KR20200082249A - 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리 및 그 제조 방법 - Google Patents
진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
도 2는 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 정면 사시도이다.
도 3은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 부분 단면 사시도이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 정면 분해 사시도이다.
도 5는 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 배면 사시도이다.
도 6 및 도 7은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
도 9는 일 실시 예에 따른 전자석 형성 단계를 나타내는 순서도이다.
도 10은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 사시도이다.
도 11은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리에 열 전도 물질이 충진되기 전 상태를 나타내는 정면도이다.
도 12는 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 일부 부품을 나타내는 분해 사시도이다.
도 13은 일 실시 예에 따른 전자석 어셈블리의 제조 방법을 나타내는 순서도이다.
| 시간(min) | 0 | 1 | 5 | 10 | 30 | 60 | 90 | 120 | ... |
| 대기 상태(V) | 38.0 | 46.2 | 49.6 | 50.2 | 50.5 | 50.6 | 50.6 | 50.6 | ... |
| 진공 상태(V) | 38.0 | 47.0 | 52.0 | 52.2 | 52.3 | 52.4 | 52.4 | 52.4 | ... |
Claims (17)
- 자기장을 생성하기 위한 전자석;
적어도 일측으로 개구된 개구부를 갖고, 상기 전자석을 수용하기 위한 수용 공간을 구비하는 수용 박스; 및
상기 전자석이 상기 수용 공간에 수용된 상태에서, 상기 개구부를 통하여 상기 수용 공간에 충진되어 고화됨으로써, 상기 전자석의 적어도 일부가 진공 분위기로 노출되는 것을 방지하기 위한 열 전도 매개체를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리.
- 제 1 항에 있어서,
상기 전자석은,
보빈; 및
상기 보빈에 권취된 코일을 포함하고,
상기 코일 중 상기 보빈에 권취된 부분은 상기 열 전도 매개체에 의해, 진공 분위기로 노출되지 않는 것을 특징으로 하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리.
- 제 2 항에 있어서,
상기 전자석 어셈블리는, 상기 열 전도 매개체와 함께, 상기 코일이 진공 분위기로 노출되는 것을 방지하면서, (i) 상기 코일 중 상기 보빈에 권취된 부분으로부터 연장되는 코일 연장부 및 (ii) 외부 전원으로부터 상기 코일로 전원을 인가하는 파워 라인이 서로 연결되도록, 상기 파워 라인의 적어도 일부를 커버하는 덕트를 더 포함하고,
상기 덕트의 양 단부 중 적어도 상기 전자석 측의 단부는 상기 열 전도 매개체에 의해, 진공 분위기로 노출되지 않는 것을 특징으로 하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리.
- 제 2 항에 있어서,
상기 보빈은,
외측에 상기 코일이 권취되는 보빈 바디를 포함하고,
상기 열 전도 매개체가 고화된 상태에서, 상기 보빈 바디의 내부 공간으로 영구 자석이 삽입 또는 분리 가능한 것을 특징으로 하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리.
- 제 2 항에 있어서,
상기 수용 박스는,
냉매 유입 라인 및 냉매 토출 라인에 각각 연통되어 냉매를 안내하는 냉매 유로를 포함하는 냉각 플레이트를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리.
- 밀폐된 내부 공간을 구비하는 진공실과, 상기 진공실의 진공도를 유지하기 위한 진공 펌프와, 상기 진공실의 내부에 배치되는 전자석 어셈블리를 포함하고,
상기 전자석 어셈블리는,
상기 진공실 내부에 위치하는 대상체에 자기장을 제공하기 위한 전자석;
일측으로 상기 진공실 내부를 향하여 개구된 개구부를 갖고, 상기 전자석을 수용하기 위한 수용 공간을 구비하는 수용 박스; 및
상기 전자석이 상기 수용 공간에 수용된 상태에서, 상기 개구부를 통하여 상기 수용 공간에 충진되어 고화됨으로써, 상기 전자석의 적어도 일부가 진공 분위기로 노출되는 것을 방지하기 위한 열 전도 매개체를 포함하는 진공 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 전자석은,
보빈; 및
상기 보빈에 권취된 코일을 포함하고,
상기 코일 중 상기 보빈에 권취된 부분은 상기 열 전도 매개체에 의해, 상기 진공실 내부로 노출되지 않는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
- 제 7 항에 있어서,
상기 전자석 어셈블리는, 상기 열 전도 매개체와 함께, 상기 코일이 진공 분위기로 노출되는 것을 방지하면서, (i) 상기 코일 중 상기 보빈에 권취된 부분으로부터 연장되는 코일 연장부 및 (ii) 외부 전원으로부터 상기 코일로 전원을 인가하는 파워 라인이 서로 연결되도록, 상기 파워 라인의 적어도 일부를 커버하는 덕트를 더 포함하고,
상기 덕트의 양 단부 중 적어도 상기 전자석 측의 단부는 상기 열 전도 매개체에 의해, 상기 진공실 내부로 노출되지 않는 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,
상기 진공 처리 장치는, 진공 성막 형성 장치인 것을 특징으로 하는 진공 처리 장치.
- 전자석을 형성하는 단계;
지그에 전자석을 수용하는 수용 공간을 구비한 수용 박스를 삽입함으로써, 일측으로 개구된 개구부를 마련하는 단계;
상온 및 상압에서 고체 상태를 갖는 열 전도 물질을 가열시켜 액체 상태로 변화시키는 단계;
상기 개구부를 통하여 상기 수용 공간으로 상기 액체 상태의 열 전도 물질을 충진시키는 단계;
상기 액체 상태의 열 전도 물질이 고체 상태의 열 전도 매개체가 되도록 냉각시키는 단계; 및
상기 수용 박스로부터 상기 지그를 분리시키는 단계를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서,
상기 지그는,
수용 박스가 안착되는 공간을 제공하는 안착부; 및
상기 안착부로부터 돌출 형성되며 전자석의 보빈 바디의 내부 공간으로 상기 열 전도 물질이 유입되는 것을 방지하기 위한 돌기를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 제 11 항에 있어서,
상기 보빈은, 외측에 코일이 권취되는 보빈 바디를 포함하고,
상기 제조 방법은, 상기 보빈 바디의 내측에 형성된 공간의 내부에 위치하도록 영구 자석을 설치하는 단계를 더 포함하는 전자석 어셈블리의 제조방법
- 제 10 항에 있어서,
상기 전자석을 형성하는 단계는,
보빈에 코일을 권취하는 단계; 및
권취된 코일 사이의 간극을 줄이기 위하여, 권취된 코일의 인접한 피복재들을 상호 융착시키는 단계를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 제 13 항에 있어서,
상기 융착시키는 단계는, 권취된 코일을 가열시킨 상태에서, 권취된 코일에 수직한 방향으로 가압하는 단계를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서,
상기 전자석을 형성하는 단계는, 보빈에 코일을 권취하는 단계를 포함하고,
상기 제조 방법은, 상기 액체 상태의 열 전도 물질이 권취된 코일 사이의 간극에 스며들도록 상기 수용 박스를 진동시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서,
상기 전자석을 형성하는 단계는, 보빈에 코일을 권취하는 단계를 포함하고,
상기 제조 방법은, 상기 열 전도 매개체와 함께, 상기 코일이 진공 분위기로 노출되는 것을 방지하면서, (i) 상기 코일 중 상기 보빈에 권취된 부분으로부터 연장되는 코일 연장부 및 (ii) 외부 전원으로부터 상기 코일로 전원을 인가하는 파워 라인이 서로 연결되도록, 상기 파워 라인의 적어도 일부를 커버하는 덕트를 설치하는 단계를 더 포함하고,
상기 충진시키는 단계는, 상기 덕트의 양 단부 중 적어도 상기 전자석 측의 단부가 상기 열 전도 매개체에 의해 진공 분위기로 노출되지 않도록, 상기 전자석 측의 단부를 상기 수용 공간 내에 위치시킨 상태에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
- 전자석을 형성하는 단계;
수용 공간과, 상기 수용 공간에 연통되고 적어도 일측으로 개구된 개구부를 갖는 수용 박스에 상기 전자석을 삽입하는 단계;
상온 및 상압에서 고체 상태를 갖는 열 전도 물질을 가열시켜 액체 상태로 변화시키는 단계;
상기 개구부를 메꾸어 주도록, 상기 액체 상태의 열 전도 물질을 상기 수용 공간으로 충진시키는 단계; 및
상기 액체 상태의 열 전도 물질이 고체 상태의 열 전도 매개체가 되도록 냉각시키는 단계를 포함하는 진공 분위기에서 사용되는 전자석 어셈블리의 제조 방법.
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6088410A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-18 | Sanmei Denki Kk | 電磁石のコイルアセンブリ及びその製造方法 |
| JPH11172431A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sony Corp | マグネトロンスパッタ成膜方法およびその装置 |
| KR101891480B1 (ko) * | 2017-10-12 | 2018-09-28 | 한국기초과학지원연구원 | 보빈 및 이를 포함하는 코일어셈블리 및 전자석장치. |
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|---|---|---|---|---|
| JPS50358A (ko) * | 1973-05-04 | 1975-01-06 | ||
| US5231336A (en) * | 1992-01-03 | 1993-07-27 | Harman International Industries, Inc. | Actuator for active vibration control |
| JP2014207311A (ja) | 2013-04-12 | 2014-10-30 | 株式会社不二工機 | 電磁コイル装置 |
| CN110997974A (zh) | 2017-08-21 | 2020-04-10 | 堺显示器制品株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及有机el显示装置的制造方法 |
-
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- 2018-12-28 KR KR1020180172659A patent/KR102457741B1/ko active Active
-
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- 2019-12-24 JP JP2019232888A patent/JP7483371B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6088410A (ja) * | 1983-10-19 | 1985-05-18 | Sanmei Denki Kk | 電磁石のコイルアセンブリ及びその製造方法 |
| JPH11172431A (ja) * | 1997-12-10 | 1999-06-29 | Sony Corp | マグネトロンスパッタ成膜方法およびその装置 |
| KR101891480B1 (ko) * | 2017-10-12 | 2018-09-28 | 한국기초과학지원연구원 | 보빈 및 이를 포함하는 코일어셈블리 및 전자석장치. |
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