KR20170051789A - 터치센서 내장형 표시장치 및 그 제조방법과, 라우팅 배선들의 편차 보상을 위한 터치센서 구동장치 및 그 방법 - Google Patents

터치센서 내장형 표시장치 및 그 제조방법과, 라우팅 배선들의 편차 보상을 위한 터치센서 구동장치 및 그 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 터치감도와 개구율을 향상시킬 수 있는 터치센서 내장형 표시장치에 관한 것으로, 복수의 게이트 라인들 및 복수의 데이터 라인들, 복수의 화소전극들, 복수의 터치/공통전극들, 및 복수의 라우팅 배선들을 포함한다. 화소전극들 각각은 상기 복수의 데이터 라인들 사이에 배치되는 화소영역들에 각각 배치된다. 복수의 터치/공통전극들은 표시영역 내에서 상기 복수의 화소전극들과 동일층에 배치되어 수평 전계를 형성하도록, 제 1 방향으로 i개(i는 2보다 큰 자연수), 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 j(j는 2보다 큰 자연수)개 배치되며, 각각이 제 1 방향으로 배열되는 p(p는 j보다 작은 자연수)개의 화소전극들과 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배열되는 q(q는 2보다 큰 자연수)개의 화소전극들에 대응한다. 라우팅 배선들은 상기 복수의 터치/공통전극들 각각에 연결된다. 라우팅 배선들은 상기 제 1 방향으로 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k개(k는 2보다 큰 자연수)의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹을 포함한다.

Description

터치센서 내장형 표시장치 및 그 제조방법과, 라우팅 배선들의 편차 보상을 위한 터치센서 구동장치 및 그 방법{TOUCH SENSOR INTEGRATED TYPE DISPLAY DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND TOUCH SENSOR DRIVING DEVICE AND METHOD OF COMPENSATING DEVIATION OF ROUTING WIRES}
본 발명은 터치센서 내장형 표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 터치감도와 개구율을 향상시킬 수 있는 터치센서 내장형 표시장치 및 그 제조방법과, 라우팅 배선들간의 편차보상을 위한 터치센서 구동장치 및 그 방법에 관한 것이다.
최근, 멀티미디어의 발달과 함께 이를 적절하게 표시할 수 있는 표시장치의 필요성에 부합하여, 대형화가 가능하고, 가격이 저렴하면서, 높은 표시품질(동영상 표현력, 해상도, 밝기, 명암비, 및 색 재현력 등)을 갖는 평면형 표시장치(이하, 간단히 "표시장치"라 함)의 개발이 진행되고 있다. 이들 평면형 표시장치에는 키보드, 마우스, 트랙볼, 조이스틱, 디지타이저(digitizer) 등의 다양한 입력장치(Input Device)들이 사용자와 표시장치 사이의 인터페이스를 구성하기 위해 사용되고 있다.
그러나, 상술한 바와 같은 입력장치를 사용하는 것은 사용법을 익혀야 하고 공간을 차지하는 등의 불편을 야기하여 제품의 완성도를 높이기 어려운 면이 있었다. 따라서, 편리하면서도 간단하고 오작동을 감소시킬 수 있는 표시장치용 입력장치에 대한 요구가 날로 증가되고 있다. 이와 같은 요구에 따라 사용자가 표시장치를 보면서 손이나 펜 등으로 화면을 직접 터치하거나 근접시켜 정보를 입력하면 이를 인식할 수 있는 터치센서(touch sensor)가 제안되었다.
터치센서는 간단하고, 오작동이 적으며, 별도의 입력기기를 사용하지 않고도 입력이 가능할 뿐 아니라 사용자가 화면에 표시되는 내용을 통해 신속하고 용이하게 조작할 수 있다는 편리성 때문에 다양한 표시장치에 적용되고 있다.
상술한 표시장치에 사용되는 터치센서는 그 구조에 따라 상판 부착형(add-on type), 상판 일체형(on-cell type) 및 내장형(integrated type 또는 in-cell type)으로 나눌 수 있다. 상판 부착형은 표시장치와 터치센서 모듈을 개별적으로 제조한 후에, 표시장치의 상판에 터치센서 모듈을 부착하는 방식이다. 상판 일체형은 표시장치의 상부 유리 기판 표면에 터치센서 소자들을 직접 형성하는 방식이다. 내장형은 표시장치 내부에 터치센서 소자들을 내장하여 표시장치의 박형화를 달성하고 내구성을 높일 수 있는 방식이다.
이들 중 상판 부착형 및 상판 일체형은 터치성능은 우수하나 두께의 증가, 화질저하(모아레 현상 또는 반사시감 등), 및 낮은 수율 등의 문제점이 있다.
반면 내장형 터치센서는 표시장치의 공통전극을 터치센서의 전극으로 공용할 수 있어 두께를 얇게 할 수 있고, 터치소자가 표시장치의 내부에 형성되므로 내구성을 높일 수 있다.
따라서, 내장형 터치센서는 내구성을 향상시키고 박형화가 가능하다는 점에서 상판 부착형 터치센서와 상판 일체형 터치센서의 단점을 해결할 수 있기 때문에 관심이 집중되고 있다. 이러한 내장형 터치센서는 터치된 부분을 감지하는 방식에 따라 광 방식과 정전용량 방식으로 구분되며, 정전용량 방식은 다시 자기 정전용량 방식(self capacitance type)과 상호 정전용량 방식(mutual capacitance type)으로 세분화된다.
자기 정전용량 방식 터치센서는 터치 감지 패널의 터치 영역에 복수의 독립 패턴을 형성하고 각각의 독립 패턴의 정전용량의 변화를 측정하여 터치 여부를 판단하는 방식이다. 상호 정전용량 방식 터치센서는 터치 감지 패널의 터치/공통전극 형성영역에 X축 전극라인들(예를 들면, 구동 전극라인들)과 Y축 전극라인들(예를 들면, 센싱 전극라인들)을 서로 교차시켜 매트릭스를 형성하고, X축 전극라인들에 구동펄스를 인가한 다음, Y축 전극라인들을 통해 X축 전극라인들과 Y축 전극라인들의 교차점으로 정의되는 센싱 노드들에 나타나는 전압의 변화를 감지하여 터치 여부를 판단하는 방식이다.
그러나, 상호 정전용량 방식 터치센서는 터치 인식시 발생하는 X축 전극라인들과 Y축 전극라인 사이의 상호 정전용량의 크기는 매우 작은 반면, 표시장치를 구성하는 게이트 라인과 데이터 라인에 의해 X축 전극라인들과 Y축 전극라인에 형성되는 기생 정전용량(parasitic capacitance)이 매우 커져 기생 정전용량에 의해 터치위치를 정확하게 인식하기 곤란한 문제점이 있다.
또한, 상호 정전용량 방식 터치센서는 멀티 터치 인식을 위해 공통전극 상에 터치 구동을 위한 다수의 터치 구동라인과 터치 센싱을 위한 다수의 터치 센싱라인을 형성시켜야 하기 때문에 매우 복잡한 배선구조를 필요로 하게 되는 문제점이 있다.
자기 정전용량 방식 터치센서는 상호 정전용량 방식 터치센서에 비해 간단한 배선구조로 터치 정밀도를 높일 수 있으므로 필요에 따라 널리 사용되고 있다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 종래의 자기 정전용량 방식 터치센서 내장형 액정 표시장치(이하, 단순히 "터치센서 내장형 표시장치"라 함)에 대해 설명하기로 한다. 도 1은 종래의 터치센서 내장형 표시장치를 도시한 평면도이다. 도 2는 도 1에 도시된 영역 R1에서 터치/공통전극과 화소전극의 관계를 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2에서 데이터 라인 방향으로 배열되는 라우팅 배선과 그에 접속되는 터치/공통전극의 연결관계를 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하면, 터치센서 내장형 표시장치는 복수의 터치/공통전극들(T11~T14, T21~T24, T31~T34, T41~T44, T51~T54)과 복수의 라우팅 배선들(L11~L14, L21~L24, L31~L34, L41~L44, L51~L54)을 포함한다.
복수의 터치/공통전극들(T11~T14, T21~T24, T31~T34, T41~T44, T51~T54)은 표시영역에서 서로 교차하는 제 1 방향(예를 들면, x축 방향) 및 제 2 방향(예를 들면, y축 방향)으로 분할된다. 복수의 라우팅 배선들(L11~L14, L21~L24, L31~L34, L41~L44, L51~L54)은 복수의 터치/공통전극들(T11~T14, T21~T24, T31~T34, T41~T44, T51~T54)에 각각 연결되어 제 2 방향으로 서로 나란하게 배열된다.
복수의 터치/공통전극들(T11~T14, T21~T24, T31~T34, T41~T44, T51~T54)은 표시장치의 공통전극을 분할하여 형성된 것으로, 데이터를 표시하는 디스플레이 모드의 구동시에는 공통전극으로서 동작하고, 터치 위치를 인식하는 터치 구동시에는 터치전극으로서 동작한다.
소스 및 터치 구동 IC(10)는 디스플레이 구동시에는 표시장치의 게이트 라인들(도시생략)의 구동에 동기하여 데이터 라인들(도시 생략)에 표시 데이터를 공급하며, 터치/공통전극들(T11~T14, T21~T24, T31~T34, T41~T44, T51~T54)에 공통전압을 공급한다. 소스 및 터치구동 IC(10)는 또한 터치 구동시에는 터치/공통전극들에 터치 구동전압을 공급하고, 터치 전후의 터치/공통전극의 정전용량의 변화를 스캐닝하여 터치가 수행된 터치/공통전극의 위치를 결정한다.
종래의 터치센서 내장형 표시장치는 또한 게이트 라인들 및 데이터 라인들을 포함하는 각종 배선들을 포함한다.
도 2를 참조하면, 종래의 터치센서 내장형 표시장치에서는 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22) 각각에 대응하여 3행 3열로 배치된 9개의 화소전극들(P11~P33, P14-P36, P41~P63, P44~P66)이 배치되어 있다. 화소전극들(P11~P33, P14-P36, P41~P63, P44~P66)은 제 1 방향(예를 들면, x축 방향)으로 배열되는 복수의 게이트 라인들(G1~G6)과, 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향(예를 들면, y축 방향)으로 배열되는 복수의 데이터 라인들(D1~D6)에 의해 정의되는 영역에 배치된다. 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)에는 라우팅 배선들(L11, L12, L21, L22)이 각각 접속된다. 라우팅 배선들(L11, L12, L21, L22)은 제 2 방향을 따라 연장되어 소스 및 터치구동 IC(10)에 접속된다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 기판(SUB1) 상에는 복수의 게이트 라인들(G1~G6)이 제 1 방향으로 배치되며, 그 상부에는 복수의 게이트 라인들(G1~G6)을 커버하도록 게이트 절연막(GI)이 배치된다. 게이트 절연막(GI) 상에서는 박막 트랜지스터(TFT)를 구성하는 활성층(A), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 배치된다. 박막 트랜지스터(TFT)는 기판(SUB1) 상에 배치되는 게이트 라인들(G1~G6)로부터 각각 연장되는 게이트 전극들(GE)과, 게이트 라인들(G1~G6) 및 게이트 전극들(GE)을 커버하는 게이트 절연막(GI) 상에서 게이트 전극(GE)과 대응하는 영역에 배치되는 활성층(A)과, 활성층(A)의 일부를 노출시키도록 게이트 절연막(GI) 상에서 분리되어 배치되는 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. 소스 전극(S)은 데이터 라인들(D1~D6) 각각으로부터 연장될 수 있다.
박막 트랜지스터들(TFT)과 데이터 라인들(D1~D6)이 배치된 게이트 절연막(GI) 상에는 이들을 커버하는 제 1 절연막(IND1)과, 평탄화를 위한 제 2 절연막(INS2)이 순차적으로 배치된다. 제 2 절연막(INS2) 상에는 제 1 및 제 2 절연막(IND1, INS2)을 관통하는 콘택홀(CH1)을 통해 박막 트랜지스터들(TFT)의 드레인 전극들(DE)과 각각 접속되도록 화소전극들(P11~P66)이 배치된다.
제 2 절연막(INS2) 상에는 화소전극들(P11~P66)을 커버하도록 제 1 패시베이션막(PAD1)이 배치된다. 제 1 패시베이션막(PAD1) 상에는 터치 및 공통전극들(T11, T12, T21, T22)에 각각 연결될 라우팅 배선들(L11, L12, L21, L22)이 제 2 방향으로 배열된다.
제 1 패시베이션막(PAD1) 상에는 라우팅 배선들(L11, L12, L21, L22)을 커버하도록 제 2 패시베이션막(PAS2)이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극들(P11~P33, P14~P36, P41~P63, P44~P66)과 각각 중첩되도록 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)이 배치된다. 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)은 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 콘택홀들(CH2)을 통해 라우팅 배선들(L11, L12, L21, L22)에 각각 접속된다. 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)은 화소전극들(P11~P33, P14~P36, P41~P63, P44~P66)과 프린지 필드(fringe field)를 형성하도록 화소영역 내에서 복수의 개구부를 갖거나 핑거부(finger)를 갖도록 형성된다.
그러나, 상술한 종래의 터치센서 내장형 표시장치를 대화면 표시장치에 적용할 경우, 적절한 라우팅 배선의 수를 확보하지 못함에 따른 터치/공통전극 크기의 증가로 인한 터치정밀도 저하, 라우팅 배선 수의 증가 및 라우팅 배선의 길이 증가로 인한 RC 부하(Resistance Capacitance load) 상승과 같은 다양한 문제가 발생하였다.
예를 들어, 상술한 종래의 터치센서 내장형 표시장치의 구성을 UHD(Ultra High Definition) 표시장치를 구현하기 위해서는 1인치 당 가로 2,160×3(=6480)개, 세로 3,840개의 화소가 형성된다.
터치/공통전극은 너무 크게 형성되면 터치 해상도가 저하되어 터치 정밀도가 낮아지고, 너무 작게 형성되면 라우팅 배선 수가 증가하여 라우팅 배선이 화소영역의 개구부를 지나게 되므로 디스플레이 성능을 저하시키게 된다. 따라서, 터치/공통전극은 터치 해상도를 고려하여 너무 크거나 작지 않고 적당한 크기를 가져야 한다.
그러나, 해상도 3840×2160의 UHD(Ultra High Definition) 표시장치의 개발에 따른 디스플레이 성능의 향상과 함께 대화면 표시장치가 개발되면서 라우팅 배선들의 일부가 화소영역의 개구부를 지나게 되어 디스플레이 성능을 저하시키거나, 라우팅 배선의 전체 길이 증가 또는 라우팅 배선들간 길이의 차이에 따른 RC 부하(resistance capacitance load) 편차로 인해 디스플레이 성능과 함께 터치 정밀도가 저하되는 문제점이 있었다.
따라서, 디스플레이 구동시 화질의 저하를 야기시키지 않으면서 터치센서 구동시 RC 부하(resistance capacitance load)를 개선하여 터치 정밀도를 높이기 위한 대책이 필요하게 되었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해소시키기 위한 것으로, 터치시 손가락 등의 터치 객체와 화소전극 및 터치/공통전극 사이의 정전용량을 증가시켜 터치 정밀도를 향상시키는 동시에, 개구율을 높여 광 투과율을 향상시킴으로써 표시품질을 높일 수 있는 터치센서 내장형 표시장치 및 그 방법과, 라우팅 배선들의 편차보상장치 및 그 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기 목적 달성을 위한 본 발명에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 복수의 게이트 라인들 및 복수의 데이터 라인들, 복수의 화소전극들, 복수의 터치/공통전극들, 및 복수의 라우팅 배선들을 포함한다. 화소전극들 각각은 상기 복수의 데이터 라인들 사이에 배치되는 화소영역들에 각각 배치된다. 복수의 터치/공통전극들은 표시영역 내에서 상기 복수의 화소전극들과 동일층에 배치되어 수평 전계를 형성하도록, 제 1 방향으로 i개(i는 2보다 큰 자연수), 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 j(j는 2보다 큰 자연수)개 배치되며, 각각이 제 1 방향으로 배열되는 p(p는 j보다 작은 자연수)개의 화소전극들과 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배열되는 q(q는 2보다 큰 자연수)개의 화소전극들에 대응한다. 라우팅 배선들은 상기 복수의 터치/공통전극들 각각에 연결된다. 라우팅 배선들은 상기 제 1 방향으로 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k개(k는 2보다 큰 자연수)의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹을 포함한다.
상기 k, m, j는
Figure pat00001
를 만족시키거나
Figure pat00002
를 만족시킬 수 있다.
또한, 상기 복수의 화소전극들 각각은 상기 데이터 라인들의 배열방향으로 배열된 복수의 제 1 가지부들과, 상기 복수의 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 구비하고, 상기 복수의 터치/공통전극들 각각은 상기 복수의 화소전극들과 동일층에 배치되며, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과, 상기 복수의 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비할 수 있다.
또한, 서로 인접한 2개의 데이터 라인들 사이에 배치된 제 1 가지부들과 제 2 가지부들 중 상기 서로 인접한 2개의 데이터 라인들에 가장 근접한 가지부는 제 2 가지부들일 수 있다.
또한, 상기 라우팅 배선 그룹의 라우팅 배선들 중 적어도 하나는 상기 데이터 라인과 중첩되도록 배열될 수 있다.
상기 표시영역 내에서 상기 복수의 라우팅 배선들의 길이는 동일하게 설정될 수 있다.
또한, 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치는 상기 터치/공통전극의 제 2 줄기부에 연결된 제 2 가지부에 연결되며, 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 공통라인을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 k개의 라우팅 배선 사이의 상부에는 상기 제 2 가지부들의 일부가 배치될 수 있다.
또한, 상기 라우팅 배선 그룹의 양쪽 외측의 상부에는 제 2 가지부가 각각 배치될 수 있다.
또한, 상기 k개의 라우팅 배선과 상기 k개의 라우팅 배선 사이의 상부에는 상기 제 1 및 제 2 가지부들이 제거되어 있으며, 상기 라우팅 배선 그룹의 양쪽 외측의 상부에는 제 2 가지부가 각각 배치될 수 있다.
또한, 상기 복수의 라우팅 배선들의 각각은 하부 금속층, 상기 하부 금속층 사에 배치되는 하나의 저저항 금속층, 및 상기 저저항 금속층 상에 배치되는 상부 금속층으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 상부 금속층은 상기 저저항 금속층 및 상기 하부 금속층을 커버하도록 배치될 수 있다.
상기 상부 금속층은 상기 저저항 금속층 및 상기 하부 금속층의 측면을 노출시키도록 배치될 수 있다.
또한, 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치는 기판 상에 배열된 상기 게이트 라인 및 게이트 전극; 상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인; 상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 각 화소영역에 배치되는 컬러필터; 상기 컬러필터 상에 순차적으로 배치되는 제 2 절연막 및 제 1 패시베이션막과, 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및 상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인; 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및 상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극; 상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인; 상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 각 화소영역에 배치되는 컬러필터; 상기 컬러필터 상에 배치되는 제 1 패시베이션막; 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및 상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인; 상기 공통라인과 중첩되는 위치의 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및 상기 드레인 전극과 중첩되는 위치의 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극; 상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인; 상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 제 2 절연막; 상기 제 2 절연막 상에 순차적으로 배치되는 제 1 패시베이션막 및 제 2 패시베이션막과, 상기 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및 상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인; 상기 제 1 패시베이션막 상의 상기 공통라인과 중첩되는 위치에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및 상기 제 1 패시베이션막 상의 상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극; 상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인; 상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 제 1 패시베이션막; 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및 상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인; 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및 상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며, 상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고, 상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며, 상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며, 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속될 수 있다.
또한, 본 발명이 터치센서 내장형 표시장치는 하나의 터치센서 구동기간으로 시분할 구동되며, 상기 터치센서 구동기간 동안 상기 터치/공통전극들에 터치 구동신호를 공급하고, 상기 터치/공통전극들의 정전용량의 변화를 측정하여 터치위치를 산출하는 터치센서 구동부; 및 상기 디스플레이 구동기간 동안 상기 복수의 화소전극들 및 터치/공통전극을 포함하는 화소들에 데이터를 기입하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 로드 프리 구동신호를 상기 게이트 라인들 및 상기 데이터 라인들에 공급하는 디스플레이 구동부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 디스플레이 구동부는 상기 디스플레이 구동기간 동안, 외부로부터 입력되는 데이터 전압을 상기 데이터 라인들에 공급하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 제 1 로드 프리 구동 신호를 상기 데이터 라인들에 인가하는 데이터 드라이버; 상기 디스플레이 구동기간 동안, 상기 데이터 전압에 동기되는 게이트 펄스를 상기 게이트 라인들에 순차적으로 공급하여 상기 데이터 전압이 기입되는 표시패널의 라인을 선택하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 제 2 로드 프리 구동 신호를 상기 게이트 라인들에 인가하는 게이트 드라이버; 및 상기 데이터 드라이버, 상기 게이트 드라이버, 및 상기 터치센서 구동부의 동작 타이밍을 동기시키기 위한 제어신호들을 공급하는 타이밍 콘트롤러를 포함할 수 있다.
상기 목적달성을 위한 본 발명의 터치센서 내장용 표시장치의 터치센서 구동장치는 노터치 상태에서 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 저장하고, 상기 k개의 정전용량값을 비교하여 최소값을 갖는 라우팅 배선을 제외한 나머지 라우팅 배선들의 정전용량을 합산한 후 평균값을 구하며, 상기 평균값에서 상기 최소값을 감산하여 보상값을 구한 후 보상 테이블에 저장하고, 터치 후 상기 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 구한 후, 상기 최소값을 갖는 라우팅 배선의 정전용량에 상기 보상값을 가산하여 상기 k개의 라우팅 배선들 간의 편차를 보상한다.
상기 목적달성을 위한 본 발명의 라우팅 배선들의 저항편차 보상방법은 노터치 상태에서 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 저장하는 제 1 단계; 상기 k개의 정전용량값을 비교하여 최소값을 갖는 라우팅 배선을 제외한 나머지 라우팅 배선들의 정전용량을 합산한 후 평균값을 구하는 제 2 단계; 상기 평균값에서 상기 최소값을 감산하여 보상값을 구한 후 보상 테이블에 저장하는 제 3 단계; 및 터치 후 상기 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 구한 후, 상기 최소값을 갖는 라우팅 배선의 정전용량에 상기 보상값을 가산하여 보상하는 제 4 단계를 포함할 수 있다.
상기 목적달성을 위한 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치 제조방법은 기판 상에 서로 분리되도록 게이트 라인과 공통라인을 포함하는 제 1 도전층을 형성하는 단계; 상기 게이트 라인과 공통라인을 커버하는 게이트 절연막 상에 박막 트랜지스터의 반도체층과, 상기 박막 트랜지스터의 소스전극 및 드레인 전극과 상기 드레인에 연결되는 데이터 라인을 포함하는 제 2 도전층을 형성하는 단계; 상기 반도체층과 상기 제 2 도전층을 순차적으로 커버하는 제 1 절연막, 컬러필터, 및 제 1 패시베이션막을 배치하고, 상기 제 1 패시베이션막 상에서 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k(k는 2보다 큰 자연수)개의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹들을 형성하는 단계; 및 상기 라우팅 배선 그룹들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상의 화소영역들에 복수의 제 1 가지부들과 상기 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 갖는 복수의 화소전극들과, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과 상기 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비하는 복수의 터치/공통전극을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
또한, 상기 터치/공통전극의 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며,각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결될 수 있다.
또한, 상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정; 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하며, 상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 6 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정; 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 7 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고, 상기 제 3 콘택홀 및 상기 제 4 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되며, 상기 제 5 콘택홀, 상기 제 6 콘택홀 및 상기 제 7 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성될 수 있다.
본 발명의 터치센서 내장형 표시장치 제조방법은 상기 컬러필터와 상기 제 1 패시베이션막 사이에 상기 컬러필터를 커버하도록 제 2 절연막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며, 각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결될 수 있다.
상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정; 상기 제 2 절연막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하며, 상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 6 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정; 상기 제 2 절연막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 7 콘택홀 형성공정을 포함하며, 상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고, 상기 제 3 콘택홀 및 상기 제 4 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되며, 상기 제 5 콘택홀, 상기 제 6 콘택홀 및 상기 제 7 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법은 기판 상에 서로 분리되도록 게이트 라인과 공통라인을 포함하는 제 1 도전층을 형성하는 단계; 상기 게이트 라인과 공통라인을 커버하는 게이트 절연막 상에 박막 트랜지스터의 반도체층과, 상기 박막 트랜지스터의 소스전극 및 드레인 전극과 상기 드레인에 연결되는 데이터 라인을 포함하는 제 2 도전층을 형성하는 단계; 상기 반도체층과 상기 제 2 도전층을 커버하는 제 1 절연막 상에 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k(k는 2보다 큰 자연수)개의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹들을 형성하는 단계; 및 상기 라우팅 배선 그룹들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상의 화소영역들에 복수의 제 1 가지부들과 상기 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 갖는 복수의 화소전극들과, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과 상기 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비하는 복수의 터치/공통전극을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 라우팅 배선들 중 하나와 상기 공통라인과 에 접속되며, 각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결될 수 있다.
또한, 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법은 상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며, 각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결될 수 있다.
또한, 상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정을 포함하며, 상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 제 1 콘택홀, 상기 제 2 콘택홀, 및 상기 제 3 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성될 수 있다.
또한, 본 발명의 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법은 상기 제 1 절연막과 상기 라우팅 배선들 사이에 제 2 절연막 및 제 1 패시베이션막을 순차적으로 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 라우팅 배선들은 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치될 수 있다.
또한, 상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며, 각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막 및 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결될 수 있다.
또한, 상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정과, 상기 제 1 콘택홀과 중첩되는 위치에서 상기 제 2 패시베이션막과 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정을 포함하며, 상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 절연막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정과, 상기 제 2 콘택홀과 중첩되는 위치에서 상기 제 2 패시베이션막과 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하고, 상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고, 상기 제 3 콘택홀, 상기 제 4 콘택홀, 및 상기 제 5 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성될 수 있다.
본 발명에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 의하면, 화소전극과 터치/공통전극을 동일층에 형성시킴으로써 터치센싱을 위한 총 정전용량의 크기를 증가시킬 수 있으므로 터치 정밀도를 향상시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 화소전극의 가지부들과 터치/공통전극의 가지부들을 동일층에서 번갈아 배열하여 개구율을 높일 수 있으므로 표시휘도를 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 터치/공통전극을 경유하는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들 간의 정전용량의 편차를 보상할 수 있으므로 터치 정밀도를 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 종래의 터치센서 내장형 표시장치를 도시한 평면도,
도 2는 도 1에 도시된 영역 R1에서 터치/공통전극과 화소전극의 관계를 도시한 평면도,
도 3은 도 2에서 데이터 라인 방향으로 배열되는 라우팅 배선과 그에 접속되는 터치/공통전극의 연결관계를 도시한 단면도,
도 4는 본 발명의 실시예들에 따르는 터치센서 내장형 표시장치를 개략적으로 도시한 블록도,
도 5는 도 4에 도시된 터치센서 내장형 표시장치가 더블 피딩 방식으로 구동되는 것을 설명하기 위한 개념도,
도 6은 도 4에 도시된 표시패널의 일부 영역 R1을 개략적으로 도시한 평면도,
도 7은 도 6에 도시된 영역 R2를 개략적으로 도시한 평면도,
도 8a는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 1 예를 도시한 단면도,
도 8b는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 2 예를 도시한 단면도,
도 9a는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 3 예를 도시한 단면도,
도 9b는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 4 예를 도시한 단면도,
도 10a는 도 7의 II-II'라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 1 실시예를 도시한 단면도,
도 10b는 도 7의 II-II'라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 2 실시예를 도시한 단면도,
도 11a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 3 실시예를 도시한 단면도,
도 11b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 4 실시예를 도시한 단면도,
도 12a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 1 실시예의 변형예를 도시한 단면도,
도 12b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 2 실시예의 변형예를 도시한 단면도,
도 13a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 3 실시예의 변형예를 도시한 단면도,
도 13b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 4 실시예의 변형예를 도시한 단면도,
도 14a는 본 발명의 실시예들에 따르는 라우팅 배선, 제 1 연결패턴, 및 제 2 연결패턴의 제 1 예를 도시한 단면도,
도 14b는 본 발명의 실시예들에 따르는 라우팅 배선, 제 1 연결패턴, 및 제 2 연결패턴의 제 2 예를 도시한 단면도,
도 15a는 게이트 라인, 데이터 라인, 또는 라우팅 배선 등의 신호라인이 연결된 패드가 배치된 패드부의 구성을 개략적으로 도시한 평면도,
도 15b는 도 15a의 I-I' 라인을 따라 취한 패드의 단면도,
도 16a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 16b는 도 16a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 17a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 17b는 도 17a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 18a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 18b는 도 18a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 19a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 19b는 도 19a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 20a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 20b는 도 20a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 21a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 21b는 도 21a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 22a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 9 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 22b는 도 22a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 23a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 23b는 도 23a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 24a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 24b는 도 246a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 25a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 25b는 도 25a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 26a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 26b는 도 28a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 27a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 27b는 도 27a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 28a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 28b는 도 28a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 29a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 29b는 도 29a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 30a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 30b는 도 30a의 라인 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 31a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 31b는 도 31a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 32a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 32b는 도 32a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 33a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 33b는 도 33a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 34a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 34b는 도 34a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 35a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 35b는 도 35a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 36a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 36b는 도 36a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 37a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 37b는 도 37a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 38a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 38b는 도 38a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 39a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도,
도 39b는 도 39a의 I-I' 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도,
도 40은 본 발명의 실시예에 따른 터치센서 내장형 표시장치에서 디스플레이 구동기간과 터치센서 구동기간 동안 각 신호라인에 공급되는 신호를 도시한 타이밍도,
도 41은 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 각 라우팅 배선 그룹을 구성하는 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들의 RC 로드(resistance capacitance load) 편차를 최소화하기 위한 보상방법에서, 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들을 센싱하는 순서를 도시한 도면.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.
이하, 도 4 내지 도 7을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치를 개략적으로 도시한 블록도이다. 도 5는 도 4에 도시된 터치센서 내장형 표시장치가 더블 피딩 방식으로 구동되는 것을 설명하기 위한 개념도이다. 도 6은 도 4에 도시된 표시패널의 일부 영역 R1을 개략적으로 도시한 평면도이다. 도 7은 도 6에 도시된 영역 R2를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 4 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 표시패널(DP), 디스플레이 구동부(GD, DD), 타이밍 콘트롤러(TC), 터치 센서 구동부(TSD), 및 호스트 시스템(HS)을 포함할 수 있다.
표시패널(DP)은 두 장의 기판들 사이에 배치되는 액정층을 포함한다. 액정층의 액정 분자들은 화소전극(P)에 인가되는 데이터전압과 터치/공통전극에 인가되는 공통 전압의 전위차에 의해 발생되는 전계로 구동된다. 표시패널(DP)은 입력 데이터가 표시되는 표시영역인 화소 어레이와, 화소 어레이 외측의 비표시 영역인 베젤부를 포함한다.
화소 어레이는 데이터 라인들(D1~Dm, m은 양의 정수)과 게이트 라인들(G1~Gn, n은 양의 정수)에 의해 정의된 화소영역들, 각 화소영역에 배치되는 화소전극들(예를 들면, 도 6의 P11~P33, P14~P36, P41~P63, P44~P66, 이하, 화소전극을 대표하여 표현할 경우 단순히 P라 표기함) 및 터치/공통전극들(예를 들면, 도 6의 T11, T12, T21, T22, 이하, 터치/공통전극을 대표하여 표현할 경우 단순히 T라 표기함)을 포함한다. 여기에서, 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)은 디스플레이 구동기간 동안에는 하나의 통합된 공통전극으로 작용하고, 터치 구동기간 동안에는 터치센싱을 위한 독립된 터치전극들로 작용한다.
도 6에 도시된 실시예에서 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)의 각각은 가로 3개 세로 3개의 화소전극들에 대응하는 예를 들어 설명하고 있으나, 이는 설명의 편의를 위한 것일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 화소전극과 터치/공통전극의 수는 표시패널의 크기 및 해상도에 의해 변경될 수 있으므로 필요에 따라 조정될 수 있다.
화소 어레이는 또한 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22) 각각에 적어도 하나가 연결되는 라우팅 배선 그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c, 이하, 특정 라우팅 배선이 아닌 전체 라우팅 배선, 또는 라우팅 배선그룹 전체를 표현할 경우 단순히 L로 표기함)을 포함한다. 라우팅 배선 그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c) 각각에 속하는 하나의 라우팅 배선은 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)에 1:1로 연결될 수 있다. 예를 들어, 제 1-1 라우팅 배선그룹(L11a~L11c)의 하나는 제 1-1 터치/공통전극(T11)에 연결되고, 제 2-1 라우팅 배선그룹(L21a~L21c)의 하나의 라우팅 배선은 제 2-1 터치/공통전극(T21)에 연결된다. 또한, 제 1-2 라우팅 배선그룹(L12a~L12c)의 하나의 라우팅 배선은 제 1-2 터치/공통전극(T12)에 연결되고, 제 2-2 라우팅 배선그룹(L22a~L22c)의 하나의 라우팅 배선은 제 2-2 터치/공통전극(T22)에 연결된다. 이와 같은 방식으로 모든 터치/공통전극들에는 하나의 라우팅 배선이 각각 연결된다.
도 6에서 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22)에 연결되지 않는 라우팅 배선그룹들(L31a~L31c, L32a~L32c)은 도시하지 않은 하부측 터치/공통전극들에 접속되는 라우팅 배선들이다.
이와 달리 라우팅 배선 그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c,…) 각각에 속하는 라우팅 배선들은 우선 제 1 열에 배치된 터치/공통전극들(T11, T21, T31, …)에 1:1로 연결되고, 다음으로 제 2 열에 배치된 터치/공통전극들(T12, T22, T32,…)에 1:1로 연결되는 방식으로 연결될 수도 있다. 즉, 라우팅 배선들은 제 1 열부터 마지막 열까지 배치된 터치/공통전극들에 순차적으로 1:1로 연결될 수 있다.
상술한 구성에 따르면, 인접한 화소영역들 사이에 배치된 데이터 라인과 중첩되도록 복수의 라우팅 배선들로 이루어진 라우팅 배선 그룹이 배치되어 충분한 수의 라우팅 배선들을 얻을 수 있기 때문에 대화면 표시장치에 적용되더라도 터치/공통전극의 크기를 줄일 필요 없이 터치 해상도를 유지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 각 라우팅 배선 그룹은 블랙 매트릭스와 중첩되는 위치 또는 인접 화소영역의 중첩된 컬러필터들에 대응하는 위치에 배치되기 때문에 개구율을 저하시킴 없이 휘도를 유지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c)의 길이는 화소 어레이 내에서 서로 동일하다. 또한, 라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c)은 화소 어레이 내에서 서로 나란하게 배열된다.
이와 같이 화소 어레이 내에 배치되는 라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c)의 길이를 모두 동일하게 형성하면, 라우팅 배선에 의한 공통전극의 정전용량이 동일하게 되어 정전용량 차이에 의한 화질 문제 (터치센서간의 휘도차이)를 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
도 6의 실시예에서와 같이 각 라우팅 배선그룹을 구성하는 라우팅 배선의 수를 3개로 하면, 터치/공통전극(T) 하나의 크기를 가로 40개, 세로 12개의 화소전극(P)의 크기에 대응하도록 형성하고, 세로 180개의 공통전극을 배치할 경우, 180개의 공통전극 각각에는 적어도 하나의 라우팅 배선이 연결되어야 하나, 가로 방향으로 40개의 화소전극이 배치되고 첫 번째 열(column)의 화소전극의 좌측과 서로 이웃하는 2열의 화소전극들 사이에 각각 3개의 라우팅 배선이 배치되므로, 총 120개의 라우팅 배선이 확보된다. 따라서, 도 5에 도시된 더블 피딩 방식을 적용할 경우, 세로 방향으로 배열된 180의 터치/공통전극들 중 상부측 1/2 영역에 배치된 90개의 터치/공통전극과 하부측 1/2 영역에 배치된 90개의 터치/공통전극에 대해 각각 120개의 터치 라우팅 배선을 할당할 수 있게 된다. 더블 피딩 방식의 구동에 대해서는 후술하기로 한다.
이에 따라, 화소 어레이의 상부측 1/2 영역 및 하부측 1/2 영역에 배치된 터치/공통전극들에는 라우팅 배선들이 상부측 영역과 하부측 영역으로 분할되어 연결되므로 전체 라우팅 배선의 수가 1/2로 되는 효과를 얻을 수 있어 화소영역의 개구부를 점유할 필요가 없게 된다. 따라서, 라우팅 배선 그룹에 속하는 어떤 라우팅 배선도 화소영역의 개구부를 경유하지 않게 되므로 디스플레이 품질에 악영향을 미치지 않고 대화면 표시장치에 적용할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
도 6에 도시된 실시예에서, 라우팅 배선그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c) 각각을 구성하는 라우팅 배선의 수(k)가 3개인 경우를 예로 들었으나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 하나의 터치/공통전극(T)이 제 1 방향(예를 들면, 가로 방향)으로 배열되는 p(p는 2 이상의 자연수)개의 화소전극들과 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향(예를 들면, 세로 방향)으로 배열되는 q(q는 2 이상의 자연수)개의 화소전극들에 대응하고, 터치/공통전극(T)이 화소 어레이 내에서 가로 방향으로 i(i는 2 이상의 자연수)개, 세로 방향으로 j(j는 2 이상의 자연수)개 배치되며, 가로 방향으로 서로 인접한 화소전극들 사이에 k(k는 2 이상의 자연수)개의 라우팅 배선으로 이루어진 라우팅 배선 그룹이 배치될 경우, 다음의 수학식 1을 만족시키도록 k값이 결정될 수 있다.
Figure pat00003
이와 달리, 더블 피딩 방식을 적용하지 않을 경우에는, 다음의 수학식 2를 충족시키도록 k값이 결정될 수 있다.
Figure pat00004
화소영역 각각에는 도 6에 도시된 바와 같이 데이터 라인들(D1~D6)과 게이트 라인들(G1~G6)에 접속된 박막 트랜지스터들(TFT), 게이트 라인들(G1~G6)과 나란하게 배치되어 터치/공통전극(T)에 연결되는 공통라인들(CL)과, 박막 트랜지스터들(TFT)을 통해 데이터 전압을 공급받는 화소전극들(P11~P66), 라우팅 배선들(L11a~L11c, L12a~L12c, L21a~L21c, L22a~L22c)을 통해 공통 전압(Vcom)과 터치 구동전압(Vtd)을 인가 받는 터치/공통전극들(T11, T12, T21, T22), 및 화소전극들(P11~P66)에 접속되어 액정 셀의 전압을 유지시키기 위한 스토리지 캐패시터들(Cst) 등이 배치된다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 1 화소영역은, 서로 인접한 데이터 라인들(예를 들면, D1, D2) 및 게이트 라인들(예를 들면, G1, G2, 도 6에서는 G1의 상부 영역으로 표시함)에 의해 정의되는 영역이다. 이하의 설명에서는 편의상 2개의 화소영역 R2를 들어 설명하기로 한다. 도 7의 영역 R2에서 편의상 화소전극은 P, 터치/공통전극은 T로 각각 표시한다.
영역 R2에는 게이트 라인(G1) 및 공통라인(CL)과 서로 교차하는 데이터 라인들(D1, D2, D3), 및 게이트 라인(G1)으로부터 연장되는 게이트 전극(GE), 데이터 라인(D1)으로부터 연장된 소스전극(SE), 및 소스전극(SE)으로부터 이격된 드레인 전극(DE)을 포함하는 박막 트랜지스터(TFT)와, 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된 화소전극(P)과, 화소전극(P)과 수평전계를 형성하도록 번갈아 배치되는 터치/공통전극(T)이 배치된다.
화소전극(P)은 동일한 간격으로 나란하게 배치되는 복수의 제 1 가지부들(또는 핑거부들)(Pbr)과 이들을 연결하는 제 1 줄기부(Pcon)를 포함한다.
터치/공통전극(T)은 동일한 간격으로 나란하게 배치되는 복수의 제 2 가지부들(또는 핑거부들)(Tbr)과 이들을 연결하는 제 2 줄기부(Tcon)를 포함한다. 터치/공통전극(T)의 복수의 제 2 가지부들(Tbr)은 화소전극(P)의 복수의 제 1 가지부들(Pbr)과 번갈아 배치된다. 서로 이웃한 2개의 제 1 및 제 2 데이터 라인들(D1, D2)에 인접해서는 각각 제 2 가지부들(Tbr, Tbr)이 위치된다. 즉, 제 1 데이터 라인(D1)에는 터치/공통전극(T)의 최좌측 제 2 가지부(Tbr)가 인접해서 위치하고, 제 2 데이터 라인(D2)에는 터치/공통전극(T)의 최우측 제 2 가지부(Tbr)가 인접해서 위치한다.
이와 같이 터치/공통전극(T)의 최좌측 및 최우측 제 2 가지부들(Tbr)을 제 1 데이터 라인(D1)에 인접하게 배치함으로써 데이터 라인에 공급되는 데이터 신호에 의해 화소전극에 기생 정전용량이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
각 라우팅 배선 그룹(L11, L21, L31)은 각 데이터 라인(D1, D2, D3)과 중첩하는 영역에 배치된다. 예를 들어, 제 1-1 라우팅 배선 그룹(L11) 을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 중 적어도 하나의 라우팅 배선은 제 1 데이터 라인(D1)과 중첩하도록 배치되고, 제 2-1 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L21a~L21c) 중 적어도 하나의 라우팅 배선은 제 2 데이터 라인(D2)과 중첩하도록 배치되며, 제 3-1 라우팅 배선 그룹(L31)을 구성하는 라우팅 배선들(L31a~L31c) 중 적어도 하나의 라우팅 배선은 제 3 데이터 라인(D3)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 도 7의 실시예에서는 각 라우팅 그룹의 중간에 위치한 라우팅 배선이 데이터 라인과 중첩되는 것을 예로 들었으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 각 라우팅 배선 그룹을 형성하는 3개의 라우팅 배선들이 하나의 데이터 라인과 중첩되도록 구성될 수도 있다.
라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c, L31a~L31c) 각각은 터치/공통전극(T)과 1:1로 접속될 수 있다.
예를 들면, 제 1-1 라우팅 배선 그룹(L11)의 제 1-1 라우팅 배선(L11a)은 제 1-1 터치/공통전극(T11)에 접속되고, 제 2-1 라우팅 배선 그룹(L21)의 제 2-1 라우팅 배선(L21a)은 제 2-1 터치/공통전극(T21)에 접속되며, 제 3-1 라우팅 배선 그룹(L31)의 제 3-1 라우팅 배선(L31a)은 제 3-1 터치/공통전극(T31)에 접속될 수 있다. 이와 같은 방식으로 모든 터치/공통전극(T11~Tji)은 각 라우팅 배선 그룹에 속하는 라우팅 배선을 통해 터치센서 드라이버(TSD, 도 4 참조)에 접속된다. 라우팅 배선들 중 터치센서 드라이버(TSD)에 연결되지 않은 더미 라우팅 배선들이 있을 경우 표시패널의 화소 어레이 양쪽 단부에 배치될 수 있으며, 이 경우 더미 라우팅 배선들은 그들과 중첩되는 터치/공통전극들 중 하나에만 연결되어야 한다.
이와 달리 라우팅 배선 그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c,…) 각각에 속하는 라우팅 배선들은 우선 제 1 열에 배치된 터치/공통전극들(T11, T21, T31, …)에 1:1로 연결되고, 다음으로 제 2 열에 배치된 터치/공통전극들(T12, T22, T32,…)에 1:1로 연결되는 방식으로 연결될 수도 있다. 즉, 라우팅 배선들은 제 1 열부터 마지막 열까지 배치된 터치/공통전극들에 순차적으로 1:1로 연결될 수 있다.
한편, 라우팅 배선 그룹들(L11, L21) 각각을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c)은 공통라인(CL)과 중첩되는 영역들에서 각각 확장된 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE;)을 구비한다. 라우팅 배선과 터치/공통전극의 연결은 라우팅 배선의 제 1 확장부들의 어느 하나를 통해 이루어진다. 도 7의 예에서는 편의상 라우팅 배선(L21a)이 제 1 확장부(L21aE)를 통해 터치/공통전극(T)의 최외측 가지부(TbrE)로부터 확장된 제 2 확장부(TbrE)에 연결되고, 제 2 확장부(TbrE)는 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 연결되는 구성을 보여주고 있다. 이러한 구성에 따라, 라우팅 배선, 터치 공통전극 및 공통라인이 서로 연결되는 구성을 갖게 된다.
박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)은 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)에 접속된다.
또한, 공통라인(CL)은 터치/공통전극(T)의 최외측에 배치된 제 2 가지부(Tbr)로부터 연장된 제 2 확장부(TbrE)에 접속된다.
이러한 구성에 따라 복수의 화소영역들에 대응하도록 배치된 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 제 2 줄기부(Tcon)를 통해 서로 연결되고, 제 2 확장부(TbrE)를 통해 공통라인(CL)에 연결되며, 터치/공통전극들(T) 각각은 라우팅 배선(L)에 연결된다. 따라서, 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동전압과 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
이하, 도 8a 내지 도 9b를 참조하여 라우팅 배선 그룹과 중첩되는 영역에 대해 보다 설명하기로 한다. 도 8a는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 1 실시예를 도시한 단면도이다. 도 8b는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 2 실시예를 도시한 단면도이다. 도 9a는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 3 실시예를 도시한 단면도이다. 도 9b는 도 7의 I-I' 라인을 따라 취한 제 4 실시예를 도시한 단면도이다.
도 8a 및 도 8b는 하부의 제 1 기판(SUB1) 상에 박막 트랜지스터 및 컬러필터(CF)가 배치되는 박막 트랜지스터 기판과, 상부의 제 2 기판(SUB2) 사이에 액정층이 위치하는 터치센서 내장형 표시장치의 예들을 도시한 단면도이다.
도 8a의 제 1 실시예를 참조하면, 제 1 기판(SUB1) 상에는 제 1 방향(예를 들면, x축 방향)으로 배열된 게이트 라인(G1), 게이트 라인(G1)으로부터 연장된 게이트 전극(GE), 게이트 라인(G1)으로부터 이격된 공통라인(CL)이 배치된다. 각 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록, 하나의 줄기부(CLa)와 이 줄기부(CLa)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부(CLb)를 포함한다. 각 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)는 인접한 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)에 각각 연결된다. 이와 같은 방식으로 각 화소영역에 배치된 줄기부(CLa)와 가지부(CLb)는 하나의 터치/공통전극(T)에 대응하는 영역 내에서 서로 연결된다. 따라서, 하나의 터치/공통전극의 크기에 대응하는 화소영역들에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)는 그에 인접한 다른 터치/공통전극에 속하는 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)에는 연결되지 않고 분리된 상태를 유지한다.
게이트 라인(G1), 게이트 전극(GE) 및 공통라인(CL)을 커버하는 게이트 절연막(GI) 상에는 데이터 라인(D1)이 게이트 라인 및 공통라인(CL)과 교차하는 방향으로 배치된다. 데이터 라인(D1)과 게이트 절연막(GI) 사이에는 데이터 라인(D1)과 중첩되도록 반도체층(A)이 배치될 수 있다. 데이터 라인(D1) 하부에 배치되는 반도체층(A)은 생략될 수도 있다.
데이터 라인(D1)을 커버하는 제 1 절연막(INS1) 상에는 각 화소영역에 대응하여 컬러필터들(CF)이 배치된다. 서로 인접한 화소영역에 배치되는 컬러필터들(CF)은 적절한 두께를 확보하기 위해 경계영역에서 서로 중첩되도록 배치될 수 있다.
컬러필터들(CF)을 커버하는 제 2 절연막(INS2) 상에는 제 1 패시베이션막(PAS1)이 순차적으로 배치되고, 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c)이 배치된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선 그룹(L11)을 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 번갈아 배치된다.
도 8a에 도시된 바와 같이 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 중, 중앙에 위치한 라우팅 배선(L11b)은 데이터 라인(D1)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 좌우측의 라우팅 배선들(L11a, L11c)은 데이터 라인(D1)과의 중첩위치 양단으로부터 각각 이격되도록 배치될 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 전부 또는 일부, 즉 적어도 하나의 라우팅 배선이 데이터 라인(D1)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들과 중첩되는 영역들 및 좌우측의 라우팅 배선들(L11a, L11c) 외측 영역과 중첩되는 영역들에는 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)이 배치된다. 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선 그룹(L11)의 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c)과 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에 배치되는 제 2 가지부들(Tbr) 사이의 수평위치에서의 간격 w1은 도 8a에 도시된 바와 같이 동일 간격을 갖도록 배치되며, 대략 1.5㎛ 내지 3㎛ 사이로 설정되는 것이 바람직하다. 간격 w1이 1.5㎛ 보다 작으면, 제조공정 중의 마스크 시프트(shift)로 인해 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c)과 터치/공통전극의 가지부들(Tbr) 사이에 중첩이 발생될 수 있고, 이 경우, RC(resistance-capacitance) 부하의 급증으로 인해 터치 성능이 저하될 수 있기 때문이다. 또한, 간격 w1이 3㎛보다 클 경우 셀갭 보다 크게 되어 빛샘에 의한 화질저하가 수반되기 때문이다.
도 8b의 제 2 실시예를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들과 중첩되는 영역들에 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)이 배치되지 않는 점을 제외하고는 도 8a의 제 1 실시예와 동일하므로 더 이상의 설명은 생략한다.
도 8a와 도 8b는 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스가 없는 구성으로, 도 8b의 제 2 예는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들 사이에 터치/공통전극의 가지부들(Tbr)이 존재하지 않기 때문에, 제조공정 중에 마스크 시프트가 발생하더라도 라우팅 배선들(L11a~L11c)과 가지부들(Tbr) 사이에 중첩이 발생하지 않게 되므로, 도 8a의 제 1 예와 비교해서 RC부하 편차를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
도 9a 및 도 9b는 하부의 제 1 기판(SUB1) 상에 박막 트랜지스터가 배치된 박막 트랜지스터 기판과, 상부의 제 2 기판(SUB2) 상에 컬러필터(CF)가 배치되는 컬러필터 기판 사이에 액정층이 위치하는 터치센서 내장형 표시장치의 예들을 도시한 단면도이다.
도 9a의 제 3 실시예를 참조하면, 컬러필터 기판은 제 1 기판(SUB1)과 대향하고 있는 제 2 기판(SUB2) 상의 각 화소영역에 배치되는 컬러필터들(CF)과, 인접한 컬러필터들 사이의 빛샘에 의한 혼색을 방지하기 위해 컬러필터들(CF) 사이에 배치되는 블랙매트릭스(BM)와, 컬러필터를 커버하는 오버코트층(OC)을 포함한다.
제 2 기판(SUB2)과 대향하고 있는 제 1 기판(SUB1) 상에는 제 1 예에서와 마찬가지로 게이트 라인(도시 생략), 게이트 전극 및 공통라인(CL)이 배치된다.
게이트 라인, 게이트 전극, 및 공통라인(CL)을 커버하는 게이트 절연막(GI) 상에는 데이터 라인(D1)이 게이트 라인 및 공통라인(CL)과 교차하는 방향으로 배치된다. 데이터 라인(D1)과 게이트 절연막(GI) 사이에는 데이터 라인(D1)과 중첩되도록 반도체층(A)이 배치될 수 있다. 데이터 라인(D1) 하부에 배치되는 반도체층(A)은 생략될 수도 있다.
게이트 절연막(GI) 상에는 데이터 라인을 커버하도록 제 1 절연막(INS1), 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)이 순차적으로 배치된다. 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c)이 배치된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선 그룹(L11)을 커버하도록 제 2 패시베이션막(PAS2) 이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 번갈아 배치된다.
도 9a에 도시된 바와 같이 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 중, 중앙에 위치한 라우팅 배선(L11b)은 데이터 라인(D1)과 중첩되도록 배치될 수 있다. 좌우측의 라우팅 배선들(L11a, L11c)은 데이터 라인(D1)과의 중첩위치 양단으로부터 각각 이격되도록 배치된다. 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들과 중첩되는 영역들 및 좌우측의 라우팅 배선들(L11a, L11c) 외측 영역과 중첩되는 영역들에는 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)이 배치된다. 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선 그룹(L11)의 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c)과 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에 배치되는 제 2 가지부들(Tbr) 사이의 수평위치에서의 간격 w1은 도 8a의 제 1 실시예에서와 마찬가지로 동일 간격을 갖도록 배치되며, 대략 1.5㎛ 이상 블랙 매트릭스의 끝단을 넘지 않도록 설정되는 것이 바람직하다. 간격 w1이 1.5㎛ 보다 작으면, 제조공정 중의 마스크 시프트(shift)로 인해 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c)과 터치/공통전극의 가지부들(Tbr) 사이에 중첩이 발생될 경우, RC 부하의 급증으로 인해 터치 성능이 저하될 수 있기 때문이다. 또한, 간격 w1이 블랙 매트릭스의 끝단을 넘을 경우 개구부를 가리게 되어 휘도를 저하시킬 수 있기 때문이다.
도 9b의 제 4 살시예를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들과 중첩되는 영역들에 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)이 배치되지 않는 점을 제외하고는 도 9a의 제 3 실시예와 동일하므로 더 이상의 설명은 생략한다. 도 9a와 도 9b의 실시예에서 제 1 패시베이션막(PAS1)은 생략될 수도 있다.
도 9a와 도 9b는 빛샘 방지를 위한 블랙 매트릭스가 있는 구성으로, 도 9b의 제 4 예는 라우팅 배선들(L11a~L11c) 사이의 개구부들 사이에 터치/공통전극의 가지부들(Tbr)이 존재하지 않기 때문에, 제조공정 중에 마스크 시프트가 발생하더라도 라우팅 배선들(L11a~L11c)과 가지부들(Tbr) 사이에 중첩이 발생하지 않게 되므로, 도 9a의 제 3 실시예와 비교해서 RC부하 편차를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
다음의 표 1 및 표 2는 도 8b 및 도 9b의 제 2 예 및 제 4 예의 구성에서, 라우팅 배선과 그에 인접한 터치/공통전극의 가지부 사이의 거리 w1이 3㎛로 설정된 경우, 시프트가 발생하지 않은 경우(표 1)와 3㎛의 시프트가 발생했을 경우(표 2)의 RC지연을 보여주는 표이다.
구분 터치/공통전극의 정상위치 터치/공통전극의 3㎛ 시프트
Left Center Right Left Center Right
Touch
Block		 VCOM-GATE 3.20E-11 3.20E-11 3.20E-11 3.20E-11 3.20E-11 3.20E-11
VCOM-DATA 6.09E-11 6.11E-11 6.09E-11 6.09E-11 6.11E-11 6.09E-11
VCOM-M3L 7.98E-11 8.04E-11 7.98E-11 1.34E-10 1.37E-10 1.37E-10
SUM 1.73E-10 1.73E-10 1.73E-10 2.27E-10 2.30E-10 2.29E-10
Touch
Line		 M3L-VCOM 9.46E-11 5.14E-11 9.39E-11 2.70E-10 5.02E-11 8.77E-11
M3L-GATE 1.06E-12 7.68E-16 4.91E-13 1.08E-12 1.20E-15 6.51E-13
M3L-DATA 3.09E-11 4.72E-11 3.16E-11 3.07E-11 4.72E-11 3.18E-11
SUM 1.27E-10 9.86E-11 1.26E-10 3.02E-10 9.75E-11 1.20E-10
GATE Line 9.39E-10 9.39E-10 9.39E-10 9.40E-10 9.40E-10 9.40E-10
DATA Line 4.65E-10 4.65E-10 4.65E-10 4.65E-10 4.65E-10 4.65E-10
Touch
Block + Line		 Vcom-M3L
포함 		2.99E-10 2.72E-10 2.99E-10 5.29E-10 3.28E-10 3.50E-10
R 3032 3032 3032 3032 3032 3032
Total RC Delay(㎲) 0.91E -06 0.83E -06 0.91E -06 1.61E -06 0.99E -06 1.06E -06
구분 터치/공통전극의 정상위치 터치/공통전극의 3㎛ 시프트
Left Center Right Left Center Right
Touch
Block		 VCOM-GATE 3.09E-11 3.09E-11 3.09E-11 3.10E-11 3.10E-11 3.10E-11
VCOM-DATA 6.05E-11 6.07E-11 6.05E-11 6.04E-11 6.06E-11 6.05E-11
VCOM-M3L 2.92E-11 2.96E-11 2.92E-11 4.00E-11 4.08E-11 4.04E-11
SUM 1.21E-10 1.21E-10 1.21E-10 1.31E-10 1.32E-10 1.32E-10
Touch
Line		 M3L-VCOM 4.03E-11 8.10E-12 3.97E-11 7.80E-11 8.04E-12 3.51E-11
M3L-GATE 1.13E-12 8.96E-16 5.93E-13 1.16E-12 1.27E-15 7.02E-13
M3L-DATA 3.14E-11 4.82E-11 3.21E-11 3.14E-11 4.82E-11 3.24E-11
SUM 7.28E-11 5.63E-11 7.24E-11 1.11E-10 5.63E-11 6.82E-11
GATE Line 9.16E-10 9.16E-10 9.16E-10 9.16E-10 9.16E-10 9.16E-10
DATA Line 4.66E-10 4.66E-10 4.66E-10 4.66E-10 4.66E-10 4.66E-10
Touch
Block + Line		 Vcom-M3L
포함 		1.93E-10 1.78E-10 1.93E-10 2.42E-10 1.89E-10 2.00E-10
R 3032 3032 3032 3032 3032 3032
Total RC Delay(㎲) 0.59E -06 0.54E -06 0.59E -06 0.73E -06 0.57E -06 0.61E -06
위의 표 1 및 2로부터 알 수 있는 바와 같이 터치/공통전극이 정상위치에 있을 때보다 3㎛의 시프트가 있을 경우 RC 지연이 증가하였음을 알 수 있다.
다음으로, 도 7 및 도 10a 내지 도 11b를 참조하여 본 발명의 제 1 내지 제 4 실시예들에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다.
우선, 도 7 및 도 10a를 참조하여, 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 10a는 도 7의 II-II'라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 1 실시예를 도시한 단면도이다.
도 7 및 도 10a를 참조하면, 1 화소영역은, 서로 인접한 데이터 라인들(예를 들면, D1, D2) 및 서로 인접한 게이트 라인들(예를 들면, G1, G2, 도 7에서는 G1의 상부 영역으로 표시함)에 의해 정의되는 영역이다. 편의상 도 7 및 도 10a의 1화소영역에서 화소전극은 P, 터치/공통전극은 T로 각각 표시한다.
1화소영역에는 서로 교차하는 데이터 라인들(D1, D2) 및 게이트 라인들(G1)과, 게이트 라인(G1)으로부터 연장되는 게이트 전극(GE), 데이터 라인(D1)으로부터 연장된 소스전극(SE), 및 소스전극(SE)으로부터 이격된 드레인 전극(DE)을 포함하는 박막 트랜지스터(TFT)와, 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극에 접속된 화소전극(P)과, 화소전극(P)과 수평전계를 형성하도록 배치되는 터치/공통전극(T)이 배치된다.
기판(SUB1) 상에는 제 1 방향(예를 들면, x축 방향)으로 배열된 게이트 라인(G1), 게이트 라인(G1)으로부터 연장된 게이트 전극(GE), 게이트 라인(G1)으로부터 이격된 공통라인(CL)이 배치된다. 각 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록 하나의 줄기부(CLa)와 이 줄기부(CLa)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부(CLb)를 포함한다. 각 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)는 인접한 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)에 각각 연결될 수 있다. 이와 같은 방식으로 각 화소영역에 배치된 줄기부(CLa)와 가지부(CLb)는 하나의 터치/공통전극(T)에 대응하는 영역 내에서 서로 연결될 수 있다. 따라서, 하나의 터치/공통전극의 크기에 대응하는 화소영역들에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)는 그에 인접한 다른 터치/공통전극에 속하는 화소영역에 배치된 줄기부(CLa) 및 가지부(CLb)에는 연결되지 않고 분리된 상태를 유지한다.
기판(SUB) 상에는 게이트 라인(G1), 게이트 전극(GE) 및 공통라인(CL)을 커버하도록 게이트 절연막(GI)이 배치된다. 게이트 절연막(GI)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
게이트 절연막(GI) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)를 구성하는 반도체층(A), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)과 데이터 라인(D1, D2)이 배치된다. 반도체층(A)은 게이트 절연막(GI) 상에서 게이트 전극(GE)과 중첩되도록 배치된다. 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 반도체층(A) 상에서 분리되어 배치된다. 데이터 라인(D1)은 게이트 라인과 교차하도록 배치되며, 반도체층(A) 상에 배치된다.
상기 실시예에서, 비록 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극이 소스/드레인 전극의 하층에 배치되는 게이트 버텀 구조(gate bottom structure)의 박막 트랜지스터를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 게이트 전극이 소스/드레인 영역의 상부에 배치되는 게이트 탑 구조(gate top structure)의 박막 트랜지스터도 포함하는 것으로 이해하여야 한다. 게이트 탑 구조(gate top structure)의 박막 트랜지스터에 대한 구성은 이미 알려져 있으므로 그에 대한 자세한 설명은 생략한다.
게이트 절연막(GI) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)와 데이터 라인(D1, D2)을 커버하도록 제 1 절연막(INS1)이 배치된다. 제 1 절연막(INS1)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
제 1 절연막(INS1) 상에는 컬러필터(CF)가 각 화소영역마다 배치된다. 컬러필터(CF) 상에는 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)이 순차적으로 배치된다. 제 2 절연막(INS2)은 포토 아크릴(PAC)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다. 제 1 패시베이션막(PAS1)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
제 1 패시베이션막(PAS1)상에는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)이 배치된다.
각 라우팅 배선 그룹(L11, L21, L31)은 각 데이터 라인(D1, D2, D3)과 중첩하는 영역에 배치된다. 라우팅 배선 그룹(L11a~L11c, L21a~L21c, L31a~L31c) 각각에 속하는 적어도 하나의 라우팅 배선은 데이터 라인(D1, D2, D3)과 각각 중첩되도록 배치될 수 있다. 도 10a의 예에서는 하나의 데이터 라인(D1 또는 D2)에 3개의 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c 또는 L21a, L21b, L21c)이 중첩되는 구성을 보여주고 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 라우팅 배선 그룹(L11, L21)의 어느 하나에 속하는 라우팅 배선(예를 들면, 중앙의 라우팅 배선(L11b, L21b))이 데이터 라인(D1, D2)과 중첩될 수도 있다.
라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c, L31a~L31c) 각각은 터치/공통전극(T)과 1:1로 접속될 수 있다.
예를 들면, 제 1-1 라우팅 배선 그룹(L11)의 제 1-1 라우팅 배선(L11a)은 제 1-1 터치/공통전극(T11)에 접속되고, 제 2-1 라우팅 배선 그룹(L21)의 제 2-1 라우팅 배선(L21a)은 제 2-1 터치/공통전극(T21)에 접속되며, 제 3-1 라우팅 배선 그룹(L31)의 제 3-1 라우팅 배선(L31a)은 제 3-1 터치/공통전극(T31)에 접속될 수 있다. 이와 같은 방식으로 모든 터치/공통전극(T11~Tji)은 각 라우팅 배선 그룹에 속하는 라우팅 배선을 통해 터치센서 드라이버(TSD, 도 4 참조)에 접속된다. 라우팅 배선들 중 터치센서 드라이버(TSD)에 연결되지 않은 더미 라우팅 배선들이 있을 경우 표시패널의 화소 어레이 양쪽 단부에 배치될 수 있으며, 이 경우 더미 라우팅 배선들은 그들과 중첩되는 터치/공통전극들 중 하나에만 연결되어야 한다.
이와 달리 라우팅 배선 그룹들(L11a~L11c, L21a~L21c, L12a~L12c, L22a~L22c,…) 각각에 속하는 라우팅 배선들은 우선 제 1 열에 배치된 터치/공통전극들(T11, T21, T31, …)에 1:1로 연결되고, 다음으로 제 2 열에 배치된 터치/공통전극들(T12, T22, T32,…)에 1:1로 연결되는 방식으로 연결될 수도 있다. 즉, 라우팅 배선들은 제 1 열부터 마지막 열까지 배치된 터치/공통전극들에 순차적으로 1:1로 연결될 수 있다.
한편, 라우팅 배선 그룹들(L11, L21) 각각을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c, L21a~L21c)은 공통라인(CL)과 중첩되는 영역들에서 각각 확장된 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE)을 구비한다. 라우팅 배선과 터치/공통전극의 연결은 라우팅 배선의 제 1 확장부들의 어느 하나를 통해 이루어진다.
상술한 구성에 따르면, 인접한 화소영역들 사이에 배치된 데이터 라인과 중첩되도록 복수의 라우팅 배선들로 이루어진 라우팅 배선 그룹이 배치되어 충분한 수의 라우팅 배선들을 얻을 수 있기 때문에 대화면 표시장치에 적용되더라도 터치/공통전극의 크기를 줄일 필요 없이 터치 해상도를 유지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 각 라우팅 배선 그룹은 블랙 매트릭스와 중첩되는 위치 또는 인접 화소영역의 중첩된 컬러필터들에 대응하는 위치에 배치되기 때문에 개구율을 저하시킴 없이 휘도를 유지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
한편, 모든 라우팅 배선들은 화소 어레이 영역 내에서 모두 동일한 길이를 갖도록 설정될 수 있다. 이와 같이 화소 어레이 내에 배치되는 라우팅 배선들의 길이를 모두 동일하게 형성하면, 라우팅 배선에 의한 공통전극의 정전용량이 동일하게 되어 정전용량 차이에 의한 화질 문제 (터치센서간의 휘도차이)를 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 커버하도록 제 2 패시베이션막(PAS2)이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다.
화소전극(P)은 제 1 줄기부(Pcon)와, 제 1 줄기부(Pcon)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되며 동일한 간격으로 나란하게 배치되는 복수의 제 1 가지부들(Pbr)을 포함한다.
화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 컬러필터(CF) 및 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)과, 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되는 위치에서 제 2 절연막(INS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH4)과, 제 4 콘택홀(CH4)과 중첩되는 위치에서 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 7 콘택홀(CH7)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
터치/공통전극(T)은 제 2 줄기부(Tcon)와, 제 2 줄기부(Tcon)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되며, 동일한 간격으로 나란하게 배치되는 복수의 제 2 가지부들 (Tbr)을 포함한다.
터치/공통전극(T)의 복수의 제 2 가지부들(Tbr)은 화소전극(P)의 복수의 제 1 가지부들(Pbr)과 번갈아 배치된다. 서로 인접한 2개의 제 1 및 제 2 데이터 라인들(D1, D2)에 인접해서는 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr, Tbr)이 위치된다. 즉, 하나의 화소영역에서 제 1 데이터 라인(D1)에는 터치/공통전극(T)의 최좌측 제 2 가지부(Tbr)가 인접해서 위치하고, 제 2 데이터 라인(D2)에는 터치/공통전극(T)의 최우측 제 2 가지부(Tbr)가 인접해서 위치한다. 데이터 라인(D1)과 터치 공통전극(T)의 최좌측 제 2 가지부(Tbr) 사이 및 데이터 라인(D2)과 터치 공통전극(T)의 최우측 제 2 가지부(Tbr) 사이에는 공통라인(CL)의 가지부(CLb)가 배치될 수 있다.
한편, 1화소영역 내에서 터치/공통전극(T)의 최외측에 배치된 제 2 가지부(Tbr)는 공통라인(CL)의 가지부(CLb)와 일부 영역이 중첩될 수 있으며, 줄기부(CLa)와 중첩되는 영역에서 제 2 확장부(TbrE)를 갖는다.
터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되는 위치에서 제 2 절연막(INS2)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)과, 제 3 콘택홀(CH3)과 중첩되는 위치에서 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 공통라인(CL)에 연결되고, 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 6 콘택홀(CH6)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 연결된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 10b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 10b는 도 7의 II-II'라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 2 실시예를 도시한 단면도이다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 컬러필터를 커버하는 제 2 절연막(INS2)이 생략되고, 무기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2) 대신 유기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)이 형성되는 점을 제외하고는 본 발명의 제 2 실시예의 제 1 예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 1 실시예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
박막 트랜지스터(TFT)와 데이터 라인(D1, D2)을 커버하는 제 1 절연막(INS1) 상에는 컬러필터(CF)가 각 화소마다 배치된다. 컬러필터(CF)를 커버하는 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)이 배치된다. 제 1 패시베이션막(PAS1)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c)을 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2)은 포토 아크릴(PAC)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다.
본 발명의 제 2 실시예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 컬러필터(CF)와 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)과, 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되며 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되며 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH5)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다. 또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH4)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 11a를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 11a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 3 실시예를 도시한 단면도이다.
본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 컬러필터층이 생략되는 점을 제외하고는 제 2 실시예의 제 1 예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 2 실시예의 제 1 예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
게이트 절연막(GI) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)와 데이터 라인(D1, D2)을 커버하도록 제 1 절연막(INS1), 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)이 순차적으로 배치된다. 제 1 절연막(INS1) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다. 제 2 2 절연막(INS2)은 포토 아크릴(PAC)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)이 배치된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 커버하도록 제 2 패시베이션막(PAS2)이 배치된다.
제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다.
본 발명의 제 3 실시예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)과, 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되며 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 절연막(INS2), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되며 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다. 또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH4)을 통해 라우팅 배선(L21)의 제 1 확장부(L21E)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 11b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 11b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III'라인을 따라 취한 제 4 실시예를 도시한 단면도 이다.
본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 제 3 실시예의 제 2 절연막(INS2)과 제 1 패시베이션막(PAS1)이 제거되고, 무기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)이 유기 절연물질의 제 2 패시베이션막(PAS2)으로 형성되는 점을 제외하고는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 3 실시예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
박막 트랜지스터(TFT)와 데이터 라인(D1, D2)을 커버하는 제 1 절연막(INS1) 상에는 제 1 패시베이션막(PAS1)이 배치된다. 제 1 절연막(INS1)과 제 1 패시베이션막(PAS1)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 형성될 수 있다. 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 상에는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)이 배치된다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다. 제 2 패시베이션막(PAS2)은 포토 아크릴(PAC)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다.
본 발명의 제 4 실시예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 패시베이션막(PAS2), 제 1 패시베이션막(PAS1), 및 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2), 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다. 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 2 콘택홀을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
본 발명의 본 발명의 제 2 실시예의 제 4 예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에서는 제 1 절연막(INS1)과 제 2 절연막(INS2) 중의 어느 하나는 생략될 수도 있다. 이 경우, 남아 있는 절연막은 평탄화를 위해 두껍게 형성될 수 있다.
다음으로, 도 7 및 도 12a 내지 도 13b를 참조하여, 본 발명의 제 1 내지 제 4 실시예의 변형예들에 대해 설명하기로 한다.
우선 도 7 및 도 12a를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예의 변형예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 12a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 1 실시예의 변형예를 도시한 단면도이다.
도 12a를 참조하면, 제 1 실시예의 변형예는 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c)이 배치된 제 1 패시베이셔막(PAS1) 상에, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)와 공통라인(CL)을 연결하기 위한 제 1 연결패턴(CP1)과, 화소전극(P)의 제 1 줄기부 (Pcon)와 박막 트랜지스터의 드레인 전극(DE)을 연결하기 위한 제 2 연결패턴(CP2)이 배치되고, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)가 제 2 연결패턴(CP2)에 사이드 콘택되고, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)가 제 1 연결패턴(CP1)에 사이드 콘택되는 점을 제외하고는 제 2 실시예의 제 1 예와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 2 실시예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
도 12a를 참조하면, 컬러필터들(CF)을 커버하는 제 2 절연막(INS2) 상의 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 제 1 연결패턴(CP1), 제 2 연결패턴(CP2) 및 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c)로부터 각각 확장된 제 1 내지 제 3 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE)이 배치된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 2 절연막(INS2), 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1), 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 콘택홀들(CH1, CH3, CH5)을 통해 노출된 공통라인(CL)에 접속된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선 그룹(L11), 제 1 및 제 2 연결패턴들(CP1, CP2)을 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다.
본 발명의 제 2 실시예의 변형예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 7 콘택홀(CH7)을 통해 제 2 연결패턴(CP2)과 사이드 콘택되고, 제 2 연결패턴(CP2)은 컬러필터(CF)와 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)과, 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되며 제 1 패시베이션막(PAS1) 및 제 2 절연막(INS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH4)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 연결패턴(CP2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 제 1 연결패턴(CP1)에 접속되고, 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 6 콘택홀(CH6)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21Ea)에 접속된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되며 제 1 패시베이션막(PAS1) 및 제 2 절연막(INS2)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 1 연결패턴(CP1)을 통해 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로, 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 12b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예의 변형예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 12b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 2 실시예의 변형예를 도시한 단면도이다.
도 12b를 참조하면, 제 2 실시예의 변형예는 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c)이 배치된 제 1 패시베이셔막(PAS1) 상에, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)와 공통라인(CL)을 연결하기 위한 제 1 연결패턴(CP1)과, 화소전극(P)의 제 1 줄기부 (Pcon)와 박막 트랜지스터의 드레인 전극(DE)을 연결하기 위한 제 2 연결패턴(CP2)이 배치되고, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)가 제 2 연결패턴(CP2)에 사이드 콘택되고, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)가 제 1 연결패턴(CP1)에 사이드 콘택되는 점을 제외하고는 제 1 실시예의 변형예와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치와 중복되는 부분에 대해서는 자세한 설명을 생략한다.
도 14b를 참조하면, 컬러필터들(CF)을 커버하는 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 제 1 연결패턴(CP1), 제 2 연결패턴(CP2) 및 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c)이 배치된다. 라우팅 배선들(L11a~L11c)의 각각은 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE)을 포함한다. 제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1), 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 콘택홀들(CH1, CH3, CH5)을 통해 노출된 공통라인(CL)에 접속된다. 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선 그룹(L11), 제 1 연결패턴(CP1) 및 제 2 연결패턴(CP2)를 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다.
본 발명의 제 2 실시예의 변형예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 7 콘택홀(CH7)을 통해 제 2 연결패턴(CP2)과 사이드 콘택되고, 제 2 연결패턴(CP2)은 컬러필터(CF)와 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)과, 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되며 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH4)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 연결패턴(CP2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 제 1 연결패턴(CP1)에 접속되고, 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 6 콘택홀(CH6)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 접속된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 컬러필터(CF), 제 1 절연막(INS1) 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되며 제 1 패시베이션막(PAS1)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 1 연결패턴(CP1)을 통해 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로, 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 13a를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예의 변형예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.도 13a는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 3 실시예의 변형예를 도시한 단면도이다.
도 13a를 참조하면, 제 3 실시예의 변형예는 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c)이 배치된 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)와 공통라인(CL)을 연결하기 위한 제 1 연결패턴(CP1)과, 화소전극(P)의 제 1 줄기부 (Pcon)와 박막 트랜지스터의 드레인 전극(DE)을 연결하기 위한 제 2 연결패턴(CP2)이 배치되고, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)가 제 2 연결패턴(CP2)에 사이드 콘택되고, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)가 제 1 연결패턴(CP1)에 사이드 콘택되는 점을 제외하고는 제 3 실시예와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 3 실시예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
도 13a를 참조하면, 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 제 1 연결패턴(CP1), 제 2 연결패턴(CP2) 및 라우팅 배선 그룹(예를 들면, L11)을 구성하는 라우팅 배선들(L11a~L11c)이 배치된다. 라우팅 배선들(L11a~L11c)의 각각은 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE)을 구비한다.
제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 2 절연막(INS2), 제 1 절연막(INS1), 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 콘택홀들(CH1, CH3)을 통해 노출된 공통라인(CL)에 접속된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c) 및 제 1 연결패턴(CP1)를 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다.
본 발명의 제 3 실시예의 변형예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 제 2 연결패턴(CP2)과 사이드 콘택되고, 제 2 연결패턴(CP2)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 연결패턴(CP2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 제 1 연결패턴(CP1)에 접속되고, 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH5)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 접속된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 2 절연막(INS2), 제 1 절연막(INS1)및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 1 연결패턴(CP1)을 통해 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로, 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
다음으로, 도 7 및 도 13b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예의 변형예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
도 13b는 도 7의 II-II' 라인 및 III-III' 라인을 따라 취한 제 4 실시예의 변형예를 도시한 단면도이다.
도 13b에 도시된 제 4 실시예의 변형예는 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c)이 배치된 제 2 절연막(INS2) 상에, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)와 공통라인(CL)을 연결하기 위한 제 1 연결패턴(CP1)과, 화소전극(P)의 제 1 줄기부 (Pcon)와 박막 트랜지스터의 드레인 전극(DE)을 연결하기 위한 제 2 연결패턴(CP2)이 배치되고, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)가 제 2 연결패턴(CP2)에 사이드 콘택되고, 터치/공통 전극(T)의 제 2 가지부(Tbr)가 제 1 연결패턴(CP1)에 사이드 콘택되는 점을 제외하고는 제 4 실시예와 실질적으로 동일하다. 따라서, 설명을 간략히 하기 위해 본 발명의 제 4 실시예와 상이한 부분에 대해서만 설명하기로 한다.
도 13b를 참조하면, 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에는 제 1 연결패턴(CP1), 제 2 연결패턴(CP2) 및 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c)로부터 각각 확장된 제 1 확장부들(L21aE, L21bE, L21cE)이 배치된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 1 절연막(INS1), 및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 콘택홀들(CH1, CH3)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다.
제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 배치된 라우팅 배선들(L21a, L21b, L21c) 및 제 1 연결패턴(CP1)를 커버하는 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에는 화소전극(P)과 터치/공통전극(T)이 배치된다.
본 발명의 제 4 실시예에서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 5 콘택홀(CH5)을 통해 제 2 연결패턴(CP2)과 사이드 콘택되고, 제 2 연결패턴(CP2)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 및 제 1 절연막(INS1)을 관통하는 제 2 콘택홀(CH2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속된다.
따라서, 화소전극(P)의 제 1 줄기부(Pcon)는 제 2 연결패턴(CP2)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 접속되므로 데이터 라인으로부터 공급되는 데이터 신호를 공급받을 수 있게 된다.
또한, 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 3 콘택홀(CH3)을 통해 제 1 연결패턴(CP1)에 접속되고, 제 2 패시베이션막(PAS2)을 관통하는 제 4 콘택홀(CH5)을 통해 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 접속된다. 제 1 연결패턴(CP1)은 제 1 패시베이션막(PAS1), 제 1 절연막(INS1)및 게이트 절연막(GI)을 관통하는 제 1 콘택홀(CH1)을 통해 노출된 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)에 접속된다.
따라서 터치/공통전극(T)의 제 2 확장부(TbrE)는 제 1 연결패턴(CP1)을 통해 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 라우팅 배선(L21a)의 제 1 확장부(L21aE)에 각각 연결되므로, 각각의 터치 공통전극들은 그에 연결된 라우팅 배선을 통해 터치 구동을 위한 터치 구동전압과 디스플레이 구동을 위한 공통전압을 공급받을 수 있게 된다.
제 4 실시예의 변형예에서는 제 1 절연막(INS1)과 제 2 절연막(INS2) 중 어느 하나는 생략될 수도 있다.
다음으로, 도 14a 및 도 14b를 참조하여, 라우팅 배선, 제 1 연결패턴, 및 제 2 연결패턴의 구성에 대해 보다 상세히 설명하기로 한다. 도 14a는 본 발명의 실시예들에 따르는 의 라우팅 배선, 제 1 연결패턴, 및 제 2 연결패턴의 제 1 예를 도시한 단면도이다. 도 14b는 본 발명의 실시예들에 따르는 의 라우팅 배선, 제 1 연결패턴, 및 제 2 연결패턴의 제 2 예를 도시한 단면도이다.
도 14a의 제 1 예를 참조하면, 제 2 패시베이션막(PAS2) 또는 제 2 절연막(INS) 상에 제 1 보호층으로서의 제 1 금속층(M1)이 배치된다. 제 1 금속층(M1) 상에는 저저항의 제 2 금속층(M2)이 배치된다. 제 1 및 제 2 금속층(M1, M2)이 배치된 제 2 패시베이션막(PAS2) 또는 제 2 절연막(INS) 상에 제 1 및 제 2 금속층(M1, M2)이 외부로 노출되지 않도록 제 2 보호층으로서의 제 3 금속층(M3)이 배치된다. 제 2 금속층(M2)은 단일층 또는 복층으로 형성될 수 있다.
이와 같이 함으로써 저저항 금속층인 제 2 금속층(M2)이 주변환경 등에 의해 산화되는 것을 방지할 수 있고, 공정영향(공극)을 최소화시켜 안정화 시킬 수 있다. 또한, 블랙 매트릭스가 없는 구조의 경우에는 복층 금속층의 구조에 따르는 저반사의 효과를 가질 수 있게 된다.
도 14b의 제 2 예를 참조하면, 제 2 패시베이션막(PAS2) 또는 제 2 절연막(INS) 상에 제 1 보호층으로서의 제 1 금속층(M1)이 배치된다. 제 1 금속층(M1) 상에는 저저항의 제 2 금속층(M2)이 배치된다. 제 2 금속층(M2) 상에는 제 2 보호층으로서의 제 3 금속층(M3)이 배치된다. 제 2 금속층(M2)은 단일층 또는 복층으로 형성될 수 있다.
도 14b의 제 2 예는 도 14a의 제 1 예와 비교하여 저저항 금속층인 제 2 금속층(M2)의 측면부가 주변환경에 따라 산화될 위험성이 있으나, 마스크 공정을 줄일 수 있다는 효과를 얻을 수 있다.
다음으로 도 15a 및 도 15b를 참조하여 게이트 라인, 데이터 라인, 및 라우팅 배선이 연결된 패드부에 대해 설명하기로 한다. 도 15a는 게이트 라인, 데이터 라인, 또는 라우팅 배선 등의 신호라인(SL)이 연결된 패드가 배치된 패드부의 구성을 개략적으로 도시한 평면도이다. 도 15b는 도 15a의 I-I' 라인을 따라 취한 패드의 단면도이다.
도 15a 및 도 15b를 참조하면, 패드(PAD)는 제 1 기판(SUB1)상에 배치된 순차적으로 적층된 제 1 금속층(M1), 제 2 금속층(M1), 제 3 금속층(M3), 및 제 4 금속층(M4)으로 이루어진다. 제 1 금속층(M1)은 게이트 라인 및 공통라인을 형성할 때 형성되는 금속층이다. 제 2 금속층(M2)은 라우팅 배선 그룹(L11)을 형성할 때 형성되는 금속층이다. 제 3 금속층(M3)은 라우팅 배선 등을 멀티층으로 형성할 때 이용되는 제 2 보호층으로 형성되는 금속층으로 생략될 수 있다. 제 4 금속층(M4)은 화소전극과 터치/공통전극을 형성할 때 형성되는 금속층이다.
이하, 본 발명의 제 1 내지 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해 설명하기로 한다. 제 1 내지 제 4 실시예의 변형예들에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해서는 제 1 및 제 2 연결패턴들을 형성하기 위한 공정이 추가되는 것을 제외하고는 제 1 내지 제 4 실시예들의 제조방법과 실질적으로 동일하므로 그에 대한 제조방법의 설명은 생략하기로 한다.
우선, 도 16a 내지 도 22b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
도 16a 및 도 16b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 16a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 16b는 도 16a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 16a 및 도 16b를 참조하면, 투명한 제 1 기판(SUB1) 상에 제 1 도전성 금속물질을 증착한 후 제 1 포토레지스트(photoresist)를 전면 도포한다. 그 후 제 1 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 1 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 1 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 1 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 1 방향(예를 들면, 가로방향)으로 배열되는 게이트 라인(G1), 게이트 라인(G1)으로부터 화소영역으로 연장되는 게이트 전극(GE), 및 게이트 라인(G1) 으로부터 이격된 공통라인(CL)을 포함하는 제 1 도전성 금속층을 형성한다. 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록, 하나의 줄기부(CLa)와 그 줄기부(CLa)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부들(CLb)을 포함한다.
제 1 도전성 금속은 구리(Cu)나 알루미늄(Al)과 같은 저저항성 금속 물질과, 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo)과 같은 내 부식성이 강한 금속 물질을 포함한다. 다른 예로, 구리층과 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 구조, 몰리브덴층과 알루미늄-네오듐 합금층이 적층된 구조, 또는 구리층과 몰리브덴층이 적층된 2중층 구조를 가질 수도 있다. 또 다른 예로, 니켈층과, 구리층, 그리고 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 3중층 구조를 가질 수도 있다.
다음으로, 도 17a 및 도 17b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 17a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 17b는 도 17a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 17a 및 도 17b를 참조하면, 제 1 도전성 금속층이 형성된 제 1 기판(SUB1) 상에 질화 실리콘(SiNx) 혹은 산화 실리콘(SiOx)과 같은 절연물질을 전체 면에 도포하여 게이트 절연막(GI)을 형성한다. 이어서 게이트 절연막(GI)의 전체 면상에 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 순차적으로 도포한 후, 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정으로 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 소스전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다.
보다 구체적으로, 제 2 마스크 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행된다. 이를 위해 게이트 절연막(GI) 상에 순차적으로 증착된 반도체 물질과 제 2 도전성 금속 물질 상에 제 2 포토레지스트를 전면 도포한다. 제 2 도전성 금속물질로는 제 1 도전성 금속물질과 동일한 물질이 이용된다. 그 후 하프톤 마스크(제 2 포토 마스크)를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 2 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 2 포토레지스트 패턴을 제거하여 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 화소영역으로 연장되는 소스 전극(SE), 및 소스전극(SE)과 일정 간격을 두고 배치되는 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다. 반도체층(A)은 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 중첩되는 영역과, 공통라인(CL)의 가지부들(CLb)과 나란하게 배열되어 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 영역을 포함한다.
제 1 마스크 공정에 의해 형성되는 게이트 전극(G)과 제 2 마스크 공정에 의해 형성되는 반도체층(A), 소스전극(S) 및 드레인 전극(D)에 의해 박막 트랜지스터(TFT)가 이루어진다.
다음으로, 도 18a 및 도 18b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 18a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 18b는 도 18a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 18a 및 도 18b를 참조하면, 박막 트랜지스터(TFT) 및 데이터 라인들(D1, D2)이 배치된 게이트 절연막(GI) 상에 실리콘 질화물, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연물질인 제 1 절연막(INS1), R(적색) 컬러필터 물질, 및 제 3 포토레지스트를 순차적으로 전면 도포한다. 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 3 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 3 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 R(적색) 컬러필터 물질을 에칭하고 제 3 포토레지스트 패턴을 제거함으로써 R 화소영역에 R 컬러필터(CF)를 형성한다. 이와 같은 방식으로 G(녹색) 컬러필터 물질과 제 4 포토레지스트를 도포한 후 제 4 마스크를 이용하여 G 화소영역에 G 컬러필터를 형성하고, B(청색) 컬러필터 물질과 제 5 포토레지스트를 도포한 후 제 5 마스크를 이용하여 B 화소영역에 B 컬러필터를 형성한다. 제 5 마스크 공정에서 B 화소영역에 B 컬러필터를 형성할 때 공통라인(CL)의 일부분을 노출시키는 제 1 콘택홀(CH1)과, 드레인 전극(DE)의 일부분을 노출시키는 제 2 콘택홀(CH2)을 형성할 수 있다. 도 18a 및 도 18b에서 R, G, B에 대한 구체적인 컬러필터의 도시는 생략하였다.
다음으로, 도 19a 및 도 19b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 19a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 19b는 도 19a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 19a 및 도 19b를 참조하면, 컬러필터(CF) 상에 포토아크릴(PAC)과 같은 유기 절연물질로 된 제 2 절연막(INS2)과 제 6 포토레지스트를 도포한다. 그리고, 제 6 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 3 콘택홀(CH3) 및 제 4 콘택홀(CH4)을 형성한다. 제 3 콘택홀(CH3)은 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되는 위치에서 제 2 절연막(INS2)을 관통하도록 형성되며 공통라인(CL)의 일부 영역이 노출시킨다. 제 4 콘택홀(CH4)은 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되는 위치에서 제 2 절연막(INS2)을 관통하도록 형성되며 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시킨다.
다음으로, 도 20a 및 도 20b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 20a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 20b는 도 20a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 20a 및 도 20b를 참조하면, 제 1 콘택홀(CH1) 및 제 2 콘택홀(CH2)이 형성된 제 2 절연막(INS2) 상에 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 된 제 1 패시베이션막(PAS1)과 제 3 도전성 금속물질을 순차적으로 증착한 후 제 7 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 7 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 7 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 7 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 3 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 7 포토레지스트 패턴을 제거하여 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층을 형성한다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 데이터 라인(D1, D2)과 나란하게 배열되며, 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되도록 배치된다. 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 각각 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE)을 구비한다
다음으로, 도 21a 및 도 21b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 21a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 21b는 도 21a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 21a 및 도 21b를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층이 형성된 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 실리콘 산화물, 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)과 제 8 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 8 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 8 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 8 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 2 패시베이션막(PAS2) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)을 에칭하고, 제 8 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 5 콘택홀(CH5), 제 6 콘택홀(CH6) 및 제 7 콘택홀(CH7)을 형성한다.
제 5 콘택홀(CH5)은 제 1 콘택홀(CH1) 및 제 3 콘택홀(CH3)과 중첩되는 위치에서 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)를 노출시킨다. 제 6 콘택홀(CH6)은 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들 중 공통라인과 연결을 위한 라우팅 배선(L21a)의 제 2 확장부(L21aE)를 노출시킨다. 제 7 콘택홀(CH7)은 제 2 콘택홀(CH2) 및 제 4 콘택홀(CH4)과 중첩되는 위치에서 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시킨다.
다음으로, 도 22a 및 도 22b를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 9 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 22a는 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 9 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 22b는 도 22a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 22a 및 도 22b를 참조하면, 제 5 내지 제 7 콘택홀(CH5, CH6, CH7)이 형성된 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), GZO(Gallium doped Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 물질과 제 9 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 9 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 9 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 9 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 투명 도전성 물질을 에칭하고, 제 9 포토레지스트 패턴을 제거하여 화소전극(P) 및 터치/공통전극(T)을 형성한다.
화소전극(P)은 제 1 줄기부(Pcon) 및 제 1 가지부(Pbr)를 갖는다. 터치/공통전극(T)은 제 2 줄기부(Tcon), 제 2 가지부(Tbr) 및 제 2 확장부(TbrE)를 갖는다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 서로 번갈아 배치된다.
다음으로, 23a 내지 도 28b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
우선, 도 23a 및 도 23b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 23a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 23b는 도 23a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 23a 및 도 23b를 참조하면, 투명한 제 1 기판(SUB1) 상에 제 1 도전성 금속물질을 증착한 후 제 1 포토레지스트(photoresist)를 전면 도포한다. 그 후 제 1 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 1 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 1 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 1 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 1 방향(예를 들면, 가로방향)으로 배열되는 게이트 라인(G1), 게이트 라인으로부터 화소영역으로 연장되는 게이트 전극(GE), 및 게이트 라인(G1) 으로부터 이격된 공통라인(CL)을 포함하는 제 1 도전성 금속패턴들을 형성한다. 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록 하나의 줄기부(CLa)와 이 줄기부(CLa)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부(CLb)를 포함한다.
제 1 도전성 금속은 구리(Cu)나 알루미늄(Al)과 같은 저저항성 금속 물질과, 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo)과 같은 내 부식성이 강한 금속 물질을 포함한다. 다른 예로, 구리층과 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 구조, 몰리브덴층과 알루미늄-네오듐 합금층이 적층된 구조, 또는 구리층과 몰리브덴층이 적층된 2중층 구조를 가질 수도 있다. 또 다른 예로, 니켈층과, 구리층, 그리고 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 3중층 구조를 가질 수도 있다.
다음으로, 도 24a 및 도 24b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 24a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 24b는 도 24a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 24a 및 도 24b를 참조하면, 제 1 도전성 금속패턴들이 형성된 제 1 기판(SUB1) 상에 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)과 같은 절연물질을 전체 면에 도포하여 게이트 절연막(GI)을 형성한다. 이어서 게이트 절연막(GI)의 전체 면상에 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 순차적으로 도포한 후, 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정으로 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 소스전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속패턴들을 형성한다.
보다 구체적으로, 제 2 마스크 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행된다. 이를 위해 게이트 절연막(GI) 상에 순차적으로 증착된 반도체 물질과 제 2 도전성 금속 물질 상에 제 2 포토레지스트를 전면 도포한다. 제 2 도전성 금속물질로는 제 1 도전성 금속물질과 동일한 물질이 이용된다. 그 후 하프톤 마스크(제 2 포토 마스크)를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 2 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 2 포토레지스트 패턴을 제거하여 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 화소영역으로 연장되는 소스 전극(SE), 및 소스전극(SE)과 일정 간격을 두고 배치되는 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다. 반도체층(A)은 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 중첩되는 영역과, 공통라인(CL)의 가지부들(CLb)과 나란하게 배열되어 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 영역을 포함한다.
제 1 마스크 공정에 의해 형성되는 게이트 전극(G)과 제 2 마스크 공정에 의해 형성되는 반도체층(A), 소스전극(S) 및 드레인 전극(D)에 의해 박막 트랜지스터(TFT)가 이루어진다.
다음으로, 도 25a 및 도 25b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 25a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 내지 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 25b는 도 25a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 25a 및 도 25b를 참조하면, 박막 트랜지스터(TFT) 및 데이터 라인들(D1, D2)이 배치된 게이트 절연막(GI) 상에 실리콘 질화물, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연물질인 제 1 절연막(INS1), R(적색) 컬러필터 물질, 및 제 3 포토레지스트를 순차적으로 전면 도포한다. 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 3 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 3 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 R(적색) 컬러필터 물질을 에칭하고 제 3 포토레지스트 패턴을 제거함으로써 R 화소영역에 R 컬러필터(CF)를 형성한다. 이와 같은 방식으로 G(녹색) 컬러필터 물질과 제 4 포토레지스트를 도포한 후 제 4 마스크를 이용하여 G 화소영역에 G 컬러필터를 형성하고, B(청색) 컬러필터 물질과 제 5 포토레지스트를 도포한 후 제 5 마스크를 이용하여 B 화소영역에 B 컬러필터를 형성한다. 제 5 마스크 공정에서 B 화소영역에 B 컬러필터를 형성할 때 공통라인(CL)의 일부분을 노출시키는 제 1 콘택홀(CH1)과, 드레인 전극(DE)의 일부분을 노출시키는 제 2 콘택홀(CH2)을 형성할 수 있다. 도 25a 및 도 25b에서 R, G, B에 대한 구체적인 컬러필터의 도시는 생략하였다.
다음으로, 도 26a 및 도 26b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 26a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 26b는 도 26a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 26a 및 도 26b를 참조하면, 컬러필터(CF) 상에 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물과 같은 무기 절연물질로 된 제 1 패시베이션막(PAS1)과, 제 3 도전성 물질을 순차적으로 증착한 후 제 6 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 6 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 6 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 6 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여, 제 3 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 6 포토레지스트 패턴을 제거하여 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층을 형성한다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 데이터 라인(D1, D2)과 나란하게 배열되며, 제 1 실시예와 동일한 방식으로 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되도록 배치된다. 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 각각 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE)을 구비한다.
다음으로, 도 27a 및 도 27b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 27a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 7 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 27b는 도 27a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 27a 및 도 27b를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층이 형성된 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 포토 아크릴과 같은 유기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)과 제 7 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 7 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 7 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 7 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 2 패시베이션막(PAS2)을 에칭하고, 제 7 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 5 콘택홀(CH5), 제 6 콘택홀(CH6) 및 제 7 콘택홀(CH7)을 형성한다.
제 5 콘택홀(CH5)은 제 1 콘택홀(CH1) 및 제 3 콘택홀(CH3)과 중첩되는 위치에서 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)를 노출시킨다. 제 6 콘택홀(CH6)은 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들 중 공통라인과 연결을 위한 라우팅 배선(L21a)의 제 2 확장부(L21aE)를 노출시킨다. 제 7 콘택홀(CH7)은 제 2 콘택홀(CH2) 및 제 4 콘택홀(CH4)과 중첩되는 위치에서 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시킨다.
다음으로, 도 28a 및 도 28b를 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 28a는 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 8 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 28b는 도 28a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 28a 및 도 28b를 참조하면, 제 3 내지 제 5 콘택홀(CH3, CH4, CH5)이 형성된 제 2 패시베이션막(PAS1) 상에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), GZO(Gallium doped Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 물질과 제 8 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 8 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 8 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 8 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 투명 도전성 물질을 에칭하고, 제 8 포토레지스트 패턴을 제거하여 화소전극(P) 및 터치/공통전극(T)을 형성한다.
화소전극(P)은 제 1 줄기부(Pcon) 및 제 1 가지부(Pbr)를 갖는다. 각 터치/공통전극(T)은 제 2 줄기부(Tcon), 제 2 가지부(Tbr) 및 제 2 확장부(TbrE)를 갖는다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 번갈아 배치된다.
본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 의하면 본 발명의 제 1 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 비해 1개의 마스크 공정을 줄일 수 있다. 따라서, 터치센서 내장형 표시장치의 제조원가를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
다음으로, 29a 내지 도 34b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
우선, 도 29a 및 도 29b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 29a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 29b는 도 29a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 29a 및 도 29b를 참조하면, 투명한 제 1 기판(SUB1) 상에 제 1 도전성 금속물질을 증착한 후 제 1 포토레지스트(photoresist)를 전면 도포한다. 그 후 제 1 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 1 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 1 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 1 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 1 방향(예를 들면, 가로방향)으로 배열되는 게이트 라인(G1), 게이트 라인으로부터 화소영역으로 연장되는 게이트 전극(GE), 및 게이트 라인(G1) 으로부터 이격된 공통라인(CL)을 포함하는 제 1 도전성 금속층을 형성한다. 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록 하나의 줄기부(CLa)와 그 줄기부(CLa)로부터 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부(CLb)를 포함한다.
제 1 도전성 금속은 구리(Cu)나 알루미늄(Al)과 같은 저저항성 금속 물질과, 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo)과 같은 내 부식성이 강한 금속 물질을 포함한다. 다른 예로, 구리층과 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 구조, 몰리브덴층과 알루미늄-네오듐 합금층이 적층된 구조, 또는 구리층과 몰리브덴층이 적층된 2중층 구조를 가질 수도 있다. 또 다른 예로, 니켈층과, 구리층, 그리고 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 3중층 구조를 가질 수도 있다.
다음으로, 도 30a 및 도 30b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 30a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 30b는 도 30a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 30a 및 도 30b를 참조하면, 제 1 도전성 금속층이 형성된 제 1 기판(SUB1) 상에 질화 실리콘(SiNx) 혹은 산화 실리콘(SiOx)과 같은 절연물질을 전체 면에 도포하여 게이트 절연막(GI)을 형성한다. 이어서 게이트 절연막(GI)의 전체 면상에 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 순차적으로 도포한 후, 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정으로 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 소스전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다.
보다 구체적으로, 제 2 마스크 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행된다. 이를 위해 게이트 절연막(GI) 상에 순차적으로 증착된 반도체 물질과 제 2 도전성 금속 물질 상에 제 2 포토레지스트를 전면 도포한다. 제 2 도전성 금속물질로는 제 1 도전성 금속물질과 동일한 물질이 이용된다. 그 후 하프톤 마스크(제 2 포토 마스크)를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 2 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 2 포토레지스트 패턴을 제거하여 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 화소영역으로 연장되는 소스 전극(SE), 및 소스전극(SE)과 일정 간격을 두고 배치되는 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다. 반도체층(A)은 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 중첩되는 영역과, 공통라인(CL)의 가지부들(CLb)과 나란하게 배열되어 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 영역을 포함한다.
제 1 마스크 공정에 의해 형성되는 게이트 전극(G)과 제 2 마스크 공정에 의해 형성되는 반도체층(A), 소스전극(S) 및 드레인 전극(D)에 의해 박막 트랜지스터(TFT)가 이루어진다.
다음으로, 도 31a 및 도 31b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 31a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 31b는 도 31a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 31a 및 도 31b를 참조하면, 박막 트랜지스터(TFT) 및 데이터 라인들(D1, D2)이 배치된 게이트 절연막(GI) 상에 실리콘 질화물, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연물질인 제 1 절연막(INS1)과 포토 아크릴과 같은 제 2 절연막(INS2)을 순차적으로 증착하고, 제 3 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 3 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 3 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 2 절연막(INS2), 제 1 절연막(INS1), 및 게이트 절연막(GI)을 에칭하여 공통라인(CL)의 일부 영역을 노출시키는 제 1 콘택홀(CH1)과, 제 2 절연막(INS2) 및 제 1 절연막(INS1)을 에칭함으로써 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시키는 제 2 콘택홀(CH2)을 형성한 후 제 3 포토레지스트 패턴을 제거한다.
다음으로, 도 32a 및 도 32b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 32a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 32b는 도 32a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 32a 및 도 32b를 참조하면, 제 1 콘택홀(CH1) 및 제 2 콘택홀(CH2)이 형성된 제 2 절연막(INS2) 상에 실리콘 질화물 또는 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질 된 제 1 패시베이션막(PAS1)과 제 3 도전성 금속물질을 순차적으로 증착한 후 제 4 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 4 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 4 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 4 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 3 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 4 포토레지스트 패턴을 제거하여 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층을 형성한다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 데이터 라인(D1, D2)과 나란하게 배열되며, 제 1 실시예와 동일한 방식으로 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되도록 배치된다. 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE)을 각각 구비한다.
다음으로, 도 33a 및 도 33b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 33a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 33b는 도 33a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 33a 및 도 33b를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층이 형성된 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 실리콘 질화물, 실리콘 산화물과 같은 무기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)과 제 5 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 5 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 5 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 5 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 2 패시베이션막(PAS2)을 에칭하고, 제 5 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 3 콘택홀(CH3), 제 4 콘택홀(CH4) 및 제 5 콘택홀(CH5)을 형성한다.
제 3 콘택홀(CH3)은 제 1 콘택홀(CH1)과 중첩되는 위치에서 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)를 노출시킨다. 제 4 콘택홀(CH4)은 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들 중 공통라인(CL)과 연결을 위한 라우팅 배선(L21a)의 제 2 확장부(L21aE)를 노출시킨다. 제 5 콘택홀(CH5)은 제 2 콘택홀(CH2)과 중첩되는 위치에서 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시킨다.
다음으로, 도 34a 및 도 34b를 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 34a는 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 6 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 34b는 도 34a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 34a 및 도 34b를 참조하면, 제 3 내지 제 5 콘택홀(CH3, CH4, CH5)이 형성된 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), GZO(Gallium doped Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 물질과 제 6 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 6 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 6 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 6 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 투명 도전성 물질을 에칭하고, 제 6 포토레지스트 패턴을 제거하여 화소전극(P) 및 터치/공통전극(T)을 형성한다.
화소전극(P)은 제 1 줄기부(Pcon) 및 제 1 가지부(Pbr)를 갖는다. 각 터치/공통전극(T)은 제 2 줄기부(Tcon), 제 2 가지부(Tbr) 및 제 2 확장부(TbrE)를 갖는다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 번갈아 배치된다.
본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 의하면 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 비해 2개의 마스크 공정을 줄일 수 있다. 따라서, 터치센서 내장형 표시장치의 제조원가를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 의하면 본 발명의 제 2 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 비해 2개의 마스크 공정을 줄일 수 있다. 따라서, 터치센서 내장형 표시장치의 제조원가를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
이하, 35a 내지 도 39b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 대해 설명하기로 한다.
우선, 도 35a 및 도 35b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 35a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 1 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 35b는 도 35a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 35a 및 도 35b를 참조하면, 투명한 제 1 기판(SUB1) 상에 제 1 도전성 금속물질을 증착한 후 제 1 포토레지스트(photoresist)를 전면 도포한다. 그 후 제 1 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 1 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 1 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 1 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 1 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 1 방향(예를 들면, 가로방향)으로 배열되는 게이트 라인(G1), 게이트 라인으로부터 화소영역으로 연장되는 게이트 전극(GE), 및 게이트 라인(G1) 으로부터 이격된 공통라인(CL)을 포함하는 제 1 도전성 금속층을 형성한다. 공통라인(CL)은 화소영역의 1변이 개방되도록 하나의 줄기부(CLa)와 그 줄기부(CLa)로부터 분기되어 화소영역으로 연장되는 2개의 가지부(CLb)를 포함한다.
제 1 도전성 금속은 구리(Cu)나 알루미늄(Al)과 같은 저저항성 금속 물질과, 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 또는 몰리브덴(Mo)과 같은 내 부식성이 강한 금속 물질을 포함한다. 다른 예로, 구리층과 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 구조, 몰리브덴층과 알루미늄-네오듐 합금층이 적층된 구조, 또는 구리층과 몰리브덴층이 적층된 2중층 구조를 가질 수도 있다. 또 다른 예로, 니켈층과, 구리층, 그리고 티타늄-몰리브덴 합금층이 적층된 3중층 구조를 가질 수도 있다.
다음으로, 도 36a 및 도 36b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 36a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 2 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 36b는 도 36a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 36a 및 도 36b를 참조하면, 제 1 도전성 금속층이 형성된 제 1 기판(SUB1) 상에 질화 실리콘(SiNx) 혹은 산화 실리콘(SiOx)과 같은 절연물질을 전체 면에 도포하여 게이트 절연막(GI)을 형성한다. 이어서 게이트 절연막(GI)의 전체 면상에 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 순차적으로 도포한 후, 제 2 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정으로 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 소스전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다.
보다 구체적으로, 제 2 마스크 공정은 하프톤 마스크를 이용하여 수행된다. 이를 위해 게이트 절연막(GI) 상에 순차적으로 증착된 반도체 물질과 제 2 도전성 금속 물질 상에 제 2 포토레지스트를 전면 도포한다. 제 2 도전성 금속물질로는 제 1 도전성 금속물질과 동일한 물질이 이용된다. 그 후 하프톤 마스크(제 2 포토 마스크)를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 2 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 2 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 반도체 물질과 제 2 도전성 금속물질을 에칭하고, 제 2 포토레지스트 패턴을 제거하여 반도체층(A)과, 데이터 라인(D1, D2), 데이터 라인(D1, D2)으로부터 화소영역으로 연장되는 소스 전극(SE), 및 소스전극(SE)과 일정 간격을 두고 배치되는 드레인 전극(DE)을 포함하는 제 2 도전성 금속층을 형성한다. 반도체층(A)은 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)와 중첩되는 영역과, 공통라인(CL)의 가지부들(CLb)과 나란하게 배열되어 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되는 영역을 포함한다.
제 1 마스크 공정에 의해 형성되는 게이트 전극(G)과 제 2 마스크 공정에 의해 형성되는 반도체층(A), 소스전극(S) 및 드레인 전극(D)에 의해 박막 트랜지스터(TFT)가 이루어진다.
다음으로, 도 37a 및 도 37b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 37a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 3 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 37b는 도 31a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 37a 및 도 37b를 참조하면, 박막 트랜지스터(TFT) 및 데이터 라인들(D1, D2)이 배치된 게이트 절연막(GI) 상에 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 무기 절연물질로 된 제 1 절연막(INS1) 및 제 1 패시베이션막(PAS1)과, 제 3 도전성 물질을 순차적으로 증착하고, 그 상부에 제 3 포토레지스트를 전면 도포한다. 제 3 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 3 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 3 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 3 도전성 물질을 에칭하고 제 3 포토레지스트 패턴을 제거함으로써 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층을 형성한다.
라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 데이터 라인(D1, D2)과 나란하게 배열되며, 제 1 실시예와 동일한 방식으로 데이터 라인(D1, D2)과 중첩되도록 배치된다. 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)은 제 1 확장부들(L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE)을 각각 구비한다.
다음으로, 도 38a 및 도 38b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 38a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 4 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 38b는 도 38a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 38a 및 도 38b를 참조하면, 라우팅 배선들(L11a, L11b, L11c; L21a, L21b, L21c)을 포함하는 제 3 도전성 금속층이 형성된 제 1 패시베이션막(PAS1) 상에 포토 아크릴과 같은 유기 절연물질로 된 제 2 패시베이션막(PAS2)과 제 5 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 5 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 5 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 5 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 제 2 패시베이션막(PAS2)을 에칭하고, 제 5 포토레지스트 패턴을 제거하여 제 1 콘택홀(CH1), 제 2 콘택홀(CH2) 및 제 3 콘택홀(CH3)을 형성한다.
제 1 콘택홀(CH1)은 공통라인(CL)의 줄기부(CLa)를 노출시킨다. 제 2 콘택홀(CH2)은 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선들 중 공통라인(CL)과 연결을 위한 라우팅 배선(L21a)의 제 2 확장부(L21aE)를 노출시킨다. 제 3 콘택홀(CH3)은 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)을 노출시킨다.
다음으로, 도 39a 및 도 39b를 참조하여 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 설명하기로 한다.
도 39a는 본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제 5 마스크 공정을 도시한 평면도이고, 도 39b는 도 39a의 라인 I-I' 라인 및 II-II' 라인을 따라 취한 단면도이다.
도 39a 및 도 39b를 참조하면, 제 1 내지 제 3 콘택홀(CH1, CH2, CH3)이 형성된 제 2 패시베이션막(PAS2) 상에 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), GZO(Gallium doped Zinc Oxide)와 같은 투명 도전성 물질과 제 5 포토레지스트를 전면 도포한다. 그 후 제 5 포토 마스크를 이용한 포토리소그래피 공정을 수행함으로써 제 5 포토레지스트 패턴을 형성한다. 그리고, 제 5 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 투명 도전성 물질을 에칭하고, 제 5 포토레지스트 패턴을 제거하여 화소전극(P) 및 터치/공통전극(T)을 형성한다.
화소전극(P)은 제 1 줄기부(Pcon) 및 제 1 가지부(Pbr)를 갖는다. 각 터치/공통전극(T)은 제 2 줄기부(Tcon), 제 2 가지부(Tbr) 및 제 2 확장부(TbrE)를 갖는다. 각 화소영역 내에서 화소전극(P)의 제 1 가지부들(Pbr)과 터치/공통전극(T)의 제 2 가지부들(Tbr)은 번갈아 배치된다.
본 발명의 제 4 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에 의하면 본 발명의 제 3 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법에 비해 1 마스크 공정을 줄일 수 있다. 따라서, 터치센서 내장형 표시장치의 제조원가를 줄일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
다음으로 도 5 및 도 40을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 디스플레이 구동과 터치센싱 구동에 대하여 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치는 도 40에 도시된 바와 같이 1프레임 기간 동안 디스플레이 구동기간(Td)과 터치센서 구동기간(Tt)으로 시분할 구동된다. 도 40은 본 발명의 실시예에 따른 터치센서 내장형 표시장치에서 디스플레이 구동기간(Td)과 터치센서 구동기간(Tt) 동안 각 신호라인에 공급되는 신호를 도시한 타이밍도이다. 도 40에서는 설명의 편의상 1프레임 기간이 하나의 디스플레이 구동기간(Td)과 하나의 터치센서 구동기간(Tt)으로 시분할 구동되는 경우를 예로 들어 설명하였으나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 1프레임 기간이 복수의 디스플레이 구동기간과 복수의 터치센서 구동기간으로 시분할 구동되는 것도 가능하다.
도 4, 도 5, 및 도 40을 참조하면, 디스플레이 구동부(DD, GD, TC)와 터치센서 구동부(TSD)는 동기 신호(Tsync)에 응답하여 서로 동기된다.
디스플레이 구동부(DD, GD, TC)는 디스플레이 구동기간(Td) 동안 화소들에 데이터를 기입한다. 화소들은 터치센서 구동기간(Tt) 동안 박막 트랜지스터(TFT)가 오프 상태이기 때문에 디스플레이 구동기간(Td)에 충전하였던 데이터 전압을 유지(hold)한다.
디스플레이 구동부(DD, GD, TC)는, 터치센서 구동기간(Tt) 동안, 터치/공통전극들(T)과, 화소들에 연결된 신호 라인들(D1~Dm, G1~Gn) 사이의 기생 정전용량을 최소화하기 위하여, 라우팅 배선들(L11~Lki)을 통해 터치/공통전극들(T)에 인가되는 터치 구동 신호(Vtd)와 동일 위상, 동일 진폭의 교류 신호인 로드 프리 구동신호들(Load Free Driving signal)(Vlfd1, Vlfd2)를 신호 라인들(D1~Dm, G1~Gn)에 공급할 수 있다. 화소들에 연결된 신호 배선들은 화소들에 데이터를 기입하기 위한 신호 배선으로서, 데이터 전압을 화소들에 공급하기 위한 데이터 라인(D1~Dm)과, 데이터가 기입된 화소들을 선택하기 위한 게이트 펄스(또는 스캔 펄스)가 공급되는 게이트 라인들(G1~Gn)을 포함한다.
디스플레이 구동부(DD, GD, TC)는 데이터 구동부(DD), 게이트 구동부(GD), 및 타이밍 콘트롤러(TC)를 포함한다.
데이터 구동부(DD)는 다수의 데이터 드라이버 IC(Integrated Circuit)를 포함하고, 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 입력되는 디지털 비디오 데이터(RGB)를 아날로그 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 출력한다. 데이터 구동부(DD)로부터 출력된 데이터전압은 데이터라인들(D1~Dm)에 공급된다. 디스플레이 구동기간(Td) 동안 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 수신되는 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB)를 아날로그 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 출력한다. 데이터 구동부(DD)로부터 출력된 데이터전압은 데이터 라인들(D1~Dm)에 공급된다.
데이터 구동부(DD)는 터치센서 구동기간(Tt) 동안 터치/공통전극들(T)에 인가되는 터치 구동 신호(Vtd)와 동일 위상, 동일 진폭의 교류신호인 제 1 로드 프리 구동 신호(Vlfd1)를 데이터 라인들(D1~Dm)에 인가하여 터치/공통전극들(T)과 데이터 라인(D1~Dm) 사이의 기생 정전용량을 최소화한다. 이는 기생 정전용량의 양단 전압이 동시에 변하고 그 전압 차이가 작을 수록 기생 정전용량에 충전되는 전하 양이 작아지기 때문이다. 이와 달리, 제 1 로드 프리 구동 신호(Vlfd1)는 별도의 터치전원 IC 등을 통해 공급될 수도 있다.
게이트 구동부(GD)는 다수의 게이트 드라이버 IC(Integrated Circuit)를 포함한다. 게이트 구동부(GD)는 디스플레이 구동 기간(Td) 동안, 데이터전압에 동기되는 게이트펄스(또는 스캔펄스)를 게이트라인들(G1~Gn)에 순차적으로 공급하여 데이터 전압이 기입되는 표시패널(DP)의 1 표시라인을 선택한다. 여기서, 1 표시라인은 화소들에 의해 구현되는 1 화소라인을 의미한다. 게이트 펄스는 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL) 사이에서 스윙한다. 게이트 펄스는 게이트 라인들(G1~Gn)을 통해 화소 박막 트랜지스터(TFT)의 게이트 전극에 인가된다. 게이트 하이 전압(VGL)은 박막 트랜지스터(TFT)의 문턱 전압 보다 높은 전압으로 설정되어 박막 트랜지스터(TFT)를 턴온(turn-on)시킨다. 게이트 로우 전압(VGL)은 박막 트랜지스터(TFT)의 문턱 전압 보다 낮은 전압으로 설정되어 박막 트랜지스터(TFT)를 턴오프(turn-off)시킨다.
게이트 구동부(GD)는 GIP(Gate driver In Panel) 방식에 따라 표시 패널(DP)의 하부 기판 상에 직접 형성될 수도 있다.
게이트 구동부(GD)는 터치센서 구동기간(Tt) 동안 터치/공통전극들(T)에 인가되는 터치 구동 신호(Vtd)와 동일 위상, 동일 진폭의 교류 신호인 제 2 로드 프리 구동 신호(Vlfd2)를 게이트 라인들(G1~Gn)에 인가하여 터치/공통전극(T)과 게이트 라인들(G1~Gn) 사이의 기생 정전용량을 최소화한다. 터치센서 구동기간(Tt) 동안 게이트 라인들(G1~Gn)에 인가되는 제 2 로드 프리 구동 신호(Vlfd2)의 전압은 화소들에 기입된 데이터가 변하지 않도록 게이트 하이 전압(VGH) 보다 낮고 박막 트랜지스터(TFT)의 문턱 전압 보다 낮아야 한다. 이와 달리, 제 2 로드 프리 구동 신호(Vlfd2)는 별도의 터치전원 IC 등을 통해 공급될 수도 있다.
타이밍 콘트롤러(TC)는 호스트 시스템(HS)으로부터 입력되는 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(Data Enable, DE), 메인 클럭(MCLK) 등의 타이밍신호를 입력받아 데이터 구동부(DD)와 게이트 구동부(GD)의 동작 타이밍을 동기시킨다. 스캔 타이밍 제어신호는 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse, GSP), 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock), 게이트 출력 인에이블신호(Gate Output Enable, GOE) 등을 포함한다. 데이터 타이밍 제어신호는 소스 샘플링 클럭(Source Sampling Clock, SSC), 극성 제어신호(Polarity, POL), 소스 출력 인에이블신호(Source Output Enable, SOE) 등을 포함한다.
호스트 시스템(HS)은 텔레비전 시스템, 셋톱박스, 네비게이션 시스템, DVD 플레이어, 블루레이 플레이어, 개인용 컴퓨터(PC), 홈 시어터 시스템, 폰 시스템(phone system) 중 어느 하나로 구현될 수 있다. 호스트 시스템(HS)은 스케일러(scaler)를 내장한 SoC(System on Chip)을 포함하여 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 표시패널(DP)의 해상도에 적합한 포맷으로 변환한다. 호스트 시스템(HS)은 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB)와 함께 타이밍 신호들(Vsync, Hsync, DE, MCLK)을 타이밍 콘트롤러(TC)로 전송한다. 또한, 호스트 시스템(HS)은 터치센서 구동부(TSD)로부터 입력되는 터치 입력의 좌표 정보(XY)와 연계된 응용 프로그램을 실행한다.
타이밍 콘트롤러(TC) 또는 호스트 시스템(HS)은 디스플레이 구동부(DD, GD, TC)와 터치센서 구동부(TSD)를 동기시키기 위한 동기 신호(Tsync)를 발생할 수 있다.
터치센서 구동부(TSD)는 터치센서 구동기간(Tt) 동안 터치/공통전극들(T)에 공급될 터치 구동 신호(Vtd)의 전압을 발생한다. 자기 정전용량 타입의 터치센서는 손가락이 터치/공통전극(T)에 근접 또는 접촉할 때 정전용량이 증가한다. 터치센서 구동부(TSD)는 터치 구동 신호를 인가하고, 접촉 물체로 인하여 변하는 터치/공통전극의 정전용량(또는 전하)의 변화를 측정하여 터치 위치와 터치 면적을 감지할 수 있다. 터치센서 구동부(TSD)는 터치 입력의 좌표 정보(XY)를 계산하여 호스트 시스템(HS)으로 전송한다.
이러한 본 발명의 터치 센서 내장형 표시장치는 RC 딜레이로 인한 신호 왜곡을 최소화하기 위해 도 5에 도시된 바와 같이 더블 피딩(Double Feeding) 방식을 채용할 수 있다. 더블 피딩 방식에 따라 데이터전압은 서로 마주보는 표시패널(DP)의 제 1 측 및 제 2 측에서 데이터 라인들(D1~Dm)에 동시에 공급되고, 게이트 펄스는 서로 마주보는 표시패널(10)의 제 3 측 및 제 4 측에서 게이트 라인들(G1~Gn)에 동시에 공급된다.
데이터 라인들(D1~Dm)은 표시패널(DP)의 제 1 측(예를 들면 상측)에 위치한 복수의 제 1 데이터 드라이버 IC에 연결됨과 동시에, 표시패널(DP)의 제 2 측(예를 들면, 하측)에 위치한 복수의 제 2 데이터 드라이버 IC에 연결된다. 제 1 및 제 2 데이터 드라이버 IC는 제 1 및 제 2 데이터 및 터치 구동 IC(SRIC1 및 SRIC2)에 각각 내장될 수 있다.
제 1 및 제 2 데이터 드라이버 IC 또는 제 1 및 제 2 데이터 및 터치 구동 IC(SRIC1, SRIC2)는 디스플레이 구동기간(Td) 동안, 타이밍 콘트롤러(TC)로부터 수신되는 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB)를 아날로그 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 출력하고, 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 제 1 로드 프리 구동 신호(Vlfd1)를 데이터 라인들에 공급한다.
게이트 라인들(G1~Gn)은 표시패널(DP)의 제 3 측(예를 들면, 좌측)에 위치한 복수의 제 1 게이트 드라이버 IC(GIC1)에 연결됨과 동시에, 표시패널(DP)의 제 4 측(예를 들면, 우측)에 위치한 복수의 제 2 게이트 드라이버 IC(GIC2)에 연결된다.
제 1 및 제 2 게이트 드라이버 IC(GIC1, GIC2)는 디스플레이 구동 기간(Td) 동안 게이트 펄스를 게이트 라인들(G1~Gn)에 공급하고, 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 제 2 로드 프리 구동 신호(Vlfd2)를 게이트 라인들(G1~Gn)에 공급한다.
상술한 바와 같이 터치 센서 구동기간(Td) 동안 게이트 라인들과 데이터 라인들에 터치/공통전극에 공급되는 터치 구동 신호(Vtd)와 동일 위상, 동일 진폭의 교류 신호인 로드 프리 구동신호들(Load Free Driving signal)(Vlfd1, Vlfd2)이 공급되므로 라우팅 배선들과 게이트 라인들(G1~Gn) 사이 및 라우팅 배선들과 데이터 라인들(D1~Dm) 사이에 기생 정전용량이 발생되지 않게 된다. 따라서, 기생 정전용량에 의해 발생할 수 있는 터치 감도의 저하를 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
다음으로 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치에서 라우팅 배선 그룹들의 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들의 RC 로드(resistance capacitance load) 편차를 최소화하기 위한 보상방법에 대해 도 5 및 도 41을 참조하여 설명하기로 한다.
도 41은 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 각 라우팅 배선 그룹을 구성하는 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들의 RC 로드(resistance capacitance load) 편차를 최소화하기 위한 보상방법에서, 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들을 센싱하는 순서를 도시한 도면이다.
본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 터치센서 구동부(TSD)는 각 라우팅 배선 그룹을 구성하는 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들의 터치 전(즉, 노터치 상태)의 센싱 데이터를 구하여 그들 간의 편차를 구한 후, 보상값을 정하고, 터치 후의 센싱 데이터를 구한 후 보상값을 적용함으로써 동일 라우팅 배선 그룹에 속하는 라우팅 배선들간의 RC 로드(resistance capacitance load) 편차를 최소화할 수 있다.
본 발명의 터치센서 내장형 표시장치의 터치센서 구동부(TSD)는 다음의 단계를 통해 동일 라우팅 배선 그룹에 속하는 라우팅 배선들간의 RC 로드의 편차를 최소화할 수 있다.
단계 1
우선, 각 라우팅 배선 그룹을 구성하는 제 1 내지 제 3 라우팅 배선들, 즉 3개의 라인들(Line 1, Line 2, Line 3)에 대한 로우 센싱 데이터(raw sensing data)를 노 터치(no touch) 상태에서 측정한 후 표 1과 같이 각 측정값을 저장한다. 표 1은 특정 위치(터치/공통전극 T11, T12, T13, T14의 위치)를 경유하는 라우팅 배선들(즉, 라인 1~ 라인 3)의 정전용량값을 나타낸 표이다.
라우팅
배선		 노 터치시 라우팅 배선들의 라인 1~라인3의 정전용량값
Line 1 T11
(14pF)		 T12
(18pF)		 T13
(14pF)		 T14
(15pF)
Line 2 T11
(8pF)		 T12
(7pF)		 T13
(5pF)		 T14
(9pF)
Line 3 T11
(14pF)		 T12
(18pF)		 T13
(14pF)		 T14
(15pF)
단계 2
표 1에서 알 수 있는 바와 같이, 터치가 이루어 지지 않은 상태에서 좌우측에 위치한 라우팅 배선(라인 1, 라인 3)의 측정값은 동일하게 측정되었지만, 중앙에 위치한 라우팅 배선(즉, 라인 2)의 정전용량 값은 좌우측에 위치한 라우팅 배선(라인 1, 라인 3)의 측정값 보다 작게 측정되었다. 이에 따라, 동일 조건에서 3개 라인의 측정값이 균일해 져야 하므로 라인 2의 값을 보상하기 위해 라인 1과 라인 3의 평균값을 저장한다. 표 2는 라인 2의 측정값을 보상하기 위한 보상값이다.
Line 1, 3의 평균값 T11
(14pF)		 T12
(18pF)		 T13
(14pF)		 T14
(15pF)
단계 3
다음으로, 라인 2를 보상하기 위해 단계 2에서 구한 라인 1, 3의 평균값에 기초하여 보상 테이블을 생성한다. 보상 테이블은 라인 1과 라인 3의 측정값을 더한 후 평균을 구하고, 거기에서 라인 2의 측정값을 감산하여 라인 2의 보상 테이블을 구한다. 라인 2의 보상 테이블은 표 5와 같다.
Line 2를 보상하기 위한 보상값 T11
(14-8=6pF)		 T12
(18-7=11pF)		 T13
(14-5=9pF)		 T14
(15-9=6pF)
터치가 없었을 경우(노 터치시), 중앙부에 위치한 라인 2의 라우팅 배선에만 편차가 있으므로, 라인 2의 라우팅 배선을 보상하기 위한 보상값의 평균값을 구한 결과 표 5와 같은 보상값을 얻었다.
단계 3
다음으로, 터치/공통전극(T13)의 위치에서 터치를 수행한 후, 라인 1~라인 3의 정전용량 값을 구한 후, 보상값이 필요한 라인 2에, 단계 3에서 구한 보상값을 가산하여 편차를 보상한다. 터치 수행 후의 센싱된 로우 데이터의 정전용량 값과 보상 테이블의 보상값을 적용 후의 정전용량 값을 표 6과 표 7에 각각 나타냈다.
라우팅배선 터치 후 측정한 라인 1~라인 3의 정전용량값
Line 1 T11
(14pF)		 T12
(118pF)		 T13
(135pF) 		T14
(115pF)
Line 2 T11
(8pF)		 T12
(104pF)		 T13
(125pF) 		T14
(110pF)
Line 3 T11
(14pF)		 T12
(118pF)		 T13
(138pF) 		T14
(115pF)
라우팅배선 터치 후 보정된 라인 1~라인 3의 정전용량값
Line 1 T11
(14pF)		 T12
(118pF)		 T13
(135pF)		 T14
(115pF)
Line 2 T11
(14pF) 		T11
(115pF) 		T13
(134pF) 		T14
(116pF)
Line 3 T11
(14pF)		 T12
(118pF)		 T13
(138pF)		 T14
(115pF)
표 6과 표 7을 참고하여 라우팅 배선들의 라인 1~3에 대한 보정전과 보정후의 센싱 정전용량을 비교해 보면, 라인 1~3간의 편차는 터치 전에 비해 훨씬 줄어들었음을 알 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예에 따르는 터치센서 내장형 표시장치의 라우팅 배선들 간의 RC 로드 편차를 줄일 수 있으므로 터치 정밀도를 높일 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
상술한 실시예에서는 라우팅 배선 그룹을 구성하는 라우팅 배선의 수 k가 3일 경우를 예로 들어 설명하였지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. k는 3이상의 경우에도 적용될 수 있다. 이 경우, 다음과 같은 4 단계를 통해 서로 인접한 2개의 화소영역들 사이에 배치되어 하나의 라우팅 배선 그룹을 구성하는 k개의 라우팅 배선들 간의 저항편차를 보상할 수 있다.
제 1 단계
노터치 상태에서 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 저장하는 단계
제 2 단계
상기 k개의 정전용량값을 비교하여 최소값을 갖는 라우팅 배선을 제외한 나머지 라우팅 배선들의 정전용량을 합산한 후 평균값을 구하는 단계
제 3 단계
상기 평균값에서 상기 최소값을 감산하여 보상값을 구한 후 보상 테이블에 저장하는 제 3 단계
제 4 단계
터치 후 상기 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 구한 후, 상기 최소값을 갖는 라우팅 배선의 정전용량에 상기 보상값을 가산하여 보상하는 단계
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어 본 발명의 실시예에서 설명된 각종 전극, 배선 등의 수는 설명을 위한 것이며 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니라는 것을 이해해야 한다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
HS: 호스트 시스템 TC: 타이밍 콘트롤러
GD: 게이트 드라이버 DD: 데이터 드라이버
DP: 표시패널 TSD: 터치센서 구동부
CL: 공통라인 CLa: 공통라인 줄기부
CLb: 공통라인 가지부 D1~Dm: 데이터 라인
G1~Gn: 게이트 라인
L11~Lki; L11a, L11b, L11c…: 라우팅 배선
L11aE, L11bE, L11cE; L21aE, L21bE, L21cE: 라우팅 배선의 제 1 확장부
P, P11~P66: 화소전극 Pbr: 화소전극의 제 1 가지부
Pcon: 화소전극의 제 1 줄기부 T, T11~T22: 터치/공통 전극
Tbr: 터치/공통 전극의 제 2 가지부
Tcom: 터치/공통 전극의 제 2 줄기부
TbrE: 터치/공통 전극의 제 2 확장부

Claims (42)

  1. 서로 교차하도록 배치되는 복수의 게이트 라인들 및 복수의 데이터 라인들;
    상기 복수의 데이터 라인들 사이에 배치되는 화소영역들에 각각 배치되는 복수의 화소전극들;
    표시영역 내에서 상기 복수의 화소전극들과 동일층에 배치되어 수평 전계를 형성하도록, 제 1 방향으로 i개(i는 2보다 큰 자연수), 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 j(j는 2보다 큰 자연수)개 배치되며, 각각이 제 1 방향으로 배열되는 p(p는 j보다 작은 자연수)개의 화소전극들과 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향으로 배열되는 q(q는 2보다 큰 자연수)개의 화소전극들에 대응하는 복수의 터치/공통전극들;
    상기 복수의 터치/공통전극들 각각에 연결된 라우팅 배선을 포함하는 복수의 라우팅 배선들을 포함하며,
    상기 복수의 라우팅 배선들은 상기 제 1 방향으로 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k개(k는 2보다 큰 자연수)의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹을 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 k, m, j는
    Figure pat00005
    를 만족시키는 터치센서 내장형 표시장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 k, m, j는
    Figure pat00006
    를 만족시키는 터치센서 내장형 표시장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 화소전극들 각각은 상기 데이터 라인들의 배열방향으로 배열된 복수의 제 1 가지부들과, 상기 복수의 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 구비하고,
    상기 복수의 터치/공통전극들 각각은 상기 복수의 화소전극들과 동일층에 배치되며, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과, 상기 복수의 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비하는 터치센서 내장형 표시장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    서로 인접한 2개의 데이터 라인들 사이에 배치된 제 1 가지부들과 제 2 가지부들 중 상기 서로 인접한 2개의 데이터 라인들에 가장 근접한 가지부는 제 2 가지부들인 터치센서 내장형 표시장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 라우팅 배선 그룹의 라우팅 배선들 중 적어도 하나는 상기 데이터 라인과 중첩되도록 배열되는 터치센서 내장형 표시장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 표시영역 내에서 상기 복수의 라우팅 배선들의 길이는 동일한 터치센서 내장형 표시장치.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 터치/공통전극의 제 2 줄기부에 연결된 제 2 가지부에 연결되며, 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 공통라인을 더 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 k개의 라우팅 배선 사이의 상부에는 상기 제 2 가지부들의 일부가 배치되는 터치센서 내장형 표시장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 라우팅 배선 그룹의 양쪽 외측의 상부에는 제 2 가지부가 각각 배치되는 터치센서 내장형 표시장치.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 k개의 라우팅 배선과 상기 k개의 라우팅 배선 사이의 상부에는 상기 제 1 및 제 2 가지부들이 제거되어 있으며, 상기 라우팅 배선 그룹의 양쪽 외측의 상부에는 제 2 가지부가 각각 배치되는 터치센서 내장형 표시장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 라우팅 배선들의 각각은 하부 금속층, 상기 하부 금속층 사에 배치되는 하나의 저저항 금속층, 및 상기 저저항 금속층 상에 배치되는 상부 금속층으로 이루어지는 터치센서 내장형 표시장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 상부 금속층은 상기 저저항 금속층 및 상기 하부 금속층을 커버하는 터치센서 내장형 표시장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 상부 금속층은 상기 저저항 금속층 및 상기 하부 금속층의 측면을 노출시키는 터치센서 내장형 표시장치.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 상에 배열된 상기 게이트 라인 및 게이트 전극;
    상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인;
    상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 각 화소영역에 배치되는 컬러필터;
    상기 컬러필터 상에 순차적으로 배치되는 제 2 절연막 및 제 1 패시베이션막과, 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및
    상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인;
    상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및
    상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  18. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극;
    상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인;
    상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 각 화소영역에 배치되는 컬러필터;
    상기 컬러필터 상에 배치되는 제 1 패시베이션막;
    상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및
    상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인;
    상기 공통라인과 중첩되는 위치의 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및
    상기 드레인 전극과 중첩되는 위치의 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  21. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극;
    상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인;
    상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 제 2 절연막;
    상기 제 2 절연막 상에 순차적으로 배치되는 제 1 패시베이션막 및 제 2 패시베이션막과, 상기 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및
    상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  23. 제 21 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인;
    상기 제 1 패시베이션막 상의 상기 공통라인과 중첩되는 위치에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및
    상기 제 1 패시베이션막 상의 상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  24. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 상에 배열되는 상기 게이트 라인 및 게이트 전극;
    상기 게이트 라인 및 게이트 전극을 커버하는 게이트 절연막 상에 배치되는 박막 트랜지스터의 반도체층, 소스전극 및 드레인전극과, 상기 소스 전극에 연결된 상기 데이터 라인;
    상기 박막 트랜지스터 및 데이터 라인을 커버하는 제 1 절연막, 및 상기 제 1 절연막 상의 제 1 패시베이션막;
    상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 라우팅 배선들; 및
    상기 복수의 라우팅 배선들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상에 배치되는 상기 복수의 화소전극들 및 상기 복수의 터치/공통전극들을 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인의 줄기부에 연결되고,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  26. 제 24 항에 있어서,
    상기 기판 상에 상기 게이트 라인과 나란하게 배열되는 줄기부 및 상기 줄기부로부터 상기 데이터 라인과 나란하게 연장되는 가지부들을 구비하는 공통라인;
    상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 공통라인에 연결되는 제 1 연결패턴; 및
    상기 드레인 전극과 중첩되는 위치에서 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되며, 상기 제 1 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 제 2 연결패턴을 더 포함하며,
    상기 라우팅 배선은 상기 터치/공통전극과 중첩되는 위치에서 제 1 확장부를 구비하고,
    상기 터치/공통전극의 제 2 가지부는 1화소영역에서 상기 공통라인과 중첩되는 위치에서 제 2 확장부를 구비하며,
    상기 터치/공통전극의 제 2 확장부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 라우팅 배선의 제 1 확장부에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 다른 콘택홀을 통해 상기 제 1 연결패턴에 접속되며,
    상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 상기 제 2 연결패턴에 접속되는 터치센서 내장형 표시장치.
  27. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    1프레임 기간 동안 하나의 디스플레이 구동기간과 하나의 터치센서 구동기간으로 시분할 구동되며,
    상기 터치센서 구동기간 동안 상기 터치/공통전극들에 터치 구동신호를 공급하고, 상기 터치/공통전극들의 정전용량의 변화를 측정하여 터치위치를 산출하는 터치센서 구동부; 및
    상기 디스플레이 구동기간 동안 상기 복수의 화소전극들 및 터치/공통전극을 포함하는 화소들에 데이터를 기입하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 로드 프리 구동신호를 상기 게이트 라인들 및 상기 데이터 라인들에 공급하는 디스플레이 구동부를 더 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  28. 제 27 항에 있어서,
    상기 디스플레이 구동부는,
    상기 디스플레이 구동기간 동안, 외부로부터 입력되는 데이터 전압을 상기 데이터 라인들에 공급하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 제 1 로드 프리 구동 신호를 상기 데이터 라인들에 인가하는 데이터 드라이버;
    상기 디스플레이 구동기간 동안, 상기 데이터 전압에 동기되는 게이트 펄스를 상기 게이트 라인들에 순차적으로 공급하여 상기 데이터 전압이 기입되는 표시패널의 라인을 선택하고, 상기 터치센서 구동기간 동안, 상기 터치 구동 신호와 동일 위상, 동일 진폭의 제 2 로드 프리 구동 신호를 상기 게이트 라인들에 인가하는 게이트 드라이버; 및
    상기 데이터 드라이버, 상기 게이트 드라이버, 및 상기 터치센서 구동부의 동작 타이밍을 동기시키기 위한 제어신호들을 공급하는 타이밍 콘트롤러를 포함하는 터치센서 내장형 표시장치.
  29. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항 기재의 터치센서 내장용 표시장치의 터치센서 구동장치로서,
    노터치 상태에서 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 저장하고,
    상기 k개의 정전용량값을 비교하여 최소값을 갖는 라우팅 배선을 제외한 나머지 라우팅 배선들의 정전용량을 합산한 후 평균값을 구하며,
    상기 평균값에서 상기 최소값을 감산하여 보상값을 구한 후 보상 테이블에 저장하고,
    터치 후 상기 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 구한 후, 상기 최소값을 갖는 라우팅 배선의 정전용량에 상기 보상값을 가산하여 상기 k개의 라우팅 배선들 간의 편차를 보상하는 터치센서 구동장치.
  30. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항 기재의 터치센서 내장형 표시장치에서 하나의 라우팅 배선 그룹을 형성하는 라우팅 배선들이 k개(k는 3이상의 자연수)인 경우의 라우팅 배선들 사이의 저항편차를 보상하기 위한 방법으로서,
    노터치 상태에서 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 저장하는 제 1 단계;
    상기 k개의 정전용량값을 비교하여 최소값을 갖는 라우팅 배선을 제외한 나머지 라우팅 배선들의 정전용량을 합산한 후 평균값을 구하는 제 2 단계;
    상기 평균값에서 상기 최소값을 감산하여 보상값을 구한 후 보상 테이블에 저장하는 제 3 단계; 및
    터치 후 상기 적어도 하나의 터치/공통전극들을 경유하는 상기 k개의 라우팅 배선들의 각각을 센싱하여 얻은 k개의 정전용량들을 구한 후, 상기 최소값을 갖는 라우팅 배선의 정전용량에 상기 보상값을 가산하여 보상하는 제 4 단계를 포함하는 라우팅 배선들의 저항편차 보상방법.
  31. 기판 상에 서로 분리되도록 게이트 라인과 공통라인을 포함하는 제 1 도전층을 형성하는 단계;
    상기 게이트 라인과 공통라인을 커버하는 게이트 절연막 상에 박막 트랜지스터의 반도체층과, 상기 박막 트랜지스터의 소스전극 및 드레인 전극과 상기 드레인에 연결되는 데이터 라인을 포함하는 제 2 도전층을 형성하는 단계;
    상기 반도체층과 상기 제 2 도전층을 순차적으로 커버하는 제 1 절연막, 컬러필터, 및 제 1 패시베이션막을 배치하고, 상기 제 1 패시베이션막 상에서 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k(k는 2보다 큰 자연수)개의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹들을 형성하는 단계; 및
    상기 라우팅 배선 그룹들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상의 화소영역들에 복수의 제 1 가지부들과 상기 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 갖는 복수의 화소전극들과, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과 상기 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비하는 복수의 터치/공통전극을 형성하는 단계를 포함하는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  32. 제 31 항에 있어서,
    상기 터치/공통전극의 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며,
    각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  33. 제 31 항에 있어서,
    상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정; 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하며,
    상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 6 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정; 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 7 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고,
    상기 제 3 콘택홀 및 상기 제 4 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되며,
    상기 제 5 콘택홀, 상기 제 6 콘택홀 및 상기 제 7 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  34. 제 31 항에 있어서,
    상기 컬러필터와 상기 제 1 패시베이션막 사이에 상기 컬러필터를 커버하도록 제 2 절연막을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며,
    각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  36. 제 34 항에 있어서,
    상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 컬러필터, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정; 상기 제 2 절연막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하며,
    상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 6 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 컬러필터, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정; 상기 제 2 절연막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정; 및 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 7 콘택홀 형성공정을 포함하며,
    상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고,
    상기 제 3 콘택홀 및 상기 제 4 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되며,
    상기 제 5 콘택홀, 상기 제 6 콘택홀 및 상기 제 7 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  37. 기판 상에 서로 분리되도록 게이트 라인과 공통라인을 포함하는 제 1 도전층을 형성하는 단계;
    상기 게이트 라인과 공통라인을 커버하는 게이트 절연막 상에 박막 트랜지스터의 반도체층과, 상기 박막 트랜지스터의 소스전극 및 드레인 전극과 상기 드레인에 연결되는 데이터 라인을 포함하는 제 2 도전층을 형성하는 단계;
    상기 반도체층과 상기 제 2 도전층을 커버하는 제 1 절연막 상에 서로 인접한 2개의 화소전극들 사이에 배치되어 k(k는 2보다 큰 자연수)개의 라우팅 배선으로 이루어지는 라우팅 배선 그룹들을 형성하는 단계; 및
    상기 라우팅 배선 그룹들을 커버하는 제 2 패시베이션막 상의 화소영역들에 복수의 제 1 가지부들과 상기 제 1 가지부들을 연결하는 제 1 줄기부를 갖는 복수의 화소전극들과, 상기 복수의 제 1 가지부들과 번갈아 배치되는 복수의 제 2 가지부들과 상기 제 2 가지부들을 연결하는 제 2 줄기부를 구비하는 복수의 터치/공통전극을 형성하는 단계를 포함하며,
    상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 라우팅 배선들 중 하나와 상기 공통라인과 에 접속되며,
    각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  38. 제 37 항에 있어서,
    상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며,
    각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  39. 제 38 항에 있어서,
    상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정을 포함하며,
    상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 제 1 콘택홀, 상기 제 2 콘택홀, 및 상기 제 3 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  40. 제 37 항에 있어서,
    상기 제 1 절연막과 상기 라우팅 배선들 사이에 제 2 절연막 및 제 1 패시베이션막을 순차적으로 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 라우팅 배선들은 상기 제 1 패시베이션막 상에 배치되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  41. 제 40 항에 있어서,
    상기 복수의 제 2 가지부들 중 하나는 각 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막, 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 공통라인에 접속되고, 각 터치/공통전극마다 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 라우팅 배선들 중 하나에 접속되며,
    각 화소영역에서 상기 화소전극의 제 1 줄기부는 상기 제 2 패시베이션막, 화소영역마다 상기 제 2 패시베이션막, 상기 제 1 패시베이션막, 상기 제 2 절연막 및 제 1 절연막을 관통하는 콘택홀을 통해 노출되는 상기 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
  42. 제 41 항에 있어서,
    상기 공통라인을 노출시키는 콘택홀 형성공정은, 상기 제 2 절연막, 상기 제 1 절연막 및 상기 게이트 절연막을 관통하는 제 1 콘택홀 형성공정과, 상기 제 1 콘택홀과 중첩되는 위치에서 상기 제 2 패시베이션막과 상기 제 1 패시베이션막을 관통하는 제 3 콘택홀 형성공정을 포함하며,
    상기 라우팅 배선들 중 하나를 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 4 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀 형성공정은 상기 제 2 절연막 및 상기 제 1 절연막을 관통하는 제 2 콘택홀 형성공정과, 상기 제 2 콘택홀과 중첩되는 위치에서 상기 제 2 패시베이션막과 상기 제 2 패시베이션막을 관통하는 제 5 콘택홀 형성공정을 포함하고,
    상기 제 1 콘택홀 및 상기 제 2 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되고,
    상기 제 3 콘택홀, 상기 제 4 콘택홀, 및 상기 제 5 콘택홀은 동일 마스크 공정을 통해 형성되는 터치센서 내장형 표시장치의 제조방법.
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