KR20200049150A - 고함량의 오일을 포함하는 저점도의 수중유형 화장료 조성물 - Google Patents

고함량의 오일을 포함하는 저점도의 수중유형 화장료 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고함량의 오일을 저점도에서 안정화시킨 수중유형 화장료 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 유화제로 사용함으로써 특수 설비를 필요로 하는 공정 없이 일반적인 화장료 조성물의 제조 공정으로 고함량의 오일을 안정화시킨, 특히 저점도인 수중유형 화장료 조성물에 관한 것이다.

Description

고함량의 오일을 포함하는 저점도의 수중유형 화장료 조성물{Oil-in-water type cosmetic composition with a low viscosity comprising a high content of oil}
본 발명은 고함량의 오일을 저점도에서 안정화시킨 수중유형 화장료 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 유화제로 사용함으로써 특수 설비를 필요로 하는 공정 없이 일반적인 화장료 조성물의 제조 공정으로 고함량의 오일을 안정화시킨, 특히 저점도인 수중유형 화장료 조성물에 관한 것이다.
무 계면활성제 수중유형(oil-in-water, O/W) 제형의 화장료 조성물은 피부 보습, 피부 유연화 등의 효과를 제공하는 오일 자체의 사용감을 그대로 전달할 수 있고, 계면활성제로 인한 자극 우려를 방지할 수 있다는 점에서 많은 장점이 있다. 하지만 냉동 안전성 및 제형 안정도로 인해 스킨케어 제품에서 무 계면활성제 화장품은 개발이 많이 되지 않았으며, 적은 양의 오일을 유화하는 데 그쳐 있는 실정이다.
한편, 양친매성 고분자 등을 사용함으로써, 양친매성 고분자 계면활성제를 제외한 양이온계면활성제(4급 암모늄, 아민 염 계 등), 음이온계면활성제(카르복실레이트, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 계 등), 비이온계면활성제(PEG, 당류, 폴리글리세릴, 소르비탄 계 등) 등의 계면활성제를 포함하지 않고 다량의 오일을 포함하는 에멀젼을 안정화시킨 로션이나 크림과 같은 제형은 개발이 되었다. 그러나, 이러한 제형은 고점도의 제형이며, 스킨, 에센스와 같이 점도가 2000cps 이하의 저점도이면서 오일 함량이 높은 O/W 에멀젼 제형은 개발이 되지 않았을 뿐만 아니라, 고함량의 오일이 포함되어 있다 하더라도, 통상 10% 정도의 오일이 안정화되어 있을 뿐이다.
게다가, 현재까지 개발된 고함량의 오일을 저점도 제형에 안정화시킨 기술은 고압유화기 등의 특수 설비 및 공법을 필요로 하여 제조 공정이 복잡하고 비용이 많이 드는 문제점이 존재한다.
따라서, 제조 공정이 간단하면서 고함량의 오일을 저점도로 안정화시킨 수중유형 제형에 대한 필요성이 여전히 존재한다.
1. 한국공개특허 제2000-0023142호(2000년 4월 25일 공개) 2. 일본공개특허 제2014-205628호(2014년 10월 30일 공개)
이에 본 발명자들은 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 폴리머 유화제로서 사용함으로써 특수 설비를 필요로 하는 공정 없이 일반적인 수중유형 조성물의 제조 공정으로 고함량의 오일을 저점도에서 안정화시킬 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명의 목적은 특정 폴리아스파르트산을 폴리머 유화제로서 사용함으로써 고함량의 오일을 저점도에서 안정화시킨 수중유형의 화장료 조성물을 제공하는 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 폴리머 유화제로서 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 포함하여, 15~36중량%의 오일을 안정화시킨 저점도의 수중유형 화장료 조성물을 제공한다.
본 발명의 조성물은 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 폴리머 유화제로서 사용함으로써 고함량의 오일을 저점도의 제형으로 구현하는 것이 가능하며, 또한 별도의 특수 설비 또는 공정을 거치지 않고서도 종래의 수중유형 화장료 조성물의 일반적인 제조 공정으로 제조하는 것이 가능하다.
도 1은 실시예 1의 제조 직후에 45℃에서 4주간 보관한 후의 입자 상태를 현미경으로 관찰한 것이다.
도 2는 비교예 2 조성물의 제조 직후 상태를 나타낸 것이다.
도 3은 실시예 1과 비교예 6 조성물의 제조 후 익일의 상태를 나타낸 것이다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 고함량의 오일을 저점도에서 안정화시킨 수중유형 에멀젼 화장료 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 화장료 조성물은 고함량의 오일을 안정화시키기 위하여 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산(poly(aspartic acid grafted with octadecylamine; MW = 9000; Mw/Mn = 1.4(Mw: 중량평균분자량, Mn: 수평균분자량))을 폴리머 유화제로서 사용한다. 상기 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산의 양친매성 특성을 이용함으로써 고함량의 오일을 용이하게 안정화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 고압유화기 등의 특수 설비 및 공법을 거치지 않고서도 수중유형 조성물 제조의 일반적인 공정으로 저점도의 제형에 고함량의 오일을 안정화시키는 것이 가능하여 생산 공정이 단순하고, 제조 원가를 낮출 수 있다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 폴리머 유화제로서 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 조성물 총 중량에 대하여 1~3중량%, 바람직하게는 1.8~3중량%의 양으로 포함한다. 함량이 1중량% 미만이면 30중량% 이상의 고함량의 오일을 에멀전 상태로 안정화할 수 없으며, 한편 함량이 3중량% 초과이더라도 에멀전(유화입자)을 안정화하는 효과가 더 이상 증가하지 않을 뿐만 아니라, 조성물의 점도도 증가하게 되어 점도가 2000cps 이하인 저점도의 제형을 구현할 수 없게 된다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 고함량의 오일, 구체적으로는 조성물 총 중량에 대하여 15~36중량%, 바람직하게는 30~36중량%, 보다 구체적으로는 30~32중량% 양의 오일을 포함한다. 보통 고함량의 오일이 포함된 조성물이라 하더라도, 일반적으로 단지 약 10중량%의 오일을 포함하였으나, 본 발명의 조성물은 종래 조성물보다 훨씬 더 많은 양의 오일을 안정적으로 포함할 수 있다.
본 발명에서 안정화가능한 오일의 종류로는 수중유형 화장료 조성물의 제조 시 통상적으로 사용되는 것이라면 구체적인 종류가 특별히 제한되지는 않으나, 버터, 왁스 등과 같이 실온에서 고체상인 것은 포함하지 않는다.
본 발명의 조성물에 포함가능한 오일로는, 예를 들어 실리콘 오일, 에스테르계 오일, 하이드로카본계 오일 및 이들의 혼합물 등이 포함될 수 있다.
상기 실리콘 오일은 디메치콘, 사이클로메치콘, 폴리디메틸실록산, 메틸페닐폴리실록산, 메틸사이클로폴리실록산, 옥타메틸사이클로테트라실록산, 데카메틸사이클로펜타실록산, 도데카메틸사이클로헥사실록산, 테트라데카메틸헥사실록산 및 옥타메틸트리실록산으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 에스테르계 오일은 트리에틸헥사노인, 세틸에틸헥사노에이트, 세틸옥타노에이트, 세틸이소옥타노에이트, 옥틸도데실미리스테이트, 펜타에리스리틸테트라에틸헥사노에이트, 이소프로필팔미테이트, 이소프로필미리스테이트, 카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드, 부틸렌글라이콜디카프릴레이트/디카프레이트, 토코페롤아세테이트 및 디카프릴릭카보네이트로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
상기 하이드로카본계 오일은 파라핀, 세레신 및 마이크로크리스탈린왁스로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 점도가 2000cps 이하로 낮은 플루이드 타입임을 특징으로 한다. 일반적으로, 양친매성 원료를 포함하는 제형은 크림 형태의 고점도 제형이지만, 본원발명은 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산의 양친매성 특성을 이용하면서도 저점도의 제형을 구현하는 것이 가능하다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 수중유형 제조시 통상적으로 포함되는 색소, 향, 방부제, 점증제 등의 보조 성분을 적정량 함유할 수 있으며, 바람직하게는 조성물 총 중량에 대하여 0~20중량%의 양으로 함유할 수 있다.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 그 제형에 있어서 특별히 제한되지는 않으나, 저점도의 특성을 고려하면, 유연화장수, 영양화장수, 젤, 로션 등의 기초 화장료 조성물; 헤어토닉, 헤어에센스 또는 헤어트리트먼트 등의 양모제와 같은 모발용 화장료 조성물; 그 밖의 의약품 및 의약부외품 등으로 폭넓게 적용될 수 있다.
이하에서는 시험예 및 제조예를 들어 본 발명의 구성 및 효과를 보다 구체적으로 설명한다. 그러나 이들 시험예 및 제조예는 본 발명에 대한 이해를 돕기 위해 예시의 목적으로만 제공된 것일 뿐 본 발명의 범주 및 범위가 하기 예에 의해 제한되는 것은 아니다.
[참고예 1]
하기 표 1 및 2에 기재된 조성으로 하기의 제조방법에 따라서 실시예 및 비교예의 수중유형 에멀젼을 각각 제조하였다.
실시예
1 2 3 4 5



유상성분 스쿠알란 5 6 6 6 6
세틸 2-에틸 헥사노에이트 5 6 6 6 6
카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드 5 6 6 5 6
펜타에리스리틸 테트라에틸헥사노에이트 5 6 6 5 6
메틸 트리메티콘 5 6 6 5 6
PCA 디메티콘 5 6 6 5 6
유화제 폴리글리세릴-3 메틸글루코스 디스테아레이트 - - - - -
글리세릴 스테아레이트*PEG-100 스테아레이트 - - - - -



To 100 To 100 To 100 To 100 To 100
유화제 PAsp-g-C18 1 2 3 1 1.8
세테아릴 올리베이트*소르비탄 올리베이트 - - - - -
하이드로제네이티드 레시틴 - - - - -
기타 글리세린 4 4 4 4 4
프로판디올 6 6 6 6 6
카보머 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
아크릴레이트/C10-30 알킬 아크릴레이트 크로스폴리머 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
트로메타민 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18
* PAsp-g-C18: 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산
비교예
1 2 3 4 5 6 7 8 9



유상성분 스쿠알란 5 5 5 5 5 8 8 5 8
세틸 2-에틸 헥사노에이트 5 5 5 5 5 8 8 5 8
카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드 5 5 5 5 5 6 6 5 6
펜타에리스리틸 테트라에틸헥사노에이트 5 5 5 5 5 6 6 5 6
메틸 트리메티콘 5 5 5 5 5 6 6 5 6
PCA 디메티콘 5 5 5 5 5 6 6 5 6
유화제 폴리글리세릴-3 메틸글루코스 디스테아레이트 - 1 - - - - - - -
글리세릴 스테아레이트*PEG-100 스테아레이트 - - 1 - - - - - -



To 100 To 100 To 100 To 100 To 100 To 100 To 100 To 100 To 100
유화제 PAsp-g-C18 - - - - - 1 3 0.5 4
세테아릴 올리베이트*소르비탄 올리베이트 - - - 1 - - - - -
하이드로제네이티드 레시틴 - - - - 1 - - - -
기타 글리세린 4 4 4 4 4 4 4 4 4
프로판디올 6 6 6 6 6 6 6 6 6
카보머 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2 0.2
아크릴레이트/C10-30 알킬 아크릴레이트 크로스폴리머 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15 0.15
트로메타민 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18 0.18
* PAsp-g-C18: 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산
<제조방법> - 실시예 1 내지 5 및 비교예 1, 6 내지 9
1) 상기 표 1의 수상파트 원료를 상온에서 혼합하고 용해하여 수상파트를 제조한다.
2) 별도의 용기에서 상기 표 1의 유상파트 원료를 상온에서 혼합하고 용해하여 유상파트를 제조한다.
3) 상기 2) 단계의 유상파트를 상기 1) 단계의 수상파트에 첨가하고 호모믹서로 교반하여 혼합하여 화장료 조성물을 제조한다.
<제조방법> - 비교예 2 내지 5
1) 상기 표 1의 수상파트의 물과 유화제를 혼합하고 70℃에서 용해하여 수상파트를 제조한다.
2) 상기 표 1의 유상파트 원료를 혼합하고 70℃에서 용해하여 유상파트를 제조한다.
3) 상기 2) 단계의 유상파트를 상기 1) 단계의 수상파트에 첨가하고 호모믹서로 교반하여 혼합한다.
4) 상기 3)의 혼합물에 수상파트의 기타 원료를 넣고 호모믹서로 교반한 후 30℃로 냉각하여 화장료 조성물을 제조한다.
[시험예 1] 조성물의 점도 측정
상기 참고예 1에서 제조한 실시예 1 내지 5, 및 비교예 1 내지 9의 조성물에 대하여 브룩필드 점성도계(Brookfield Viscometer)를 사용하여, 64 spindle, 12 rpm, 2min의 조건으로 점도를 측정하였다.
측정 결과는 하기 표 3에 나타내었다.
실시예 비교예
1 2 3 4 5 1 2 3 4 5 6 7 8 9
점도
(cps)
1100 1400 1500 1100 1400 n.d n.d 6500 n.d n.d 1400 1900 n.d 1900
n.d: 측정불가
상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 유화제로서 본 발명에 따른 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산(Pasp-g-C18)을 포함하는 실시예 1 내지 5와, 비교예 6 내지 9는 점도가 2000cps 이하인 저점도 조성물로 제조된 반면, Pasp-g-C18을 포함하지 않고 기존에 널리 사용되어 오던 유화제를 포함하는 비교예 1 내지 5의 경우에는 고함량의 오일을 포함하는 조성물의 제조시, 실시예에 비하여 현저하게 높은 정도의 점도를 나타내거나, 제조 직후 분리되어 조성물의 점도를 측정할 수 없었다.
[시험예 2] 조성물의 경시안정도 측정
상기 참고예 1에서 제조한 실시예 1 내지 5, 및 비교예 1 내지 9의 조성물에 대하여 경시안정도를 관찰하였다.
구체적으로 조성물을 45℃ 챔버에 4주 동안 보관하면서 조성물의 유상파트와 수상파트의 분리 여부를 관찰하였다.
관찰 결과는 하기 표 4, 도 1 내지 3에 나타내었다.
실시예 비교예
1 2 3 4 5 1 2
경시안정도
(45℃, 4주)
안정 안정 안정 안정 안정 제조 직후 분리 제조 직후 분리
비교예
3 4 5 6 7 8 9
경시안정도
(45℃, 4주)
1일 후 분리 제조 직후 분리 제조 직후 분리 1일 후 분리 2일 후 분리 제조 직후 분리 2일 후 분리
상기 표 4 및 도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 조성물인 실시예 1 내지 5는 하이드로카본계 오일, 에스테르계 오일 및 실리콘 오일을 30중량% 이상의 고함량으로 포함하고 있음에도 2000cps 미만의 저점도에서 안정한 에멀젼을 형성하고 있음을 확인할 수 있다.반면, 유화제를 포함하지 않은 비교예 1은 제조 직후 분리가 일어났으며, 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산 대신에 기존에 널리 사용되어 오던 유화제를 포함한 비교예 2 내지 5는 제조 직후 바로 분리가 일어나거나 다음 날 분리되었다(도 2 참조). 도 2에는 비교예 2 조성물의 제조 직후 상태를 나타내었으나, 비교예 1, 3 내지 5의 조성물 또한 제조 직후 또는 익일에 유사한 분리 경향을 나타내었다.
또한, 본 발명에 따른 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 유화제로서 사용하더라도 오일량이 40%에 이르는 경우에는 낮은 점도로 인해 오일의 안정화가 이루어지지 못하여 제형의 분리가 일어나서 아래에 수상층이 보이며(비교예 6, 7 및 9; 도 3 참조), 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산의 함량이 적정량 미만인 경우에는 고함량의 오일이 에멀전 상태로 안정화되지 않아 제형의 분리가 일어난다는 것을 확인할 수 있다(비교예 8).

Claims (6)

  1. 폴리머 유화제로서 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산을 포함하여, 15~36중량%의 오일을 안정화시킨 저점도의 수중유형 화장료 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 오일은 조성물 총 중량에 대하여 30~36중량%의 양으로 포함됨을 특징으로 하는 수중유형 화장료 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 점도가 0cps 초과 2000cps 이하임을 특징으로 하는 수중유형 화장료 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산은 조성물 총 중량에 대하여 1~3중량%의 양으로 포함됨을 특징으로 하는 수중유형 화장료 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 옥타데실아민이 그래프트된 폴리아스파르트산은 조성물 총 중량에 대하여 1.8~3중량%의 양으로 포함됨을 특징으로 하는 수중유형 화장료 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 오일은 실리콘 오일, 에스테르계 오일 및 하이드로카본계 오일로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 수중유형 화장료 조성물.
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