를 달성할 수 있게 하는 도광 시트나 광 전송 등에 사용 가능한 유연하고 고굴절률 또한 고투명성의 시트 등의 광학 재료를 실현할 수 있는 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체 제조 방법을 제공하고자 한다.

본 발명은 고굴절 나노 세라믹 전구체 및 벤조산 화합물을 혼합하는 단계; 및 상기 혼합물에 산 성분을 50 ℃ 내지 100 ℃에서 첨가하고, 1 내지 5 시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계;를 포함하는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법을 제공한다.

본 발명은 또한, 상기 방법으로 제조된 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제공한다.

본 발명은 또한, 상기 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 포함하는 고분자 필름을 제공한다.

이하, 발명의 구체적인 구현예에 따른 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법 및 이로부터 제조되는 유무기 복합체, 이를 포함하는 고분자 필름에 대하여 상세하게 설명하기로 한다. 다만, 이는 발명의 하나의 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 발명의 권리범위가 한정되는 것은 아니며, 발명의 권리범위 내에서 구현예에 대한 다양한 변형이 가능함은 당업자에게 자명하다.

본 명세서 전체에서 특별한 언급이 없는 한 "포함" 또는 "함유"라 함은 어떤 구성 요소(또는 구성 성분)를 별다른 제한 없이 포함함을 지칭하며, 다른 구성 요소(또는 구성 성분)의 부가를 제외하는 것으로 해석될 수 없다.

발명의 일 구현예에 있어서, 본 발명은 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제조하는 방법을 제공한다. 상기 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법은 고굴절 나노 세라믹 전구체 및 벤조산 화합물을 혼합하는 단계; 및 상기 혼합물에 산 성분을 50 ℃ 내지 100 ℃에서 첨가하고, 1 내지 5 시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계;를 포함한다.

본 발명은 고굴절 나노 무기물 전구체를 다양한 벤조산 화합물을 이용하여 균일하게 혼합하고, 상기 혼합물에 용매를 첨가한 후 50 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 산 수용액을 첨가하여 1 시간 내지 5 시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계를 통해 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 효과적으로 제조할 수 있다. 예컨대, 본 발명은 고굴절 나노 무기물 전구체를 다양한 벤조산 화합물을 이용하여 균일하게 혼합하는 단계; 상기 혼합물에 용매를 첨가하고, 일정한 반응 조건에서 나노 무기물과 벤조산 화합물을 결합시키는 단계; 상기 화합물은 50℃ 내지 100℃의 온도에서 산 수용액을 첨가하여 1시간 내지 5시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계;를 포함하여 이루어질 수 있다.

특히, 기존의 방식에서는 저가의 습식공정을 적용한 유기-무기 복합체에 대한 연구가 많이 진행되고 있지만, 무기물과 유기물의 표면특성의 차이로 인해 많은 양의 무기물 혼합이 원천적으로 한계가 있을 뿐 아니라 이종재료의 혼합시 상분리 또는 무기입자의 침전 등으로 투명하고 안정한 소재를 제조하기 힘들뿐 아니라 공정 후 기판 및 막에서 여러 가지 결함 등이 발견되는 한계가 있음에 따라, 본 발명에서와 같이 고굴절 나노 무기물 전구체와 다양한 벤조산 화합물의 결합을 이용하는 경우, 다른 제조 방법에 비해 상대적으로 안정한 분산과 잔존 수분이 제어된 상태의 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제조할 수 있고, 유기재료와의 혼합시 혼합되는 양에 제한 없이 혼합이 가능하며 투명한 유무기 복합체를 제조할 수 있는 효과가 있다. 또한, 이렇게 제조된 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체는 성막시 균일한 입자분포와 기판 및 입자간 고른 결합력을 통해 안정한 막을 제조할 수 있다는 장점이 있다.

본 발명은, 상태가 안정하고 나노 크기를 갖는 입자로 이루어지며, 필름으로 형성되었을 경우, 굴절률이 1.9보다 높은 값을 나타내는 고굴절 나노 무기물이 결합된 유무기 복합체의 제조방법을 제시한다. 여기서 나노 크기라 함은 나노미터(nm) 단위를 갖는 크기로서 1 nm 이상이고 50 nm 이하의 크기를 의미하는 것으로 사용한다.

이하에서는 본 발명의 바람직한 일 구현예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. 도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 공정 순서도이다.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조방법은 고굴절 나노 무기물 전구체를 다양한 벤조산 화합물을 이용하여 균일하게 혼합하는 단계(P01), 상기 혼합물에 용매를 첨가하는 단계(P02), 산 수용액을 첨가하는 단계(P03), 50 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 1 시간 내지 5 시간 동안 교반하여 나노 무기물과 벤조산 화합물을 결합시키는 단계(P04)를 구비하는 것을 특징으로 한다.

상기 고굴절 나노 무기물 전구체를 다양한 벤조산 화합물을 이용하여 균일하게 혼합하는 단계(P01)에서 사용되는 고굴절 나노 무기물 전구체는 산화티타니아(TiO₂), 삼산화안티몬(Sb₂O₃), 산화주석(SnO), 지르코니아(ZrO₂), 산화아연(ZnO), 산화마그네슘(MgO), 산화알루미나(Al₂O₃), 실리카(SiO₂), 바륨 타이타네이트(BaTiO₃), 지르코늄 타이타네이트(ZrTiO₃), 스트론튬타이타네이트 (SrTiO₃)으로 이루어지는 군에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.

또한, 상기 출발물질 중 나머지 하나인 벤조산 화합물은 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산 및 이들을 함유하는 유기 화합물 또는 유기금속 화합물을 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.

상기의 고굴절 나노 무기물 전구체 1종 이상과 벤조산 화합물 중 1종 이상을 정해진 무게 비에 따라 준비하여 넣고, 균일하게 혼합한다.

상기 혼합물에 용매를 첨가하는 단계(P02)에서는 물, 알코올 및 이들의 혼합용액 중에 어느 하나인 것을 선택하여 사용할 수 있으며, 용매를 첨가 후 상온에서 일정 시간(1시간~20시간) 동안 교반을 한다.

상기의 산 수용액을 첨가하는 단계(P03)에서 사용되는 산은 질산, 염산, 황산 및 이들의 수용액 중에 어느 하나인 것을 선택하여 사용할 수 있으며, 정해진 무게 비에 따라 준비하여 넣는다.

나노 무기물과 벤조산 화합물을 결합시키는 단계(P04)에서는 50℃ 내지 100℃의 온도에서 1시간 내지 5시간 동안 교반하여 안정한 유무기 복합체를 형성하게 된다.

한편, 발명의 다른 일 구현예에 있어서, 본 발명은 상술한 바와 같은 방법으로 제조되는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제공한다. 포함하는 광학 제품을 제공한다.

상기 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체는 입자 크기가 1 내지 50 nm, 바람직하게는 1.2 내지 48 nm, 좀더 바람직하게는 1.5 내지 45 nm가 될 수 있다.

본 발명의 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체에서 고굴절 나노 무기산화물과 벤조산 화합물은 킬레이팅에 의해 결합되어 있는 것으로, 예컨대, 고굴절 나노 무기물과 벤조산 화합물은 1개의 분자 또는 이온에 2개 이상의 배위원자를 갖고 그것이 킬레이팅에 의해 결합되어 있는 것일 수 있다.

한편, 발명의 또다른 일 구현예에 있어서, 본 발명은 상기 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 포함하는 광학 제품을 제공한다. 특히, 상기 광학 제품은 유기매질에 대한 분산성이 우수하고 광학적으로 가시광 영역에서 투명하므로 고 굴절률을 갖는 광학 하드 코팅 필름 형태가 될 수 있다.

이때, 광학 하드 코팅 필름의 제조시 상기 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체는 30 wt% 부터 90 wt%까지 분산된 코팅제 제조가 가능하며, 기능성 실란, 실리콘 화합물 및 폴리이미드 화합물이 포함된 기능성 유기 고분자를 첨가하여 합성한 후, 딥코터(dip coater)를 통해 필름으로 제조하였다. 특히, 제조된 필름의 굴절률은 1.9 이상 또는 1.9 내지 3.5, 바람직하게는 2.0 이상, 좀더 바람직하게는 2.2 이상이 될 수 있다.

본 발명에 있어서 상기 기재된 내용 이외의 사항은 필요에 따라 가감이 가능 한 것이므로, 본 발명에서는 특별히 한정하지 아니한다.

본 발명에 따르면, 고굴절 나노 무기물 전구체와 다양한 벤조산 화합물의 킬레이팅 결합을 통해 고굴절률을 유지하면서 안정한 고굴절 나노 세라믹 입자가 결합된 유무기 복합체를 제조할 수 있는 효과가 있다.

또한, 안정한 분산과 잔존 수분이 제어된 상태의 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제조할 수 있고, 유기재료와의 혼합시 혼합되는 양에 제한 없이 혼합이 가능하며 투명한 유무기 복합체를 제조할 수 있는 효과가 있다.

이렇게 제조된 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체는 성막시 균일한 입자분포와 기판 및 입자간 고른 결합력을 통해 안정한 막을 제조할 수 있으며, 이러한 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체는 고굴절률을 필요로 하는 프리즘 시트 및 광학재료 분야로의 적용이 가능한 이점이 있으며, 특히 습식공정을 통한 저가 대량생산의 적용가능성이 매우 높은 재료라 할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체 제조 방법에 대한 공정 흐름도 이다.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

하기 표 1과 같은 조성으로, 다음과 같은 방법으로 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제조하였다.

고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체 제조에는 순도 97%의 티타니움 아이소프로폭사이드(C1₂H₂₈O₄Ti, Aldrich chemical사의 제품), 순도 99% 4-아미노벤조산(C₇H₇NO₂, Alfa Aesar사의 제품)을 사용하였다. 티타니움 아이소 프로폭사이드 10 g, 4-아미노벤조산 0.3 g을 칭량하여 1 시간 내지 5 시간 동안 200 rpm 내지 300 rpm의 속도로 회전시켜 균일하게 혼합하였다. 균일하게 혼합된 혼합물들을 증류수(DI Water) 170g이 담긴 용기(Bottle)에 넣고 1 시간 내지 15 시간 동안 상온 교반을 수행하였다. 교반이 끝난 후에 질산수용액 2 g을 칭량하여 상기의 용액에 첨가하고, 50 ℃ 내지 100 ℃의 온도에서 1 시간 내지 5 시간 동안 교반하여 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 제조하였다.

이렇게 재조된 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 굴절률 및 투과율을 확인하기 위하여 고굴절 유무기 복합체가 포함된 박막을 제조하여 확인하였다.

고굴절 유무기 복합체가 포함된 박막을 제조하기 위하여 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 용매대체를 통해 수분 제어를 최적화하고, 여기서 대체되는 용매는 디메틸아세트아미드를 사용하며, 유기용매 대체를 통해 물을 포함한 잔존 용매를 완전히 제거하여 고함량의 유무기 복합체를 제조하였다. 제조된 유무기 복합체와 에폭시 수지와의 액상에서의 하이브리드 후, 실리콘 웨이퍼를 딥코팅하여 막을 코팅한 후 60 ℃, 10 분간의 건조 후에 디메틸아세트 아미드를 제거하기 위하여 진공오븐에서 180℃의 열경화를 통해 막을 제조하여 프리즘 커플링 방법을 통해 633 nm 파장에서 막의 굴절률을 측정하였다. 또한, UV-Vis spectrophotometer를 이용하여 633 nm 파장에서 막의 투과율을 측정하였다. 표 1은 각기 다른 조성으로 제조된 막의 굴절률 및 투과율을 보여주고 있다.

비교예 1

하기 표 1에 나타낸 바와 같이 별도의 벤조산 화합물을 넣지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 유무기 하이브리드 막을 제조하였다.

실시예 1 및 비교예 1에 따라 제조된 유무기 하이브리드 막의 조성 및 함량 범위와 굴절률 측정 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

	조성	티타니아 함량 (wt%)	벤조산 화합물 (wt%)	에폭시 수지 (wt%)	굴절률	투과율 (%)
실시예 1	TiO₂-Benzoic acid + 에폭시 수지	70	20	10	1.941	98
비교예 1	TiO₂ + 에폭시 수지	70	-	30	1.696	89

상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1의 고굴절 나노 무기물 전구체와 벤조산 화합물이 킬레이팅 결합되어 있는 유무기 복합체가 포함된 유무기 하이브리드 막이 단순히 고굴절 나노 무기물 전구체와 에폭시 수지가 단순히 물리적인 혼합으로 합성된 유무기 하이브리드 막에 비하여 굴절률이 더 높고, 고투과율의 특징을 갖는 것을 알 수 있다.

반면에, 실시예 1와는 다르게 고굴절 나노 무기물 전구체에 에폭시 수지가 단순히 물리적으로 혼합시켜 합성한 비교예 1의 유무기 하이브리드 막은 굴절률 및 투과율 등이 저하됨을 알 수 있다. 이러한 경우에는 높은 굴절률을 필요로 하는 프리즘 필름에 적용하지 못하는 문제가 발생할 수 있다.

Claims

고굴절 나노 세라믹 전구체 및 벤조산 화합물을 혼합하는 단계; 및
상기 혼합물에 산 성분을 50 ℃ 내지 100 ℃에서 첨가하고, 1 내지 5 시간 동안 교반하여 유무기 복합체를 제조하는 단계;
를 포함하는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기 고굴절 나노 세라믹 전구체는 티타니아, 삼산화안티몬, 산화주석, 지르코니아, 산화아연, 산화마그네슘, 알루미나, 실리카, 바륨타이타네이트, 지르코늄 타이타네이트, 및 스트론튬타이타네이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기 벤조산 화합물은 4-아미노벤조산, 4-클로로메틸벤조산, 4-브로모메틸벤조산, 4-아미노메틸벤조산, 4-페닐아조벤조산, 4-메틸설포닐벤조산, 4-클로로설포닐벤조산, 및 그의 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기의 산 성분은 질산, 염산, 황산 및 이들의 혼합물 어느 하나인 것을 특징으로 하는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기 고굴절 나노 세라믹 전구체와 벤조산 화합물을 혼합한 후에, 물, 알코올, 및 이들의 혼합물 중에 어느 하나인 용매를 첨가하고 5 내지 30 ℃에서 30분 이상 동안 교반하는 단계를 추가로 포함하는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체의 제조 방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체.
제6항에 있어서,
입자 크기가 1 내지 50 nm인 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체.
제6항에 있어서,
고굴절 나노 무기산화물과 벤조산 화합물이 킬레이팅에 의해 결합된 것인 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체.
제6항의 고굴절 나노 세라믹 입자가 킬레이트 결합된 유무기 복합체를 포함하는 광학 하드 코팅 필름.
제9항에 있어서,
굴절률이 1.9 이상인 광학 하드 코팅 필름.