KR20170056433A - 처리 장치 - Google Patents

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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

간이한 구조이면서, 인젝터간의 피치를 좁게 할 수 있어, 다수의 인젝터의 설치가 가능한 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 처리 용기(10)와, 해당 처리 용기의 하단부에 배치되고, 상기 처리 용기 내의 벽면을 따라서 연장됨과 함께, 관상 부재를 삽입 가능하면서 또한 밖에서 끼움 지지 가능한 삽입 구멍을 갖는 인젝터 지지부(91)와, 해당 인젝터 지지부로부터 외측으로 돌출되고, 상기 삽입 구멍과 상기 처리 용기의 외부를 연통해서 가스가 통류 가능한 가스 유로(96)를 내부에 갖는 가스 도입부(95)를 갖는 매니폴드(90)와, 상기 삽입 구멍에 삽입 고정되어, 상기 벽면을 따라서 전체가 직선상으로 연장되는 인젝터(110)와, 상기 가스 도입부의 상기 가스 유로의 외측 단부와 연통해서 접속되는 가스 공급 배관(121)을 갖는다.

Description

처리 장치{PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 처리 장치에 관한 것이다.
종래부터, 처리 용기 내에 복수 종류의 가스를 도입하기 위해서, 처리 용기의 소정의 가스 도입부에 복수의 가스 배관을 접속하는 가스 배관 접속 구조를 갖는 열처리 장치가 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).
예를 들어, 특허문헌 1, 2에 기재된 열처리 장치에서는, 처리 용기의 측벽에 가스 도입로가 형성되고, 가스 도입로의 처리 용기측에는 L자 형상을 갖는 석영 인젝터의 수평 부분이 삽입된다. 또한, 플랜지의 외주면과, 가스 배관의 선단에는, 볼트, 너트와 유사한 나사 결합 구조에 의해 접속이 가능한 접속 구조가 설치됨과 함께, 가스 도입로의 외측에는 O-링이 설치되어, 상술한 나사 결합 구조에 의해 가스 배관이 플랜지에 접속했을 때, 가스 배관으로부터 처리 용기 내에 기밀하게 가스를 도입할 수 있는 구조로 되어 있다.
일본 특허 공개 평7-115068호 공보 일본 특허 공개 제2014-152833호 공보
그러나, 상술한 특허문헌 1, 2에 기재된 가스 배관 접속 구조에서는, O-링과, 볼트, 너트와 유사한 나사 결합 구조를 설치할 필요가 있기 때문에, 가스 배관의 접속 개소에 어느 정도의 스페이스를 필요로 하였다. 또한, L자형의 석영 인젝터의 수평 부분을 가스 도입로에 삽입해서 고정하므로, 강도를 확보하기 위해서, 수평 부분을 두껍게 형성할 필요가 있었다. 이와 같이, 특허문헌 1, 2에 기재된 가스 배관 접속 구조에서는, 나사 결합 구조를 사용한 접속 구조 및 인젝터의 강도 확보의 관점에서, 인젝터끼리의 피치를 좁게 하는 것이 곤란해서, 인젝터의 설치 개수에 제약이 있어, 예를 들어 9개 정도가 한계이었다.
한편, 최근의 종형 열처리 장치를 사용한 성막 프로세스에서는, 세로 방향으로 적재된 복수의 기판의 상하 방향에서의 기판간의 성막 처리의 균일화가 요청되어, 세로 방향의 영역마다 개별로 가스를 공급하는 프로세스가 가능한 장치가 요구되고 있다. 이러한 프로세스에서는, 에리어마다 인젝터를 설치할 필요가 있어, 1로트의 프로세스에서 다수 개의 인젝터를 사용하는 것이 필요해진다.
따라서, 본 발명은 간이한 구조이면서, 인젝터간의 피치를 좁게 할 수 있어, 종래의 배 가까운 개수 또는 그 이상의 인젝터의 설치가 가능한 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 일 형태에 관한 처리 장치는, 처리 용기와,
상기 처리 용기의 하단부에 배치되고, 상기 처리 용기 내의 벽면을 따라서 연장됨과 함께, 관상 부재를 삽입 가능하면서 또한 밖에서 끼움 지지 가능한 삽입 구멍을 갖는 인젝터 지지부와, 상기 인젝터 지지부로부터 외측으로 돌출되어, 상기 삽입 구멍과 상기 처리 용기의 외부를 연통해서 가스가 통류 가능한 가스 유로를 내부에 갖는 가스 도입부를 갖는 매니폴드와,
상기 삽입 구멍에 삽입 고정되고, 상기 벽면을 따라서 전체가 직선상으로 연장됨과 함께, 상기 삽입 구멍에 삽입된 개소에 상기 가스 유로와 연통하는 개구를 갖는 인젝터와,
상기 가스 도입부의 상기 가스 유로의 외측 단부와 연통해서 접속되는 가스 공급 배관을 포함한다.
본 발명에 따르면, 인젝터간의 피치를 좁혀, 동일 스페이스에 있어서의 인젝터의 설치 가능 개수를 증가시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 일례를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 단면 구성의 일례를 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 단면 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 처리 용기의 중심측에서 본 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 저면측에서 본 사시도이다.
도 6은 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 인젝터 지지부의 내부 구조의 일례를 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 인젝터 지지부의 도 6과는 상이한 내부 구조의 일례를 나타낸 도면이다.
도 8은 도 7에 관한 인젝터 지지부의 인젝터의 설치 방법의 일례를 설명하기 위한 도면이다. (a)는 인젝터 삽입 공정의 일례를 나타낸 도면이다. (b)는 인젝터 고정 공정의 일례를 나타낸 도면이다. (c)는 인젝터의 설치 종료 상태의 일례를 나타낸 도면이다.
도 9는 비교예에 관한 종래의 가스 도입부에의 인젝터 설치 방법을 도시한 도면이다. (a)는 인젝터를 가스 도입로(196)에 설치하는 공정을 도시한 도면이다. (b)는 가스 배관 접속 공정을 도시한 도면이다. (c)는 비교예에 관한 종래의 가스 도입 부재의 인젝터 설치 종료 상태의 일례를 나타낸 도면이다.
도 10은 인젝터의 회전을 방지하는 구조의 일례를 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드에 의한 인젝터의 설치 예를 도시한 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 시일 구조의 일례를 나타낸 도면이다.
도 13은 가스 도입부에의 가스 배관의 접속 구성의 일례를 나타낸 도면이다.
도 14는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 냉각 기구를 설치한 형태의 일례를 나타낸 도면이다.
도 15는 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드의 가스 도입부에 히터를 설치하는 형태의 일례를 나타낸 도면이다. (a)는 가스 도입부에 히터를 설치하는 형태의 일례의 전체 사시도이다. (b)는 가스 도입부에 히터를 설치하는 형태의 일례의 부분 확대도이다.
이하, 도면을 참조하여, 본 발명을 실시하기 위한 형태 설명을 행한다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 일례를 나타낸 도면이다. 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치는, 처리 대상, 처리 내용은 특별히 한정되지 않고, 가스를 처리 용기 내에 공급해서 처리를 행하는 다양한 처리 장치에 적용 가능한데, 본 실시 형태에서는, 기판에 열처리를 행하는 열처리 장치를 예로 들어 설명한다. 따라서, 도 1은, 종형 열처리 장치의 구성을 나타내고 있다.
도 1에서, 열처리 장치는, 반도체 웨이퍼(W)를 수용하는 처리 용기(10)를 갖고 있다. 처리 용기(10)는, 내열성이 높은 석영에 의해 대략 원통체 형상으로 성형되고, 천장에 배기구(11)를 갖는다. 처리 용기(10)는, 연직 방향으로 연장되는 종형의 형상으로 구성되어 있다. 처리 용기(10)의 직경은, 예를 들어 처리되는 웨이퍼(W)의 직경이 300mm인 경우에는, 350 내지 450mm 정도의 범위로 설정되어 있다.
처리 용기(10)의 천장부의 배기구(11)에는, 가스 배기 포트(20)가 접속된다. 가스 배기 포트(20)는, 예를 들어 배기구(11)로부터 연장되어 직각으로 가로 방향으로 L자 형상으로 굴곡된 석영관으로 구성된다.
가스 포트 배기 포트(20)에는, 처리 용기(10) 내의 분위기를 배기하는 진공 배기계(30)가 접속된다. 구체적으로는, 진공 배기계(30)는, 가스 배기 포트(20)에 연결되는 예를 들어 스테인레스 스틸로 이루어지는 금속제의 가스 배기관(31)을 갖고 있다. 그리고, 이 가스 배기관(31)의 도중에는, 개폐 밸브(32), 버터플라이 밸브와 같은 압력 조정 밸브(33) 및 진공 펌프(34)가 순차 개재 설치되어 있어, 처리 용기(10) 내의 분위기를 압력 조정하면서 진공화할 수 있게 되어 있다. 또한, 가스 배기 포트(20)의 내경은, 가스 배기관(31)의 내경과 동일하게 설정되어 있다.
처리 용기(10)의 측부에는, 이것을 둘러싸도록 해서 가열 수단(40)이 설치되어 있고, 이 내측에 위치하는 반도체 웨이퍼(W)를 가열할 수 있도록 되어 있다. 또한 이 가열 수단(40)의 외주에는, 단열재(50)가 설치되어 있어, 이 열적 안정성을 확보하도록 되어 있다.
석영제의 처리 용기(10)의 하단부는 개구되어, 웨이퍼(W)를 반입, 반출할 수 있게 되어 있다. 처리 용기(10)의 하단부의 개구는, 덮개(60)에 의해 개폐가 행하여지는 구성으로 되어 있다.
덮개(60)보다도 상방에는, 웨이퍼 보트(80)가 설치되어 있다. 웨이퍼 보드(80)는, 웨이퍼(W)를 보유 지지하기 위한 웨이퍼 보유 지지 부재이며, 연직 방향으로 복수매의 웨이퍼를 이격한 상태로 보유 지지 가능하게 구성된다. 웨이퍼 보드(80)가 보유 지지하는 웨이퍼의 매수는 특별히 정해져 있지 않지만, 예를 들어 50 내지 100매의 웨이퍼(W)를 보유 지지한다.
웨이퍼 보트(80)는, 석영제의 보온통(75)을 개재해서 테이블(74) 상에 적재되어 있고, 테이블(74)은, 처리 용기(10)의 하단 개구부를 개폐하는 덮개(60)를 관통하는 회전축(72)의 상단부에 지지된다. 그리고, 이 회전축(72)의 관통부에는, 예를 들어 자성유체 시일(73)이 개재 설치되어, 이 회전축(72)을 기밀하게 시일하면서 회전 가능하게 지지하고 있다. 또한, 덮개(60)의 주변부와 처리 용기(10)의 하단부에는, 예를 들어 O-링 등으로 이루어지는 시일 부재(61)가 개재 설치되어 있어, 처리 용기(10) 내의 시일성을 유지하고 있다.
회전축(72)은, 예를 들어 보트 엘리베이터 등의 승강 기구(70)에 지지된 아암(71)의 선단에 설치되어 있어, 웨이퍼 보트(80) 및 덮개(60) 등을 일체적으로 승강할 수 있도록 이루어져 있다. 또한, 테이블(74)을 덮개(60)측에 고정해서 설치하여, 웨이퍼 보트(80)를 회전시키지 않고 웨이퍼(W)의 처리를 행하도록 해도 된다.
처리 용기(10)의 하단부에는, 처리 용기(10)의 내주벽을 따라 연장되는 부분을 가짐과 함께, 반경 방향 외측을 향해서 연장되는 플랜지 형상의 부분을 갖는 매니폴드(90)가 배치되어 있다. 그리고, 매니폴드(90)를 개재하여, 처리 용기(10)의 하단부로부터, 처리 용기(10) 내에 필요한 가스를 도입한다. 매니폴드(90)는, 처리 용기(10)와는 별도 부품으로 구성되지만, 처리 용기(10)의 측벽과 일체적으로 설치되어, 처리 용기(10)의 측벽의 일부를 구성하도록 설치된다. 또한, 매니폴드(90)의 상세한 구성에 대해서는 후술한다.
매니폴드(90)는 인젝터(110)를 지지한다. 인젝터(110)는, 처리 용기(10) 내에 가스를 공급하기 위한 가스 공급 수단이며, 석영으로 구성되는 것이 일반적이다. 인젝터(110)는, 처리 용기(10)의 내부에서 상하 방향으로 연장되게 설치되고, 직접적으로 가스를 웨이퍼(W)에 공급한다.
인젝터(110)는, 가스의 종류에 따라 복수 설치되는 것이 일반적이지만, 최근에는, 또한 웨이퍼 보드(80)에 적재된 상하 방향의 영역마다, 개별의 인젝터(110)를 설치하는 경우도 있으므로, 10개 이상이나 되는 인젝터(110)를 설치할 필요가 있는 경우도 있다. 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치는, 그러한 다수 개의 인젝터의 설치를 가능하게 하는 구성을 갖는데, 그 점의 상세에 대해서는 후술한다.
인젝터(110)에 가스를 공급하기 위해서 가스 공급계(120)가 설치된다. 가스 공급계(120)는, 인젝터(110)에 연통되는 금속, 예를 들어 스테인레스 스틸제의 가스 배관(121)을 갖고 있으며, 가스 배관(121) 도중에는, 매스 플로우 컨트롤러와 같은 유량 제어기(123) 및 개폐 밸브(122)가 순차 개재 설치되어, 처리 가스를 유량 제어하면서 공급할 수 있게 되어 있다. 기판 처리에 필요한 다른 필요한 처리 가스도, 마찬가지로 구성된 가스 공급계(120) 및 매니폴드(90)를 통해서 공급된다.
처리 용기(10)의 하단부의 매니폴드(90)의 주변부는, 예를 들어 스테인레스 스틸에 의해 형성된 베이스 플레이트(130)에 의해 지지되어 있고, 이 베이스 플레이트(130)에 의해 처리 용기(10)의 하중을 지지하도록 되어 있다. 이 베이스 플레이트(130)의 하방은, 도시하지 않은 웨이퍼 이동 탑재 기구를 갖는 웨이퍼 이송실로 되어 있고, 대략 대기압의 질소 가스 분위기로 되어 있다. 또한 베이스 플레이트(130)의 상방은 통상의 클린룸의 청정한 공기의 분위기로 되어 있다.
이어서, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 구성에 대해서 보다 상세하게 설명한다.
도 2는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 단면 구성의 일례를 나타낸 도면이다. 매니폴드(90)는, 인젝터 지지부(91)와 가스 도입부(95)와, 프레임 형상부(95a)를 갖는다. 인젝터 지지부(91)는, 처리 용기(10) 내벽면을 따라 연직 방향으로 연장되는 부분이며, 인젝터(110)를 지지한다. 인젝터 지지부(91)는, 인젝터(110)의 하단이 삽입 가능하고, 인젝터(110)의 하단을 밖에서 끼움 지지 가능한 삽입 구멍(92)을 갖는다. 가스 도입부(95)는, 인젝터 지지부(91)로부터 반경 방향 외측으로 연장되어, 처리 용기(10)의 외측에 노출되는 부분이며, 가스 도입로(가스 유로)(96)를 갖는다.
가스 도입로(96)의 외측 단부에는, 가스 배관(121)이 접속되어, 외부로부터의 가스 공급이 가능하게 구성된다. 가스 배관(121)은, 가스킷(131)을 통해서 가스 도입로(96)에 접속 가능하고, 볼트, 너트에 의한 나사 결합 구조를 사용하지 않고 가스 도입로(96)에 접속 가능하다. 또한, 도 2에서는, 가스 도입로(96)의 외측 단부의 주연부 및 가스 배관의 선단부에 가스 도입로(96)와 동심원 형상의 가스킷 보유 지지 홈이 형성되고, 이 보유 지지 홈의 사이에 가스킷(131)을 넣어 기밀하게 시일할 수 있도록 구성되어 있다.
매니폴드(90)는, 처리 용기(10)의 하단부를 이루는 플랜지(13) 및 보텀 플랜지(12)와, 덮개(60)과의 사이에 끼워지도록 설치된다. 덮개(60)는, 처리 용기(10)의 개폐 시에 상하 이동하는데, 덮개(60)가 폐쇄된 상태에서는, 도 2에 도시된 바와 같이, 매니폴드(90)는 처리 용기(10)의 하단부를 이루는 플랜지(13) 및 보텀 플랜지(12)의 하면과 덮개(60)의 상면과의 사이에 끼워지도록 배치된 상태가 된다.
또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 덮개(60)의 상면과 매니폴드(90)의 하면과의 접촉면에는, 필요에 따라, 이중의 시일 부재(O-링)(61a, 61b)가 배치되어도 된다. 이 점의 상세에 대해서는 후술한다.
매니폴드(90)는 일반적으로는, 금속으로 구성된다. 처리 용기(10) 및 처리 용기(10)를 구성하는 부품은, 금속 오염을 방지하는 관점에서, 기본적으로는 석영으로 구성되는 것이 바람직하지만, 복잡한 형상이나, 나사 등과의 나사 결합 접속이 있는 개소는, 금속으로 구성하지 않을 수 없다. 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)도, 금속으로 구성되는데, 인젝터(110)를 L자 형상으로 하지 않고, 직선적인 막대 형상으로 하고 있다. 그리고, 매니폴드(90)의 가스 도입부(95) 내에 수평하게 연장되는 가스 도입로(96)를 형성하고, 인젝터(110)에 가스 도입로(96)와 연통하는 개구(111)를 형성함으로써, 인젝터(110)에 두꺼운 수평 부분을 없애고 있다. 이에 의해, 매니폴드(90)의 가스 도입부(95)는, 인젝터(110)의 두꺼운 수평 부분을 수용할 필요가 없어지기 때문에, 매니폴드(90)의 가스 도입부(95)의 두께를 얇게 하고, 높이를 낮게 해서 금속 콘타미네이션을 저감시키는 것이 가능하게 된다.
또한, 매니폴드(90)를 구성하는 금속은, 스테인리스강, 알루미늄, 하스텔로이 등의 내식성 메탈 재료이어도 된다.
도 3은, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 단면 사시도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 인젝터 지지부(91)는, 처리 용기(10)의 내주벽을 따라 연장되어, 복수개의 인젝터(110)를 지지 가능하도록, 복수개의 삽입 구멍(92)이 둘레 방향을 따라 배치된다. 각 삽입 구멍(92)은, 1개의 인젝터(110)의 하단부가 삽입되었을 때, 인젝터(110)를 연직으로 세운 상태에서 지지할 수 있는 높이를 갖고 구성된다. 인젝터(110)의 측면에는, 개구(111)가 형성되고, 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)와 연통 가능하게 구성된다.
또한, 매니폴드(90)의 내주면은, 석영 커버로 덮어, 부식 가스로부터 보호하는 구성으로 해도 된다.
또한, 도 1, 2에서 설명한 덮개(60)를 석영으로 구성하고, 처리 용기(10)의 내부를 전부 석영으로 구성하도록 해도 된다.
또한, 가스 도입부(95)는, 가스가 통류 가능한 가스 도입로(96)가 형성되어 있으면 충분하며, 인젝터(110)를 통과시킬 필요는 없으므로, 최소한의 두께로 구성할 수 있어, 인젝터 지지부(91)의 높이보다도 그 높이는 작아진다. 예를 들어, 가스 도입부(95)의 높이는, 20 내지 30mm로 구성되어도 된다.
도 4는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 처리 용기(10)의 중심측에서 본 사시도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 인젝터(110)가 복수개, 인젝터 지지부(91)에 지지되어 배열되어 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 인젝터(110)의 설치가 필요한 개소에는 인젝터 지지부(91)가 형성되어 있지만, 인젝터(110)의 설치가 불필요한 개소에는, 인젝터 지지부(91)는 설치되어 있지 않다. 인젝터 지지부(91)가 설치되어 있지 않은 개소에는, 가스 도입부(95)와 동일한 외형을 갖고, 가스 도입로(96)가 형성되어 있지 않은 프레임 형상부(95a)가 형성되어 있다. 프레임 형상부(95a)는, 처리 용기(10)의 측면 또는 하단면에 적합시켜서 형성할 수 있고, 예를 들어 처리 용기(10)가 다각형인 경우에는, 프레임 형상부(95a) 및 가스 도입부(95)가 전체로서 처리 용기(10)에 적합한 다각형으로 구성해도 된다. 본 실시 형태에서는, 처리 용기(10)는 원통형이므로, 가스 도입부(95) 및 프레임 형상부(95a)는 전체로서 원환 형상으로 구성되어 있다. 또한, 도 4에서는, 인젝터 지지부(91)의 내주면이 프레임 형상부(95a)의 내주면보다도 내측에 돌출된 형상을 갖고 있지만, 이것에 한정되지 않고, 인젝터 지지부(91)의 내주면과 프레임 형상부(95a)의 내주면이 동일해지도록 구성해도 된다. 이 경우, 처리 용기(10)의 측벽에 인젝터(110)와의 접촉을 회피하는 돌출부를 형성함과 함께, 이 돌출부에 대응시켜서 인젝터(110)를 설치하면 된다.
도 5는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 저면측에서 본 사시도이다. 도 5에 도시되는 바와 같이, 가스 도입부(95) 및 프레임 형상부(95a)는, 전체적으로 연속해서 원환 형상을 형성하고 있다.
도 6은, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 인젝터 지지부(91)의 내부 구조의 일례를 나타낸 도면이다. 인젝터 지지부(91)는, 삽입 구멍(92)이 저면(92b)을 갖고, 저면(92b) 상에 인젝터(110)의 하단부가 적재되는 구조로 되어 있다. 이 경우에는, 인젝터(110)는 삽입 구멍(92)의 상방으로부터 삽입함으로써, 저면(92b) 상에 적재된다. 또한, 삽입 구멍(92)의 상부에는 스프링(100)이 설치되어, 인젝터(110)의 후육부(112)를 위에서 압박하고, 또한 스프링(100)의 상방에 고정 부재(101)가 설치됨으로써, 스프링(100)의 상방으로부터의 가압력에 의해 인젝터(110)를 고정한다. 또한, 인젝터(110)가 고정되었을 때는, 인젝터(110)의 개구(111)와 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)가 연통한다.
인젝터(110)의 설치 수순으로서는, 매니폴드(90)의 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92) 내에 인젝터(110)를 삽입하고, 스프링(100)이 인젝터(110)를 밖에서 끼우도록 해서 삽입 구멍(92)의 상부에 설치되고, 개구를 갖는 고정 부재(101)가 인젝터(110)를 밖에서 끼우도록 해서 스프링(100) 상에 고정한다. 인젝터(110)를 스프링(100)으로 고정함으로써, 열팽창 차에 의해 매니폴드(90)와 인젝터(110)에 신축이 발생하여, 삽입 구멍(92)과 인젝터(110)의 후육부(112)와의 사이에 간극이 발생해도, 스프링(100)의 가압력에 의해 인젝터(110)를 저면(92b) 상에 압박할 수 있기 때문에, 인젝터(110)의 기울기를 효과적으로 억제할 수 있다.
도 7은, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 인젝터 지지부(91)의 도 6과는 상이한 내부 구조의 일례를 나타낸 도면이다. 도 7의 형태에서는, 삽입 구멍(92)은 관통 구멍(92a)으로서 구성되고, 인젝터(110)는 관통 구멍(92a)의 하방으로부터 삽입이 가능한 구성으로 되어 있다. 관통 구멍(92a)의 상단부에는, 인젝터(110)의 후육부(112)를 걸림 고정 가능한 걸림부(93)가 설치된다. 이 경우에는, 인젝터(110)의 하방에 스프링(100)이 설치되고, 그 아래에 고정 부재로서 플러그(원판 부재)(102)가 설치된다. 이와 같이, 하방으로부터 인젝터(110)를 설치하는 구성이어도 된다. 이 경우, 도 6의 경우의 위로부터 인젝터(110)를 삽입하는 경우에 필요한 상부의 스페이스를 고려할 필요가 없어져, 처리 용기(10)의 높이를 낮게 구성할 수 있다. 또한, 스프링(100) 대신에 O-링 등의 다른 탄성 부재를 사용해도 된다. 또한, 인젝터(110)가 고정되었을 때는, 인젝터(110)의 개구(111)와 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)가 연통하는 점은, 도 6과 마찬가지이다. 도 6 및 도 7에서는, 인젝터(110)의 후육부(112)의 상부 또는 하부에 스프링(100)을 1개만 설치하는 예를 나타내고 있지만, 상부 및 하부의 양쪽에 설치할 수도 있다.
도 8은, 도 7에 관한 인젝터 지지부(91)의 인젝터(110)의 설치 방법의 일례를 설명하기 위한 도면이다.
도 8의 (a)는 인젝터 삽입 공정의 일례를 나타낸 도면이다. 인젝터 삽입 공정에서는, 인젝터(110)를 인젝터 지지부(91)의 관통 구멍(92a)에 하방으로부터 인젝터(110)를 삽입한다.
도 8의 (b)는 인젝터 고정 공정의 일례를 나타낸 도면이다. 인젝터 고정 공정에서는, 삽입한 인젝터(110)의 하방으로부터 스프링(100) 및 플러그(102)를 순서대로 삽입하여, 관통 구멍(92a)의 저면에 스프링(100) 및 플러그(102)를 고정한다. 구체적으로는, 관통 구멍(92a)의 상부에 인젝터(110)의 후육부(112)가 상방으로 빠지는 것을 규제하는 걸림부(93)가 존재하여, 걸림부(93)에 하방으로부터 스프링(100)으로 인젝터(110)의 후육부(112)를 압박하도록 해서 인젝터(110)를 고정한다. 플러그(102)는, 나사 결합 구조 등의 고정 구조에 의해, 스프링(100)을 고정하는 고정 부재로서의 역할을 한다. 또한, 인젝터(110)를 고정하면, 개구(111)가 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)와 연통한다.
도 8의 (c)는 인젝터의 설치 종료 상태의 일례를 나타낸 도면이다. 인젝터(110)의 설치가 종료되면, 인젝터(110)는 고정되고, 스프링(100) 및 플러그(102)가 삽입 구멍(92a)의 하단에 있고, 플러그(102)의 하면이 가스 도입부(95)의 하면과 일치하는 배치가 된다.
도 9는, 비교예에 관한 종래의 가스 도입부에의 인젝터 설치 방법을 도시한 도면이다. 도 9의 (a)는 인젝터(210)를 가스 도입로(196)에 설치하는 공정을 도시한 도면이다. 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이, 인젝터(210)는 L자 형상으로 구성되고, 수평 부분은, 수직 부분보다도 두껍게 형성되어 있다. 그리고, 두꺼운 수평 부분을 가스 도입로(196)에 처리 용기의 내측으로부터 삽입한다.
도 9의 (b)는 가스 배관 접속 공정을 도시한 도면이다. 가스 배관 접속 공정에서는, 가스 배관(220)의 선단과, 가스 도입로(196)의 외측에 설치된 나사 결합 구조에 의해, 가스 배관(220)을 가스 도입로(196)에 고정하고, 인젝터(210)와 가스 배관(220)을 접속한다.
도 9의 (c)는 비교예에 관한 종래의 가스 도입 부재의 인젝터 설치 종료 상태의 일례를 나타낸 도면이다. 인젝터(210)의 수평 부분의 두꺼운 두께와, 가스 도입로(196)와 가스 배관(220)과의 접속을 위한 나사 결합 구조에 큰 스페이스가 필요해져, 가스 도입부(195)의 두께가 매우 두꺼워져 있는 것을 알 수 있다. 그렇게 하면, 수많은 인젝터(210)의 설치는 곤란해지는 경우가 있다.
또한, 상방에 연직 방향으로 길게 연장되는 부분을 갖는 인젝터(210)의 수평 부분을 수평한 가스 도입로(196)에 삽입하는 것은, 매우 어려움을 수반하는 작업이다.
이에 비해, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)는, 가스 도입부(95)를 매우 얇게 할 수 있음과 함께, 인접하는 인젝터(110)와의 피치를 대폭 좁힐 수 있어, 금속 콘타미네이션을 저감시키면서, 다수의 인젝터(110)의 설치가 가능하게 된다. 또한, 수평 부분이 존재하지 않기 때문에, 인젝터(110)의 설치 작업도 매우 용이하게 할 수 있다.
도 10은, 인젝터(110)의 회전을 방지하는 구조의 일례를 나타낸 도면이다. 도 10에 도시한 바와 같이, 삽입 구멍(92, 92a)의 내주면과, 인젝터(110)의 외주면에 서로 걸어서 회전을 방지하는 걸림 구조(94)를 설치할 수도 있다. 도 10에서는, 삽입 구멍(92, 92a)의 내주면 및 인젝터(110)의 외주면끼리 D 커트되어, 서로 걸림 결합해서 인젝터(110)의 회전을 방지하는 구조가 도시되어 있지만, 인젝터(110)의 회전을 방지할 수 있는 구조라면, 다양한 걸림 구조(94)를 채용할 수 있다.
도 11은, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)에 의한 인젝터(110)의 설치 예를 도시한 도면이다. 도 11에서, 처리 용기(10)의 내주벽을 따라 원호 형상으로 형성된 인젝터 지지부(91)에, 인젝터(110)가 지지되어 있다. 인젝터 지지부(91)의 처리 용기(10)의 중심으로부터의 개방 각도는, 90도보다는 작고, 45도보다는 큰 정도인데, 이 사이에, 15개의 인젝터(110)가 설치되어 있다. 이 각도에서는, 도 10에 도시한 종래의 구조이면, 인젝터(210)를 8개 설치하는 것이 한계이었다. 따라서, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치에 의하면, 동일한 영역에서, 2배 이상의 인젝터(110)의 설치가 가능하게 되어 있는 것을 알 수 있다.
도 12는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 시일 구조의 일례를 나타낸 도면이다.
도 12에서, 덮개(60)와의 접촉면의 시일 구조와, 처리 용기(10)의 하단면과의 시일 구조의 일례가 도시되어 있다.
상술한 바와 같이, 덮개(60)와 매니폴드(90)와의 접촉면에는, 동심원 형상의 이중 O-링(61a, 61b)이 배치되어 있는데, 필요에 따라, 이중의 O-링(61a, 61b)끼리의 사이에 통기로(97)를 설치하여, 차동 배기가 가능하도록 구성해도 된다. 이에 의해, O-링(61a, 61b)의 산소 투과성, 리크성을 저감할 수 있어, 시일성을 향상시킬 수 있다.
또한, 이중의 O-링(61a, 61b)끼리의 사이에는, 절결(62)을 형성하여, 진공 배기를 행하기 쉽도록 구성해도 된다. 도 12에서, 절결(62)은, 덮개(60)의 상면에 형성되어 있지만, 매니폴드(90)의 하면에 형성되어도 된다.
마찬가지로, 처리 용기(10)와 매니폴드(90)와의 사이에도 이중의 O-링(103, 104)이 설치되고, O-링(103, 104) 사이에 통기로(97)가 설치되어 있다. 또한, 도 12의 예에서는, O-링(103)과 O-링(104)이 설치되어 있는 위치에서는, 처리 용기(10)는 서로 별도 부품(처리 용기(10)의 본체와 보텀 플랜지(12))으로 구성되어 있으므로, 부품끼리의 사이에 스페이스(105)를 형성하여, 이중의 O-링(103, 104)의 사이의 배기가 행해지기 쉽도록 구성되어 있다. 이와 같이, 이중의 O-링(103, 104)끼리의 사이에 적절히 절결과 같은 스페이스(105)를 형성하도록 해도 된다. 또한, 부품끼리의 사이에 스페이스(105)를 형성할 수 없는 경우에는, 매니폴드(90)의 상면에 스페이스(105)를 형성해도 된다.
또한, 이중의 O-링(61a, 61b)은, 덮개(60)의 상면에 오목부를 형성해서 배치되고, 이중의 O-링(103, 104)은, 매니폴드(90)의 상면에 오목부를 형성해서 배치되어 있다.
차동 배기는, 통기로(97)의 외측 단부에 진공 펌프 등의 진공 배기 수단을 접속해서 진공 배기함으로써 가능하게 된다. 그때, 도 1에서 설명한 진공 배기계(30)를 사용해도 되고, 다른 진공 배기 계통을 설치해도 된다.
또한, 통기로(97)는, 가스 도입로(96)와 간섭하지 않는 범위에서 설치하여, 인젝터(110)에의 가스 도입에 영향을 주지 않도록 구성하는 것이 바람직하다.
또한, 통기로(97)는 배기로로서가 아니라, 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급로로서 사용해도 된다. 이 경우에는, 통기로(97)를 진공 배기 수단에 접속하는 것이 아니라, 퍼지 가스 공급원에 접속하면 된다. 이에 의해, 이중의 O-링(61a, 61b)의 사이 및 이중의 O-링(103, 104)의 사이의 매니폴드(90)와 덮개(60)의 접촉면, 및 매니폴드(90)와 처리 용기(10)의 하단부의 접촉면을 퍼지하는 것이 가능하게 된다. 또한, 퍼지 가스에는, 예를 들어 질소 가스를 사용하도록 해도 된다.
또한, 도 12에서는, 덮개(60)와 매니폴드(90)와의 접촉면에는 이중의 O-링(61a, 61b), 처리 용기(10)와 매니폴드(90)와의 접촉면에도 이중의 O-링(103, 104)을 설치하는 예를 들어 설명했지만, 양자 중 한쪽이, 또는 양쪽 모두 1개의 O-링만으로 충분한 경우에는, 그러한 구성으로 해도 된다. 이 경우, 이중의 O-링(61a, 61b) 중 어느 한쪽, 및/또는 이중의 O-링(103, 104) 중 어느 한쪽을 남기는 구성으로 해도 되고, 도 12와는 상이한 다른 위치에 배치해도 된다. 이러한 시일 부재의 배치 구성은, 용도에 따라서 다양한 형태로 할 수 있다.
통기로(97)는, 매니폴드(90)의 내부를 분기시켜서 둘러쳐져, 매니폴드(90)의 외측의 한점에서 합류시키도록 구성하면, 1개의 진공 수단 또는 1개의 퍼지 가스 공급 수단을 접속함으로써, 매니폴드(90)의 전체의 차동 배기 또는 퍼지 가스 공급이 가능하게 된다.
또한, 통기로(97)의 영역을 확대하여, 열전쌍 부근에 설치되어 있는 O-링도 일괄해서 차동 배기를 행하도록 구성해도 된다.
한편, 개별의 통기로(97)를 복수 형성함으로써, 개개의 통기로(97)의 단독 배기도 가능하게 된다.
또한, 배기로용의 통기로(97)와, 퍼지 가스 공급용의 통기로(97)의 양쪽을 설치하여, 양자를 적절히 구분해서 사용하도록 해도 된다. 또한, 동일한 통기로(97)를 상황에 따라서 구분해서 사용하는 것도 가능하며, 예를 들어 O-링(61a, 61b, 103, 104)의 투과 개선 시에는, 통기로(97)를 질소 공급로로 하여, 산소를 날려버리기 위한 퍼지를 행하도록 해도 된다.
도 13은, 가스 도입부(95)에의 가스 배관(121)의 접속 구성의 일례를 나타낸 도면이다. 가스 배관(121)의 선단부에는 긴 판 형상의 플랜지 부재(125)가 용접 등의 고정 수단에 의해 일체적으로 형성되어 있다. 이 플랜지 부재(125)의 길이 방향(도 13에서의 좌측 상단으로부터 우측 하단을 향하는 방향)의 양단부에는 나사 구멍이 형성되고, 가스 배관(121)은 나사에 의해 매니폴드(90)에 고정된다. 플랜지 부재(125)의 폭은 가스 배관(121)의 직경보다도 큰 치수를 갖는데, 가스킷(131)을 고정해서 확실하게 시일할 수 있으면 되므로, 가스 배관(121)의 직경보다도 약간 큰 치수로 할 수 있다. 또한, 플랜지 부재(125)의 길이 방향의 길이는, 폭 치수와 비교하면 훨씬 큰 치수를 갖는데, 나사 헤드와 가스 배관(121)과의 사이에 간섭 방지용의 클리어런스가 설치되어 있으면 되어, 나사 헤드의 직경과 클리어런스를 합한 치수로 할 수 있다. 또한, 플랜지 부재(125)의 양단부에는, 모따기 형상의 경사부가 형성되어 있고, 가스 배관(121)을 매니폴드(90)에 고정했을 때 경사부의 각 면이 수평 및 수직 방향에 평행해지도록 구성되어 있다. 이러한 구조에 의해, 매니폴드(90)의 외측 단부면에서 필요 최소한의 스페이스에 가스 배관(121)을 고정할 수 있다. 또한, 도 13에서는, 플랜지 부재(125)를 비스듬히 설치하는 일례를 나타내고 있지만, 매니폴드(90)의 높이를 충분히 확보할 수 있는 경우에는 세로 방향으로 설치해도 되고, 매니폴드(90)의 높이가 낮을 때는 수평하게 설치해도 된다. 매니폴드(90)의 높이나 가스 유로(96)의 피치에 맞춰서 다양한 형태를 채용할 수 있다. 지금까지 설명한 바와 같이, 가스 배관(121)은, 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)의 외측 단부에의 직접적인 접속이 가능하므로, 메탈 가스킷 또는 수지 시일재를 개재하여, 직접적으로 가스 도입로(96)에 가스 배관(121)을 접속할 수 있다. 이에 의해, 메탈 시일 또는 수지 시일재로 시일성을 확보하면서, 공간 절약형으로 가스 도입로(96)에의 접속을 행할 수 있다.
도 14는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 냉각 기구를 설치한 형태의 일례를 나타낸 도면이다. 도 14에서, 매니폴드(90)의 내부의 시일 부재(61a, 61b, 103, 104)의 근방에, 수로(98)가 형성되어 있다. 이러한 수로(98)에 냉각수 등의 냉매를 통류시킴으로써, 시일 부재(61a, 61b, 103, 104)를 냉각하는 것이 가능하게 된다.
또한, 수로(98)에 온매(溫媒)를 통류시키는 것도 가능하여, 수로(98)를 가스 도입부(95) 부근에만 형성한 경우에는, 가스 도입부(95)를 임의의 온도로 조정하는 것이 가능하다.
또한, 수로(98)에 공기, 질소 가스 등을 흘려서, 공냉을 행하는 것도 가능하다.
이와 같이, 매니폴드(90)는, 인젝터 지지부(91)의 삽입 구멍(92, 92a)에 연통하는 가스 도입로(96)를 확보하는 한, 다른 영역은 다양한 통기로(97) 및 수로(98)를 형성하는 것이 가능하여, 다양한 프로세스에 대응하는 것이 가능하다.
도 15는, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치의 매니폴드(90)의 가스 도입부(95)에 히터를 설치하는 형태의 일례를 나타낸 도면이다. 도 15의 (a)는 가스 도입부(95)에 히터를 설치하는 형태의 일례의 전체 사시도이며, 도 15의 (b)는 가스 도입부(95)에 히터를 설치하는 형태의 일례의 부분 확대도이다.
도 15의 (a), (b)에 도시된 바와 같이, 매니폴드(90)의 가스 도입부(95)의 가스 도입로(96)와 간섭하지 않는 위치에는, 히터(106)를 설치할 수도 있다. 히터(106)는 가스 도입부(95)의 다양한 영역에 설치할 수 있는데, 예를 들어 가스 도입로(96)의 근방, 예를 들어 양측에 설치할 수도 있다. 이에 의해, 가스 도입로(96)를 가온하여, 도입되는 가스를 가온하는 것이 가능하게 된다.
또한, 히터(106)는 다양한 가열 수단을 사용할 수 있는데, 예를 들어 카트리지 히터를 사용해도 된다.
그 밖에, 인젝터(110)를 경유하지 않고, 즉, 인젝터 지지부(91)를 설치하지 않는 개소에서, 가스 도입로(96)로부터 처리 용기(10)의 내측단에서 개구를 형성하여, 직접적으로 처리 용기(10)의 내부의 중심을 향해서 가스를 공급하는 것도 가능하다.
이와 같이, 본 발명의 실시 형태에 따른 처리 장치에 의하면, 매니폴드(90)의 가스 도입부(95)를 얇게 구성함과 함께, 다수의 인젝터를 설치할 수 있다. 또한, 매니폴드(90) 내에 다양한 유로를 설치하는 것이 가능하게 되어, 용도에 따라서 유연하게 처리를 행하는 것이 가능하게 된다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해서 상세하게 설명했지만, 본 발명은 상술한 실시 형태에 제한되지 않으며, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고, 상술한 실시 형태에 다양한 변형 및 치환을 가할 수 있다.
10 : 처리 용기 34 : 진공 펌프
60 : 덮개 61a, 61b, 103, 104 : O-링
90 : 매니폴드 91 : 인젝터 지지부
92, 92a : 삽입 구멍 92b : 저면
93 : 걸림부 94 : 걸림 구조
95 : 가스 도입부 96 : 가스 도입로(가스 유로)
97 : 통기로 98 : 수로
100 : 스프링 101 : 고정 부재
102 : 플러그(원판 부재) 105 : 스페이스
106 : 히터 110 : 인젝터
111 : 개구 112 : 후육부
120 : 가스 공급계 121 : 가스 배관

Claims (18)

  1. 처리 용기와,
    상기 처리 용기의 하단부에 배치되고, 상기 처리 용기 내의 벽면을 따라서 연장됨과 함께, 관상 부재를 삽입 가능하면서 또한 밖에서 끼움 지지 가능한 삽입 구멍을 갖는 인젝터 지지부와, 상기 인젝터 지지부로부터 외측으로 돌출되고, 상기 삽입 구멍과 상기 처리 용기의 외부를 연통해서 가스가 통류 가능한 가스 유로를 내부에 갖는 가스 도입부를 갖는 매니폴드와,
    상기 삽입 구멍에 삽입 고정되고, 상기 벽면을 따라서 전체가 직선상으로 연장됨과 함께, 상기 삽입 구멍에 삽입된 개소에 상기 가스 유로와 연통하는 개구를 갖는 인젝터와,
    상기 가스 도입부의 상기 가스 유로의 외측 단부와 연통해서 접속되는 가스 공급 배관을 포함하는 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 매니폴드의 상기 가스 도입부의 두께는, 상기 인젝터 지지부의 높이보다도 작은, 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 처리 용기 및 상기 인젝터는 석영으로 이루어지고,
    상기 매니폴드는 금속으로 이루어지는, 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 인젝터 지지부는, 상기 삽입 구멍의 하단을 막는 저면부를 구비하고,
    상기 인젝터의 하단부에는 상기 인젝터의 직경보다도 큰 후육부가 설치되고,
    상기 인젝터의 하단면은, 상기 저면부에 의해 지지되고,
    상기 삽입 구멍의 상부에는, 상기 인젝터의 후육부를 고정하는 고정 부재가 설치되는, 처리 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 인젝터 지지부의 상기 삽입 구멍은 관통 구멍이며,
    상기 인젝터의 하단부에는 상기 인젝터의 직경보다도 큰 후육부가 설치되고,
    상기 관통 구멍의 상부에는, 상기 인젝터의 후육부를 걸어 고정하는 걸림부가 설치되고,
    상기 관통 구멍의 하부에는, 상기 인젝터의 후육부를 지지 고정하는 원판 부재가 설치되는, 처리 장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 후육부의 상부 및 하부 중 적어도 어느 한쪽에는,
    상기 인젝터를 탄성 지지 가능한 탄성 부재가 설치되어 있는, 처리 장치.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 인젝터 및 상기 인젝터 지지부의 상기 삽입 구멍은, 서로 걸어서 상기 인젝터의 회전을 방지하는 걸림 구조를 갖는, 처리 장치.
  8. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스 공급 배관은, 상기 매니폴드의 상기 가스 도입부에, 가스킷을 개재해서 접속되어 있는, 처리 장치.
  9. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 매니폴드는, 상기 처리 용기의 상기 벽면을 따라서 상기 인젝터 지지부 및 상기 가스 도입부를 미리 정해진 길이 연장시킴으로써 설치되고,
    상기 삽입 구멍 및 상기 가스 유로는, 상기 미리 정해진 길이 내에 상기 벽면을 따라서 복수개 형성된, 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 매니폴드는, 상기 미리 정해진 길이 이외의 영역에서는, 상기 인젝터 지지부가 형성되지 않고, 상기 가스 도입부와 동일한 외형을 갖지만, 상기 가스 유로가 형성되어 있지 않은 프레임 형상부를 갖는, 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 처리 용기는 원통 형상을 갖고,
    상기 가스 도입부 및 상기 프레임 형상부는, 전체로서 원환 형상을 이루는, 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 매니폴드의 상기 가스 도입부 및 상기 프레임 형상부는, 상기 처리 용기의 하단부와, 처리 시에 상기 처리 용기의 저면을 이루는 덮개와의 사이에 상하 방향으로 끼워져서 배치되고, 상기 매니폴드의 상면과 상기 처리 용기의 하단부와의 사이, 및 상기 매니폴드의 하면과 상기 덮개와의 사이에는, 시일 부재가 설치되어 있는, 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 시일 부재는 동심원 형상으로 이중으로 설치된 O-링이며, 상기 이중으로 설치된 O-링끼리의 사이이며, 상기 처리 용기의 하단부와 상기 매니폴드와의 접촉면, 및, 상기 덮개와 상기 매니폴드와의 접촉면 중 적어도 어느 한쪽에는 절결이 형성되고,
    상기 매니폴드의 내부에는, 상기 절결과 상기 매니폴드의 외부를 연통하는 통기로가 설치되어 있는, 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 통기로의 외측 단부의 적어도 일부에 배기 수단이 접속되고, 상기 절결은, 차동 배기 가능하게 구성된, 처리 장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 통기로의 외측 단부의 적어도 일부에 퍼지 가스 공급 수단이 접속되고, 상기 절결은, 퍼지 가능하게 구성된, 처리 장치.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 매니폴드의 내부에는, 냉매 유로가 형성된, 처리 장치.
  17. 제10항에 있어서,
    상기 매니폴드에는, 히터가 매설된, 처리 장치.
  18. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리 용기의 외부에는 가열 수단이 설치되고,
    상기 처리 용기 내에는 기판이 수용되어 열처리가 가능한, 처리 장치.
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