KR20200055435A

KR20200055435A - 지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물

Info

Publication number: KR20200055435A
Application number: KR1020180139082A
Authority: KR
Inventors: 하승훈
Original assignee: 주식회사 케이씨텍
Priority date: 2018-11-13
Filing date: 2018-11-13
Publication date: 2020-05-21
Anticipated expiration: 2038-11-13
Also published as: KR102168970B1

Abstract

본 발명은 지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 지르코니아 나노 입자 분산액; 및 광학용 모노머;를 포함하고, 하기 수학식 1의 조건을 만족하는 것인, 경화성 수지 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름에 관한 것이다.

Description

지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물{DISPERSION OF ZIRCONIA NANOPARTICLES AND CURABLE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME}

본 발명은 지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.

광학적으로 투명한 고분자 재료는 낮은 비용과 양호한 가공성, 가시광 영역에서의 높은 투과율 때문에 광학적 코팅과 광전자 소재로 널리 사용되고 있다. 최근에는 고굴절의 투명한 소재가 광학 필터, 렌즈, reflector, optical waveguide, antireflection films, solar cell 및 light emitting diodes(LEDs)의 소재로 사용되고 있다. 그러나, 이러한 고분자는 굴절률(n)이 1.3~1.7으로 고분자 재료만을 사용하기 어렵기 때문에 고굴절률을 지니는 무기소재(n=1.5~2.7)를 고분자에 혼합하여 분산시키는 연구가 진행되고 있다.

고굴절 무기소재로 사용되는 물질은 TiO₂(n=2.5~2.7), ZrO₂(n=2.1~2.2), ZnO(n=2.0), SnO₂(n=2.0), SiO₂(n=1.5)와 같은 물질들이 일반적으로 사용되고 있다. 특히, TiO₂는 높은 굴절률을 가지며, 독성이 없고, 가격이 저렴하기 때문에 가장 보편적으로 사용되고 있는 고굴절 무기소재이다. 그러나, TiO₂는 필름으로 제조하는 경우에 노란색을 띠고 있으며, TiO₂의 함량이 증가할수록 분산 정도를 나타내는 아베수(Abbe number)가 감소하기 때문에 상업적으로 사용하기 제한적이라는 단점을 가지고 있다. 특히, TiO₂의 경우, 필름 제조시 황변 현상이 나타나고 이로 인해 디스플레이에 적용할 경우, 색감이 저하되고 시인성이 저하되는 문제가 있다. 또한, 다른 고굴절 무기소재 ZnO, SnO₂, SiO₂등은 굴절률이 현저히 떨어지고, 가격이 비싸다는 단점을 갖는다.

또한, 고굴절 무기소재를 포함한 고분자 복합체를 제조하기 위해서는 높은 함량의 고굴절 무기소재를 포함하는 것이 필요하다. 일반적으로 고굴절 무기물 졸은 수용액 상에서 고굴절을 지니는 무기물 전구체에 촉매를 첨가하여 교반을 통해 제조하고 있으며, 이러한 고굴절의 졸은 상이 불안정하고 불투명도가 발생할 뿐만 아니라 고함량의 무기물을 첨가하기에도 어려움이 있으며, 이로 인해 균일한 막을 제조하기에 어려움이 있다.

따라서, 투명한 고굴절 광학재료를 합성하기 위하여 고굴절 무기소재가 유기고분자에 효과적으로 분산된 유-무기 복합제의 제조 공정 개발에 대한 연구가 필요하다.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 가시광선 영역의 파장에서 투과율이 우수한 지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다.

또한, 상기 경화성 수지 조성물을 통해 제조되는 광학 필름을 제공하는 것이다.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 해당 분야 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물은, 지르코니아 나노 입자 분산액; 및 광학용 모노머;를 포함하고, 하기 수학식 1의 조건을 만족하는 것이다.

[수학식 1]

50 ≤ (n-1) / (n+1) x M + 25 N ≤ T

(상기 n은 상기 경화성 수지 조성물의 굴절률이고, 상기 M은 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량(중량%)이며, 상기 N은 상기 광학용 모노머의 굴절률이고, 상기 T는 상기 경화성 수지 조성물의 가시광선 투과율(%)이다.)

본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 상기 수학식 3의 조건을 만족함으로써, 가시광선 영역의 파장에서 투과율이 우수한 경화성 수지 조성물을 구현할 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 지르코니아 나노 입자 분산액에 포함되는 지르코니아 나노 입자는, 실란커플링제로 표면처리된 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 실란커플링제는, 에폭시실란, 메타크릴실란, 알킬실란, 페닐실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리클로로실란 클로로실란, 페닐클로로실란, 디클로로페닐실란, 디메톡시메틸페닐실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디에톡시디페닐실란, 메틸페닐디에톡시실란, 메틸페닐디클로로실란, 페녹시트리메틸실란, γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, (3-아미노프로필)트리에톡시실란, [3-(2-아미노에틸아미노)프로필]트리에톡시실란, 3-[2-(2-아미노에틸아미노) 에틸아미노]프로필트리메톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐메틸클로로실란, 트리메톡시비닐실란, 트리에톡시비닐실란, 디메틸디클로로실란, 메틸디클로로실란, 메틸트리클로로실란, 트리메틸클로로실란, 트리클로로실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리에톡시실란, α-글리시독시에틸트리메톡시실란, α-글리시독시에틸트리에톡시실란, β-글리시독시에틸트리메톡시실란, β-글리시독시에틸트리에톡시실란, α-글리시독시프로필트리메톡시실란, α-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리프로폭시실란, γ-글리시독시프로필트리부톡시실란, γ-글리시독시프로필트리페녹시실란, α-글리시독시부틸트리메톡시실란, α-글리시독시부틸트리에톡시실란, β-글리시독시부틸트리에톡시실란, γ-글리시독시부틸트리메톡시실란, γ-글리시독시부틸트리에톡시실란, δ-글리시독시부틸트리메톡시실란, δ-글리시독시부틸트리에톡시실란, 글리시독시메틸메틸디메톡시실란, 글리시독시메틸메틸디에톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, β-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, β-글리시독시에틸에틸디메톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, β-글리시독시프로필에틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디프로폭시실란, γ-글리시독시프로필메틸디부톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디페녹시실란, γ-글리시독시프로필 에틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필에틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필비닐디메톡시실란 및 γ-글리시독시프로필비닐디에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 지르코니아 나노 입자 분산액은, 분산제; 및 상기 분산제에 분산된 지르코니아 나노 입자;를 포함하고, 400 nm, 450 nm, 500 nm, 550 nm, 600 nm, 650 nm, 700 nm 및 750 nm에 해당하는 각각의 파장을 조사했을 때의 빛 투과율의 평균이 57 % 이상인 것일 수 있다. 더욱 효과적으로는 빛 투과율의 평균이 70 % 이상인 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량은 45 중량% 내지 70 중량%인 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 광학용 모노머 중량 대비 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 중량은 1 : 0.2 내지 0.6인 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물의 점도는 10,000 cP 이하인 것일 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 광학용 모노머는, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 디페닐아크릴레이트, 바이페닐아크릴레이트, 2-바이페닐릴아크릴레이트, 2-([1,1'-바이페닐]-2-릴옥시)에틸아크릴레이트, 페녹시벤질아크릴레이트, 3-페녹시벤질-3-(1-나프틸)아크릴레이트, 에틸(2E)-3-히드록시-2-(3-페녹시벤질)아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 바이페닐메타크릴레이트, 2-니트로페닐아크릴레이트, 4-니트로페닐아크릴레이트, 2-니트로페닐메타크릴레이트, 4-니트로페닐메타크릴레이트, 2-니트로벤질메타크릴레이트, 4-니트로벤질메타크릴레이트, 2-클로로페닐아크릴레이트, 4-클로로페닐아크릴레이트, 2-클로로페닐메타크릴레이트, 4-클로로페닐메타크릴레이트, 오쏘-페닐페놀에틸아크릴레이트, 비스페놀다이아크릴레이트 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물을 통해 제조되는 것이고, 90 % 이상의 가시광선 투과율을 가지는 것이다.

본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 하기 수학식 1의 조건을 만족함으로써, 가시광선 영역의 파장에서 투과율이 우수한 경화성 수지 조성물을 구현할 수 있다.

[수학식 1]

50 ≤ (n-1) / (n+1) x M + 25 N ≤ T

본 발명에 따른 광학 필름은 본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물을 통해 제조됨으로써, 90 % 이상의 가시광선 투과율을 구현할 수 있다.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 용어들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.

명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

이하, 본 발명의 지르코니아 나노 입자 분산액 및 이를 포함하는 경화성수지 조성물에 대하여 실시예 및 도면을 참조하여 구체적으로 설명하도록 한다. 그러나, 본 발명이 이러한 실시예 및 도면에 제한되는 것은 아니다.

[수학식 1]

50 ≤ (n-1) / (n+1) x M + 25 N ≤ T

일반적으로, 고형분의 함량이 증가함에 따라 분산액 상의 입자 함량이 증가하므로, 투과율이 감소한다. 반면, 본 발명의 상기 수학식 1에 따르면 지르코니아 고형분 함량이 증가함에 따라 경화성 수지 조성물의 가시광선 투과율이 증가하는 것을 알 수 있다. 이는 수지 조성물 상에 고형분 함량이 증가함에 따라 분산제 및 표면처리된 실란의 함량이 증가하여 최종적으로 모노머 대비 첨가제의 함량이 증가하고, 이에 따라 가시광선 투과율이 증가하는 것을 의미한다.

본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 (n-1) / (n+1) x M + 25 N 값이 50 이상인 조성물이다. 즉, 본 발명에 따른 경화성 수지 조성물은 가시광선 투과율이 50 % 이상인 것이다.

일 측면에 따르면, 상기 지르코니아 나노 입자 분산액에 포함되는 지르코니아 나노 입자는, 실란커플링제로 표면처리된 것일 수 있다. 지르코니아 나노 입자를 실란커플링제로 코팅함으로써, 투명한 고굴절의 지르코니아 나노 입자를 구현할 수 있다. ZrO₂는 기존의 TiO₂ 등에 비해 굴절율은 낮지만 색상이 없이 투명하고, 아베수(Abbe number)가 높은 장점을 가진다. 또한, ZrO₂는 높은 기계적 강도와 열적 안정성을 가지고, 높은 경도를 가지기 때문에 기존의 TiO₂등을 대신하여 고굴절 무기소재로 사용하기에 적합한 물질이 될 수 있다.

상기 지르코니아 나노 입자를 실란커플링제로 표면처리 할 수 있는 방법이라면 어떠한 방법이라도 제한 없이 사용할 수 있으며, 일 예로 실란커플링제를 유기용매와 함께 지르코니아 나노 입자와 혼합하여 복합체를 형성한 후 유기용매를 제거하는 함침법을 통해 표면처리를 수행하는 것이거나, 지르코니아 나노 입자 표면에 실란커플링제를 스프레이(spray)하는 방법을 통하여 직접 분사 후 혼합하여 표면처리를 수행하는 것일 수 있다.

이러한 높은 투과율을 가지는 지르코니아 나노 입자 분산액은, 비드밀을 이용하여 상기 지르코니아 나노 입자를 분산하는 과정에서 하기 수학식 2의 조건을 만족하는 것일 수 있다.

[수학식 2]

MF(g/s) x RS (cm/s) x BS (cm) / P ≤ 0.2

(상기 MF는 단위 시간당 질량속(mass flux)이고, 상기 RS는 비드밀 로터의 속도(Rotor Speed)이며, 상기 BS는 비드의 크기(Bead Size)이고, 상기 P는 패스 회수(pass number)이다.)

일 측면에 따르면, 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량은 45 중량% 내지 70 중량%인 것일 수 있다. 보다 바람직한 고형분 함량은 45 중량% 내지 60 중량% 것일 수 있다. 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량이 45 중량% 미만일 경우 분산액의 액상 굴절율이 감소하는 문제점이 발생할 수 있고, 70 중량%를 초과할 경우 분산액의 점도가 과하게 증가하여 분산성 및 필름 코팅액과의 상용성이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물의 굴절률은 1.60 이상인 것일 수 있다. 상기 경화성 수지 조성물의 굴절률이 1.60 미만일 경우, 경화성 수지 조성물이 높은 가시광선 투과율을 구현할 수 없는 문제점이 발생할 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 광학용 모노머 중량 대비 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 중량은 1 : 0.2 내지 0.6인 것일 수 있다. 상기 광학용 모노머 중량 대비 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 중량이 상기 범위를 벗어날 경우 경화성 수지 조성물이 높은 가시광선 투과율을 구현할 수 없는 문제점이 발생할 수 있다.

일 측면에 따르면, 상기 경화성 수지 조성물의 점도는 10,000 cP 이하인 것일 수 있다. 상기 경화성 수지 조성물의 점도가 10,000 cP를 초과할 경우 분산액의 분산성 및 상용성이 저하되며, 경화 후 필름의 표면의 물성이 고르지 못한 문제점이 발생할 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 광학 필름은, 본 발명의 일 실시예에 따른 경화성 수지 조성물을 통해 제조되는 것이고, 90 % 이상의 가시광선 투과율을 가지는 것이다. 본 발명은 상술한 바와 같이 빛 투과도가 우수한 경화성 수지 조성물을 포함하는 광학 제품을 제공한다. 일 예로, 상기 광학 제품은 유기매질에 대한 분산성이 우수하고 광학적으로 가시광 영역에서 투명하므로 고 굴절률을 갖는 광학 하드 코팅 필름 형태로 제공될 수 있으며, 90 % 이상의 가시광선 투과율을 가지는 것일 수 있다.

이하, 실시예 및 비교예에 의하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다.

단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

<실시예 1 : 메타아크릴레이트계 표면처리제를 이용한 아크릴레이트계 모노머 분산액 제조>

52 g의 테트라하이드로퓨란 (Tetrahydrofuran, 이하, ‘THF’이라고 함)와 5 g의 실란을 25 ℃의 온도 하에서 5 분간 혼합한다. 이후, 상기 용액에 40 g의 지르코니아를 넣고 혼합액을 형성하였다. 이후, 상기 혼합액에 0.05 mm 비드 200 g을 넣고 분산하여 지르코니아-THF 분산액을 얻었다. 이후, 지르코니아-THF 분산액과 모노머를 혼합하여 진공감압하에 용매를 제거하여 49 wt%의 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 1 : 고형분 53 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조>

지르코니아 함량을 53 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 2 : 고형분 56 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조>

지르코니아 함량을 56 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 3 : 고형분 58.5 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조>

지르코니아 함량을 58.5 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 4 : 고형분 55 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (NVP)>

지르코니아 함량을 55 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 5 : 고형분 60 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (NVP)>

지르코니아 함량을 60 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 6 : 고형분 65 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (NVP)>

지르코니아 함량을 65 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 7 : 고형분 49 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (OPPEA)>

지르코니아 함량을 49 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 8 : 고형분 54 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (OPPEA)>

지르코니아 함량을 54 wt%로 제조하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법을 사용하여, 지르코니아-모노머 분산액을 얻었다.

<비교예 9 : 고형분 56 wt% 지르코니아 모노머 분산액 제조 (OPP(EO)₂A)>

아래 표 1은 본 발명의 실시예, 비교예 1 내지 비교예 9의 모노머 굴절률, 고형분 함량, 모노머 대비 첨가제, 모노머 분산액 굴절률, (n-1) / (n+1) x M + 25N 값 및 투과율을 나타낸 표이다. 이 때, 상기 n은 상기 경화성 수지 조성물의 굴절률이고, 상기 M은 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량(중량%)이며, 상기 N은 상기 광학용 모노머의 굴절률이고, 상기 T는 상기 경화성 수지 조성물의 가시광선 투과율(%)이다.

	모노머 굴절률	고형분 함량 (wt%)	모노머 대비 첨가제	모노머분산액 굴절률	(n-1) / (n+1) x M + 25N	투과율 (%)
실시예1	1.600	49	1 : 0.22	1.67	52.29	57.39
비교예1		53	1 : 0.27	1.68	53.44	58.98
비교예2		56	1 : 0.32	1.69	54.36	61.03
비교예3		58.5	1 : 0.39	1.70	55.16	61.94
비교예4	1.512	55	1 : 0.32	1.60	50.49	55.49
비교예5		60	1 : 0.42	1.62	51.99	56.73
비교예6		65	1 : 0.59	1.64	53.55	59.65
비교예7	1.575	49	1: 0.23	1.65	51.39	51.85
비교예8	1.575	54	1: 0.30	1.67	52.92	54.00
비교예9	1.562	56	1 : 0.34	1.67	53.10	54.72

상기 표 1을 참조하면, 본 발명에 따라 (n-1) / (n+1) x M + 25N값을 50 이상으로 조절할 경우, 가시광선 영역의 파장에서 50 % 이상의 투과율을 가지는 경화성 수지 조성물을 구현할 수 있음을 알 수 있다.

또한, 수지 조성물 상에 고형분 함량이 증가함에 따라 분산제 및 표면처리된 실란의 함량이 증가하여 최종적으로 모노머 대비 첨가제의 함량이 증가하고, 이에 따라 가시광선 투과율이 증가하는 것을 알 수 있다.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다. 그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.

Claims

지르코니아 나노 입자 분산액; 및
광학용 모노머;를 포함하고,
하기 수학식 1의 조건을 만족하는 것인,
경화성 수지 조성물.
[수학식 1]
50 ≤ (n-1) / (n+1) x M + 25 N ≤ T
(상기 n은 상기 경화성 수지 조성물의 굴절률이고, 상기 M은 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량(중량%)이며, 상기 N은 상기 광학용 모노머의 굴절률이고, 상기 T는 상기 경화성 수지 조성물의 가시광선 투과율(%)이다.)
제1항에 있어서,
상기 지르코니아 나노 입자 분산액에 포함되는 지르코니아 나노 입자는, 실란커플링제로 표면처리된 것인,
경화성 수지 조성물.
제2항에 있어서,
일 측면에 따르면, 상기 실란커플링제는, 에폭시실란, 메타크릴실란, 알킬실란, 페닐실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리클로로실란 클로로실란, 페닐클로로실란, 디클로로페닐실란, 디메톡시메틸페닐실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디에톡시디페닐실란, 메틸페닐디에톡시실란, 메틸페닐디클로로실란, 페녹시트리메틸실란, γ-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, (3-아미노프로필)트리에톡시실란, [3-(2-아미노에틸아미노)프로필]트리에톡시실란, 3-[2-(2-아미노에틸아미노) 에틸아미노]프로필트리메톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐메틸클로로실란, 트리메톡시비닐실란, 트리에톡시비닐실란, 디메틸디클로로실란, 메틸디클로로실란, 메틸트리클로로실란, 트리메틸클로로실란, 트리클로로실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리에톡시실란, α-글리시독시에틸트리메톡시실란, α-글리시독시에틸트리에톡시실란, β-글리시독시에틸트리메톡시실란, β-글리시독시에틸트리에톡시실란, α-글리시독시프로필트리메톡시실란, α-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리프로폭시실란, γ-글리시독시프로필트리부톡시실란, γ-글리시독시프로필트리페녹시실란, α-글리시독시부틸트리메톡시실란, α-글리시독시부틸트리에톡시실란, β-글리시독시부틸트리에톡시실란, γ-글리시독시부틸트리메톡시실란, γ-글리시독시부틸트리에톡시실란, δ-글리시독시부틸트리메톡시실란, δ-글리시독시부틸트리에톡시실란, 글리시독시메틸메틸디메톡시실란, 글리시독시메틸메틸디에톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, β-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, β-글리시독시에틸에틸디메톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, β-글리시독시프로필에틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디프로폭시실란, γ-글리시독시프로필메틸디부톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디페녹시실란, γ-글리시독시프로필 에틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필에틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필비닐디메톡시실란 및 γ-글리시독시프로필비닐디에톡시실란으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 지르코니아 나노 입자 분산액은,
분산제; 및
상기 분산제에 분산된 지르코니아 나노 입자;를 포함하고,
400 nm, 450 nm, 500 nm, 550 nm, 600 nm, 650 nm, 700 nm 및 750 nm에 해당하는 각각의 파장을 조사했을 때의 빛 투과율의 평균이 57 % 이상인 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 고형분 함량은 45 중량% 내지 70 중량%인 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 경화성 수지 조성물의 굴절률은 1.60 이상인 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 광학용 모노머 중량 대비 상기 지르코니아 나노 입자 분산액의 중량은 1 : 0.2 내지 0.6인 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 경화성 수지 조성물의 점도는 10,000 cP 이하인 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 광학용 모노머는,
벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 디페닐아크릴레이트, 바이페닐아크릴레이트, 2-바이페닐릴아크릴레이트, 2-([1,1'-바이페닐]-2-릴옥시)에틸아크릴레이트, 페녹시벤질아크릴레이트, 3-페녹시벤질-3-(1-나프틸)아크릴레이트, 에틸(2E)-3-히드록시-2-(3-페녹시벤질)아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 바이페닐메타크릴레이트, 2-니트로페닐아크릴레이트, 4-니트로페닐아크릴레이트, 2-니트로페닐메타크릴레이트, 4-니트로페닐메타크릴레이트, 2-니트로벤질메타크릴레이트, 4-니트로벤질메타크릴레이트, 2-클로로페닐아크릴레이트, 4-클로로페닐아크릴레이트, 2-클로로페닐메타크릴레이트, 4-클로로페닐메타크릴레이트, 오쏘-페닐페놀에틸아크릴레이트, 비스페놀다이아크릴레이트 및 N-비닐피롤리돈으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인,
경화성 수지 조성물.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 경화성 수지 조성물을 포함하고,
90 % 이상의 가시광선 투과율을 가지는 것인,
광학 필름.