KR20170004123A - 센서 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 도 1의 A부분을 확대하여 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 센서 소자를 도시한 도 1의 B-B선도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 센서 소자가 변형된 상태를 도시한 도 1의 B-B선도이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 센서 소자를 도시한 평면도이다.
도 6은 도 4의 C부분을 확대하여 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따른 센서 소자를 도시한 평면도이다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 센서 소자를 도시한 평면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 센서 소자의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 도면들이다.
도 10은 마이크로로딩 효과를 설명하기 위한 도면이다.
110, 210, 410, 610: 다이
120, 220, 420, 620: 제1트렌치
130, 330, 430: 활성부
132, 332, 432, 632: 프레임
140: 브릿지
240, 440: 탄성 지지부
244, 444: 연결부
150, 250, 450, 650; 제2트렌치
660: 에치 마스크
Claims (14)
- 다이;
제1트렌치를 사이에 두고 상기 다이에 의해 포위된 프레임을 구비하는 활성부; 및
상기 다이와 상기 프레임을 연결하며, 제2트렌치가 형성되어 있는 적어도 하나의 브릿지
를 포함하는 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 다이의 하단은 기판에 고정되고,
상기 프레임의 하단과 상기 기판 사이에는 공간이 형성되는 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 활성부는,
상면에 캐비티가 형성된 상기 프레임;
상기 프레임의 상면에 형성되어 상기 캐비티를 덮어씌우는 멤브레인; 및
상기 멤브레인에 배치된 적어도 하나의 감지부
를 포함한 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 활성부는,
캐비티가 형성된 상기 프레임;
상기 프레임에 의해 둘러싸이는 질량체;
상기 질량체와 상기 프레임을 연결하고, 상기 질량체를 탄성 지지하는 복수의 빔; 및
상기 빔에 각각 배치되며 상기 빔의 변형을 감지하는 복수의 감지부
를 포함한 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 제2트렌치는 상기 브릿지의 두께방향으로 형성된 센서 소자. - 다이;
제1트렌치를 사이에 두고 상기 다이에 의해 포위된 프레임을 구비하는 활성부; 및
상기 다이와 상기 프레임을 연결하며, 탄성부를 구비하고 제2트렌치가 형성되어 있는 적어도 하나의 탄성 지지부
를 포함하는 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 다이의 하단은 기판에 고정되고,
상기 프레임의 하단과 상기 기판 사이에는 공간이 형성되는 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 활성부는,
상면에 캐비티가 형성된 상기 프레임;
상기 프레임의 상면에 형성되어 상기 캐비티를 덮어씌우는 멤브레인; 및
상기 멤브레인에 배치된 적어도 하나의 감지부
를 포함한 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 활성부는,
캐비티가 형성된 상기 프레임;
상기 프레임에 의해 둘러싸이는 질량체;
상기 질량체와 상기 프레임을 연결하고, 상기 질량체를 탄성 지지하는 복수의 빔; 및
상기 빔에 각각 배치되며 상기 빔의 변형을 감지하는 복수의 감지부
를 포함한 센서 소자. - 제1항에 있어서,
상기 탄성 지지부는,
상기 다이의 내측면 또는 상기 프레임의 외측면과 평행하게 연장하여 상기 제1트렌치 내에 위치하는 탄성부와,
상기 탄성부의 양단에서 상기 다이의 내측면 및 상기 프레임의 외측면을 향해 형성되어 상기 다이와 상기 프레임에 각각 연결되는 한 쌍의 연결부
를 포함한 센서 소자. - 제10항에 있어서,
상기 제2트렌치는 적어도 하나의 연결부에서 두께방향으로 형성된 센서 소자. - 다이 위에 에치 마스크를 형성하는 공정;
상기 에치 마스크 위에 제1트렌치와 제2트렌치의 형성을 위한 슬릿 패턴을 형성하는 공정; 및
상기 다이를 이방 식각하는 공정
을 포함한 센서 소자의 제조 방법. - 제12항에 있어서,
상기 제2트렌치를 형성하기 위한 슬릿 패턴은 상기 제1트렌치를 형성하기 위한 슬릿 패턴에 비하여 폭이 좁은 센서 소자의 제조 방법. - 제12항에 있어서,
상기 다이의 이방 식각은 DRIE(Deep Reactive Ion Etching)를 통하여 상기 제1트렌치와 상기 제2트렌치를 동시에 형성하는 센서 소자의 제조 방법.
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