KR20170051441A - 단결정의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명에서 이용할 수 있는 단결정 제조장치에 있어서의 거리를 측정하는 개소 혹은, 미리 거리를 정하는 개소에 대하여 나타낸 개락도이다.
도 3은 실시예에 있어서의 단결정 제조장치를 이용하여, 탕면 간격을 측정하는 방법의 일예를 나타낸 개락도이다.
도 4는 실시예 1 및 비교예 1에 있어서의 탕면 간격의 목표값과의 오차의 결과를 나타낸 도면이다.
도 5는 실시예 2 및 비교예 2에 있어서의 탕면 간격의 목표값과의 오차의 결과를 나타낸 도면이다.
도 6은 실시예 3과 비교예 3에 있어서의 결정결함 밀도불균일의 결과를 나타내는 도면이다.
Claims (2)
- 초크랄스키법에 의해 도가니 내의 원료융액으로부터 와이어로 단결정을 인상하여 육성할 때에, 상기 원료융액의 융액면과, 이 융액면 상에 배치되는 로내 구조물의 하단부와의 간격을 소정의 거리로 조정하여, 단결정을 육성하는 단결정의 제조방법으로서,
상기 융액면 상의 로내 구조물을 풀챔버에 설치한 상태에서, 상기 융액면 상의 소정의 높이에 있는, 기준높이 위치로부터 상기 로내 구조물의 하단부까지의 거리를 측정하고, 이 측정한 거리와, 미리 설정한 상기 기준높이 위치로부터 상기 로내 구조물의 하단부까지의 거리와의 차인 하단부 위치 오차를 구하고, 이 하단부 위치 오차와, 상기 기준높이 위치로부터 융액면 위치까지의 거리를 가산함으로써, 상기 융액면으로부터 상기 기준높이 위치까지의 목표 거리를 구하고, 상기 융액면의 초기 위치로부터 상기 기준높이 위치까지의 거리를 상기 목표 거리가 되도록 함으로써, 상기 간격을 소정의 거리로 조정하는 것을 특징으로 하는 단결정의 제조방법.
- 제1항에 있어서,
상기 목표 거리를 구할 때에, 상기 하단부까지의 거리를 측정한 상기 융액면 상의 로내 구조물이, 열팽창에 의해 변화하는 길이를 추정하고, 미리 상기 기준높이 위치로부터 상기 로내 구조물의 하단부까지의 거리를 설정할 때에, 미리 정한 상기 로내 구조물의 열팽창 기준길이와, 상기 추정한 길이와의 차인 열팽창 오차를 구하고, 이 열팽창 오차와, 상기 하단부 위치 오차와, 상기 기준높이 위치로부터 상기 융액면 위치까지의 거리를 각각 가산함으로써, 상기 목표 거리를 구하는 것을 특징으로 하는 단결정의 제조방법.
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|---|---|---|---|---|
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| CN113913922B (zh) * | 2021-10-28 | 2023-01-10 | 双良硅材料(包头)有限公司 | 一种单晶炉液口距设置方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0504837A2 (en) * | 1991-03-20 | 1992-09-23 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Method and apparatus for producing silicon single crystal |
| JPH0559876B2 (ko) | 1987-07-21 | 1993-09-01 | Shinetsu Handotai Kk | |
| JPH0692784A (ja) | 1991-04-30 | 1994-04-05 | Mitsubishi Materials Corp | 液面制御方法 |
| JPH06293590A (ja) * | 1993-02-10 | 1994-10-21 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶の引上装置及び引上方法 |
| JPH07277879A (ja) | 1994-03-31 | 1995-10-24 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | Cz法による単結晶製造装置および融液レベル制御方法 |
| JPH07330484A (ja) | 1994-06-03 | 1995-12-19 | Nippon Steel Corp | シリコン単結晶の引上げ装置および製造方法 |
| JP2007290906A (ja) | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 基準反射体と融液面との距離の測定方法、及びこれを用いた融液面位置の制御方法、並びにシリコン単結晶の製造装置 |
| US20110056427A1 (en) * | 2008-07-01 | 2011-03-10 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Single-crystal manufacturing apparatus and single-crystal manufacturing method |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4784401B2 (ja) * | 2006-05-30 | 2011-10-05 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶の育成プロセスにおける融液の液面位置監視装置 |
| JP4918897B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-04-18 | 株式会社Sumco | シリコン単結晶引上方法 |
| JP5181178B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2013-04-10 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体単結晶製造装置における位置計測装置および位置計測方法 |
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0559876B2 (ko) | 1987-07-21 | 1993-09-01 | Shinetsu Handotai Kk | |
| EP0504837A2 (en) * | 1991-03-20 | 1992-09-23 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Method and apparatus for producing silicon single crystal |
| JPH0692784A (ja) | 1991-04-30 | 1994-04-05 | Mitsubishi Materials Corp | 液面制御方法 |
| JPH06293590A (ja) * | 1993-02-10 | 1994-10-21 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体単結晶の引上装置及び引上方法 |
| JPH07277879A (ja) | 1994-03-31 | 1995-10-24 | Komatsu Electron Metals Co Ltd | Cz法による単結晶製造装置および融液レベル制御方法 |
| JPH07330484A (ja) | 1994-06-03 | 1995-12-19 | Nippon Steel Corp | シリコン単結晶の引上げ装置および製造方法 |
| JP2007290906A (ja) | 2006-04-25 | 2007-11-08 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 基準反射体と融液面との距離の測定方法、及びこれを用いた融液面位置の制御方法、並びにシリコン単結晶の製造装置 |
| US20110056427A1 (en) * | 2008-07-01 | 2011-03-10 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Single-crystal manufacturing apparatus and single-crystal manufacturing method |
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