KR20200076636A - 석영 유리 도가니 - Google Patents
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Abstract
석영 유리 도가니(1)는, 기포를 함유하는 합성 석영 용융 유리로 이루어지고, 석영 유리 도가니(1)의 내면을 구성하는 실링층(11)과, 기포를 함유하지 않는 합성 석영 용융 유리로 이루어지고, 실링층(11)의 외측에 형성된 합성 투명층(12)과, 기포를 함유하지 않는 천연 석영 용융 유리로 이루어지고, 합성 투명층(12)의 외측에 형성된 천연 투명층(13)과, 기포를 함유하는 천연 석영 용융 유리로 이루어지고, 천연 투명층(13)의 외측에 형성된 천연 기포층(14)을 구비하고, 실링층(11)의 기포 함유율은 합성 투명층(12)보다 높다.
Description
도 2는 도 1의 석영 유리 도가니의 측벽부의 일부(E 부분)를 확대하여 나타낸 개략 단면도이다.
도 3은 석영 유리 도가니의 제조 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 4(a)∼(d)는 석영 유리층의 형성 과정을 설명하기 위한 도면이다.
| 도가니 샘플 |
도가니 구조 | 도가니 변형 | 결정 수율 |
| A1 | 3층 도가니(합성 투명층+천연 투명층+천연 기포층) | 작음 | 60% 이하 |
| A2 | 3층 도가니(실링층+합성 투명층+천연 기포층) | 중간 | 70% 이하 |
| A3 | 4층 도가니(실링층+합성 투명층+천연 투명층+천연 기포층) | 작음 | 80% 이상 |
| 도가니 샘플 |
실링층 두께 | 결정 수율 |
| B1 | 0.05 mm | 65% 이하 |
| B2 | 0.1 mm | 80% 이상 |
| B3 | 0.5 mm | 80% 이상 |
| B4 | 2.0 mm | 80% 이상 |
| B5 | 2.5 mm | 70% 이하 |
| 도가니 샘플 |
실링층의 기포 조건 | 결정 수율 | 핀홀 발생률 |
| C1 | 기포 함유율: 0.1∼5.0 vol%, 기포 수 밀도: 15∼300 개/cm3, 평균 기포 지름: 0.2∼100 μm |
80% 이상 | 0.1% 이하 |
| C2 | 기포 함유율: 0.1 vol% 미만, 기포 수 밀도: 15 개/cm3미만, 평균 기포 지름: 0.2 μm 미만 |
70% 이하 | 0.1% 이하 |
| C3 | 기포 함유율: 5.0 vol% 초과, 기포 수 밀도: 300 개/cm3 초과, 평균 기포 지름: 100 μm 초과 |
80% 이상 | 3% 이상 |
| 도가니 샘플 |
도가니 구조 | 도가니 변형 | 결정수율 |
| D1 | 4층 도가니(실링층+합성 투명층+천연 투명층+천연 기포층) | 작음 | 80% 이상 |
| D2 | 5층 도가니(실링층+합성 투명층+천연 투명층+천연 기포층+결정 경화층) | 매우 작음 | 85% 이상 |
| 도가니 샘플 |
코너부 최대 두께 비율 |
합성 투명층 의 두께 |
천연 투명층의 노출 | 변형 & 스웰링 |
결정 수율 |
| E1 | 0.5 | 측벽부, 바닥부>코너부 | 있음 | 있음 | 60% 이하 |
| E2 | 0.5 | 측벽부, 바닥부<코너부 | 없음 | 있음 | 70% 이하 |
| E3 | 1 | 측벽부, 바닥부>코너부 | 있음 | 있음 | 60% 이하 |
| E4 | 1 | 측벽부, 바닥부<코너부 | 없음 | 있음 | 70% 이하 |
| E5 | 1.1 | 측벽부, 바닥부>코너부 | 있음 | 없음 | 70% 이하 |
| E6 | 1.1 | 측벽부, 바닥부<코너부 | 없음 | 없음 | 80% 이상 |
| E7 | 1.5 | 측벽부, 바닥부>코너부 | 있음 | 없음 | 70% 이하 |
| E8 | 1.5 | 측벽부, 바닥부<코너부 | 없음 | 없음 | 80% 이상 |
1a 측벽부
1b 바닥부
1c 코너부
11 실링층
12 합성 투명층
13 천연 투명층
14 천연 기포층
15 결정 경화층
20 원료 석영 가루의 퇴적층
21 결정화 촉진제가 첨가된 천연 석영 가루
22 천연 석영 가루(통상의 천연 석영 가루)
23 합성 석영 가루
30 몰드
30i 몰드의 내면
31 아크 전극
32 통기 홀
Claims (8)
- 실리콘 단결정 인상용 석영 유리 도가니로서,
기포를 함유하는 합성 석영 용융 유리로 이루어지고, 상기 석영 유리 도가니의 내면을 구성하는 실링층과,
기포를 함유하지 않는 합성 석영 용융 유리로 이루어지고, 상기 실링층의 외측에 형성된 합성 투명층과,
기포를 함유하지 않는 천연 석영 용융 유리로 이루어지고, 상기 합성 투명층의 외측에 형성된 천연 투명층과,
다수의 기포를 함유하는 천연 석영 용융 유리로 이루어지고, 상기 천연 투명층의 외측에 형성된 천연 기포층을 구비하고,
상기 실링층의 기포 함유율은 상기 합성 투명층의 기포 함유율보다 높은 것을 특징으로 하는 석영 유리 도가니. - 청구항 1에 있어서,
상기 실링층의 두께는 0.1 mm 이상 2.0 mm 이하인, 석영 유리 도가니. - 청구항 1 또는 2에 있어서,
상기 실링층의 기포 함유율은 0.1 vol% 이상 5.0 vol% 이하인, 석영 유리 도가니. - 청구항 3에 있어서,
상기 실링층의 기포 수 밀도는 15 개/cm3 이상 300 개/cm3 이하인, 석영 유리 도가니. - 청구항 3 또는 4에 있어서,
상기 실링층의 평균 기포 지름은 0.2 μm 이상 100 μm 이하인, 석영 유리 도가니. - 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 실링층의 기포 함유율은 상기 천연 기포층의 기포 함유율보다 낮은, 석영 유리 도가니. - 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
다수의 기포를 함유하는 천연 석영 용융 유리로 이루어지고, 상기 천연 기포층의 외측에 형성된 결정 경화층을 더 구비하고,
상기 결정 경화층에 포함되는 알칼리 금속, 알칼리 토류 금속 또는 토류 금속의 원소의 농도는 상기 천연 기포층보다 높은, 석영 유리 도가니. - 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
원통형상의 측벽부와, 만곡된 바닥부와, 상기 측벽부와 상기 바닥부 사이에 위치하고 상기 바닥부보다 큰 곡률을 갖는 코너부를 가지며,
상기 코너부의 두께는 상기 측벽부 및 상기 바닥부보다 두껍고,
상기 코너부의 상기 합성 투명층의 두께는 상기 측벽부 및 상기 바닥부의 상기 합성 투명층보다 두꺼운, 석영 유리 도가니.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018237641A JP7024700B2 (ja) | 2018-12-19 | 2018-12-19 | 石英ガラスルツボ |
| JPJP-P-2018-237641 | 2018-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200076636A true KR20200076636A (ko) | 2020-06-29 |
| KR102342039B1 KR102342039B1 (ko) | 2021-12-22 |
Family
ID=71140984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020190169722A Active KR102342039B1 (ko) | 2018-12-19 | 2019-12-18 | 석영 유리 도가니 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7024700B2 (ko) |
| KR (1) | KR102342039B1 (ko) |
| CN (1) | CN111334852B (ko) |
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- 2018-12-19 JP JP2018237641A patent/JP7024700B2/ja active Active
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2019
- 2019-12-18 KR KR1020190169722A patent/KR102342039B1/ko active Active
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| Date | Code | Title | Description |
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| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
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St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
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| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
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| P13-X000 | Application amended |
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| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| U11 | Full renewal or maintenance fee paid |
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