KR20200045099A - 잉크젯 헤드 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2 및 도 3은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치에서의 인쇄 공정을 수행하는 상황을 설명하기 위한 도면들이다.
도 4 및 도 5는 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치에서의 인쇄 공정을 수행하지 않은 상황을 설명하기 위한 도면들이다.
15 : 갠트리 50 : 잉크젯 헤드 유닛
51 : 잉크젯 헤드 53 : 경화부
100 : 기판 처리 장치
Claims (7)
- 기판 상에 약액을 토출하기 위한 노즐이 구비되는 잉크젯 헤드; 및
상기 잉크젯 헤드를 사용하여 상기 약액을 토출하는 인쇄 공정의 수행 시에는 상기 기판 상에 토출되는 상기 약액을 경화시킬 수 있도록 상기 잉크젯 헤드의 노즐이 배치되는 노즐면 근방에 구비되고, 상기 인쇄 공정을 수행하지 않을 시에는 상기 잉크젯 헤드의 노즐면으로부터 격리되도록 구비되는 경화부를 포함하는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 유닛. - 제1 항에 있어서,
상기 노즐면이 서로 이웃하게 배치되는 구조를 갖도록 상기 잉크젯 헤드가 복수개로 구비될 때, 상기 경화부는 상기 노즐면 사이에 배치되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 유닛. - 제1 항에 있어서,
상기 경화부는 상기 기판을 향하여 자외선을 조사할 수 있는 자외선 램프로 이루어지는 것을 특징으로 하는 잉크젯 헤드 유닛. - 기판이 안착되는 스테이지; 및
상기 기판 상에 약액을 토출하도록 구비되는 잉크젯 헤드 유닛를 포함하고,
상기 잉크젯 헤드 유닛은 상기 기판 상에 약액을 토출하기 위한 노즐이 구비되는 잉크젯 헤드, 및 상기 잉크젯 헤드를 사용하여 상기 약액을 토출하는 인쇄 공정의 수행 시에는 상기 기판 상에 토출되는 상기 약액을 경화시킬 수 있도록 상기 잉크젯 헤드의 노즐이 배치되는 노즐면 근방에 구비되고, 상기 인쇄 공정을 수행하지 않을 시에는 상기 잉크젯 헤드의 노즐면으로부터 격리되도록 구비되는 경화부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제4 항에 있어서,
상기 노즐면이 서로 이웃하게 배치되는 구조를 갖도록 상기 잉크젯 헤드가 복수개로 구비될 때, 상기 경화부는 상기 노즐면 사이에 배치되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제4 항에 있어서,
상기 경화부는 상기 기판을 향하여 자외선을 조사할 수 있는 자외선 램프로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. - 제4 항에 있어서,
상기 잉크젯 헤드 유닛이 상기 스테이지 상부에 배치되게 상기 잉크젯 헤드 유닛을 지지하도록 구비되는 갠트리를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020180125680A KR102680436B1 (ko) | 2018-10-22 | 2018-10-22 | 잉크젯 헤드 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 방법 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
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| KR20200045099A true KR20200045099A (ko) | 2020-05-04 |
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Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020180125680A Active KR102680436B1 (ko) | 2018-10-22 | 2018-10-22 | 잉크젯 헤드 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102680436B1 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115958886A (zh) * | 2021-10-08 | 2023-04-14 | 细美事有限公司 | 印刷装置及其提供方法 |
| US12011936B2 (en) | 2021-12-30 | 2024-06-18 | Semes Co., Ltd. | Droplet discharging device and manufacturing method thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102677532B1 (ko) | 2023-12-18 | 2024-06-25 | 한국공학대학교산학협력단 | 피부 화상 방지를 위한 의료기기용 핸드피스 및 제어방법 |
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| KR102680436B1 (ko) | 2024-07-02 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
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| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
St.27 status event code: N-2-6-B10-B15-exm-PE0601 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PX0901 | Re-examination |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E12-rex-PX0901 |
|
| PX0701 | Decision of registration after re-examination |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PX0701 |
|
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-5-5-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-5-5-R10-R11-asn-PN2301 |
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| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |