KR20220119027A - 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법에 관한 것으로, 상기 방법은,
- 제1 단부 및 제2 단부를 정의하는 에어로졸 발생 물품의 구성요소를 제공하는 단계로서, 상기 구성요소는
o 에어로졸 형성 기재;
o 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하는 서셉터를 포함하는, 단계;
- 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광 카메라를 제공하는 단계;
- 전자기 방사선에 의해 구성요소를 조명하는 단계;
- 제1 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계;
- 제1 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계로서, 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계; 및
제1 이미지에서 서셉터의 위치를 검출하는 단계를 포함하는, 방법.

Description

에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법 및 시스템

본 발명은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다. 특히, 방법 및 시스템은 에어로졸 발생 물품의 구성요소에 포함된 서셉터의 위치를 검출하도록 적응된다.

에어로졸 형성 기재 및 유도 가열 장치를 포함하는 에어로졸 발생 장치가 공지되어 있다. 유도 가열 장치는, 서셉터에 열 발생 와전류와 히스테리시스 손실을 유도하는 교번 전자기장을 생성하는 유도원을 포함한다. 서셉터는 에어로졸 형성 기재, 예를 들어 담배 기재와 열적으로 근접한다. 가열된 서셉터는 이어서, 에어로졸을 형성할 수 있는 휘발성 화합물을 방출할 수 있는 재료를 포함하는 에어로졸 형성 기재를 가열한다.

일부 구성요소에서, 서셉터는 에어로졸 형성 기재를 또한 포함하는 에어로졸 발생 물품 내부에 위치된다.

제조 공차로 인해, 구성요소 내의 서셉터가 원하는 위치에 있지 않거나, 적절한 배향을 갖지 않는 것이 발생할 수 있다.

서셉터가 잘못된 위치 또는 배향으로 유지되는 경우, 구성요소가 에어로졸 발생 장치에 사용될 때 에어로졸의 전달 측면에서 제품 적합성이 부족할 수 있다.

따라서, 이러한 결함을 가능한 한 빨리 검출하여, 규정에 맞는 구성요소만 생산하고 불필요한 비용과 낭비를 방지하는 것을 보장하는 것이 바람직하다.

일 양태에서, 본 발명은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법에 관한 것이다. 방법은 제1 및 제2 단부를 정의하는 에어로졸 발생 물품의 구성요소를 제공하는 단계를 포함하고, 구성요소는 에어로졸 형성 기재; 및 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하는 서셉터를 포함한다. 방법은 바람직하게는 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광 카메라를 제공하는 단계를 더 포함한다. 방법은 전자기 방사선에 의해 구성요소를 조명하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 제1 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 굴절 또는 반사된 전자기 방사선을 검출하는 단계를 포함할 수 있다. 방법은 제1 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계를 포함할 수 있으며, 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함한다. 또한, 방법은 제1 이미지에서 서셉터의 위치를 검출하는 단계를 포함한다.

다른 양태에서, 본 발명은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템에 관한 것으로, 구성요소는: 길이방향 축; 제1 단부 및 제2 단부; 에어로졸 형성 기재; 및 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하는 서셉터를 포함한다. 시스템은 또한 구성요소를 조명하도록 적응된 제1 전자기 방사원을 포함한다. 시스템은 또한 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광 카메라를 포함할 수 있고, 제1 편광 카메라는 제1 시야를 정의하고, 제1 편광 카메라는 구성요소의 제1 단부가 제1 시야 내에 있도록 배열되고, 제1 편광 카메라는 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하도록 적응되고, 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 카메라에 의해 검출된 전자기 방사선의 편광 정보를 포함한다. 시스템은 또한 제1 이미지를 처리하고 제1 이미지에서 서셉터의 위치를 검출하도록 적응된 제어 유닛을 포함할 수 있다.

서셉터를 포함하는 구성요소인 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 단부의 이미지를 편광 카메라에 의해 촬영하면, 임의의 다른 카메라로 촬영한 이미지와 비교했을 때, 이미지에서 서셉터의 위치의 가시성이 향상되는 것으로 밝혀졌다. 에어로졸 발생 물품의 구성요소를 제조하는 동안 서셉터의 정확한 위치를 확인하면, 결함이 있는 구성요소를 가능한 빨리 제거하여 재료 낭비를 줄일 수 있다. 편광 카메라는 생산 중에 이미지를 처리할 수 있을 정도로 충분히 빠르다.

본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "에어로졸 발생 물품"은 가열될 때, 에어로졸을 형성할 수 있는 휘발성 화합물을 방출하는 에어로졸 형성 기재를 포함한 물품을 지칭한다. 바람직하게는, 에어로졸 발생 물품은 가열식 에어로졸 발생 물품이다. 가열식 에어로졸 발생 물품은 에어로졸을 형성할 수 있는 휘발성 화합물을 방출하기 위해 연소되기보다는 가열되도록 의도된 에어로졸 형성 기재를 포함하는 에어로졸 발생 물품이다. 에어로졸 발생 물품은 소모품, 특히 1회 사용 후에 폐기되는 소모품일 수 있다. 에어로졸 발생 물품은 종래의 궐련을 닮은 물품, 특히 담배 물품일 수 있다.

본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "에어로졸 형성 기재"는 에어로졸을 발생시키기 위해 가열 시 휘발성 화합물을 방출할 수 있는 에어로졸 형성 재료를 포함하거나 그로 형성된 기재를 나타낸다. 에어로졸 형성 기재는 담배 재료를 포함할 수 있거나, 비-담배 재료 또는 담배 재료 및 비-담배 재료의 조합을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성 기재는 바람직하게는, 하나 이상의 향미를 포함하는, 니코틴 함침된 셀룰로스 재료일 수 있다. 유리하게는, 에어로졸 형성 기재는 바람직하게는 하나 이상의 에어로졸 형성제를 포함하는 담배 재료, 바람직하게는 균질화 담배 재료를 포함한다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "균질화 담배 재료"는 미립자 담배를 응집시켜서 형성된 물질을 나타낸다.

바람직하게는, 에어로졸 형성 기재는 가열 시 에어로졸 형성 기재로부터 방출되는 휘발성 담배 향미 화합물을 포함한다. 에어로졸 형성 기재는 블렌드 담배 각초를 포함하거나 이로 구성될 수 있고, 또는 균질화 담배 재료를 포함할 수 있다. 균질화 담배 재료는 미립자 담배를 응집하여 형성될 수 있다. 에어로졸 형성 기재는 비-담배 함유 재료, 예를 들어 담배가 아닌 균질화된 식물계 재료를 더 포함할 수 있다.

바람직하게는, 에어로졸 형성 기재는 담배 재료, 섬유, 결합제 및 에어로졸 형성제를 포함하는 담배 시트, 바람직하게는 크림핑된 담배 시트이다. 바람직하게는, 담배 시트는 캐스트 리프이다. 캐스트 리프는 담배 입자, 섬유 입자, 에어로졸 형성제, 결합제 및, 예를 들어 향미제 또한 포함하는 슬러리로부터 형성된 재구성 담배의 한 형태이다.

담배 입자는 원하는 시트 두께 및 캐스팅 갭(casting gap)에 따라, 30 μm 내지 250 μm 정도, 바람직하게는 30 μm 내지 80 μm 또는 100 μm 내지 250 μm 정도의 입자를 갖는 담배 가루 형태일 수 있으며, 여기서 캐스팅 갭은 통상적으로 시트의 두께를 정의한다. 담배 입자의 크기는 체적 분포에서 Dv95 크기를 지칭한다.

섬유 입자는, 담배 줄기 재료, 대, 또는 기타 담배 식물 재료, 및 리그닌 함량이 적은 목질 섬유와 같은 기타 셀룰로스계 섬유를 포함할 수 있다. 섬유 입자는 캐스트 리프에 대한 충분한 인장 강도 대 낮은 함유율, 예를 들어 약 2% 내지 15%인 함유율을 얻고자 하는 욕구에 기초하여 선택될 수 있다. 대안적으로, 헴프(hemp) 및 대나무를 포함하여 식물 섬유와 같은 섬유가 상기 섬유 입자와 함께 사용되거나 대안적으로 사용될 수 있다.

캐스트 리프를 형성하는 슬러리에 포함되거나 다른 에어로졸 형성 기재에 사용된 에어로졸 형성제는 하나 이상의 특징에 기초하여 선택될 수 있다. 기능적으로, 에어로졸 형성제는 에어로졸 형성제의 특정 휘발 온도 이상으로 가열될 때, 에어로졸에서 니코틴 또는 향료 또는 둘 모두를 휘발시키고 전달할 수 있게 하는 메커니즘을 제공한다. 상이한 에어로졸 형성제는 통상적으로 상이한 온도에서 기화된다. 에어로졸 형성제는, 사용 시, 조밀하고도 안정적인 에어로졸의 형성을 용이하게 하며, 유도 가열식 담배 기재가 사용되어야 하는 유도 가열 장치의 작동 온도에서 열적 열화에 실질적으로 내성이 있는 임의의 적합한 공지의 화합물 또는 화합물의 혼합물일 수 있다. 에어로졸 형성제는, 예를 들어 실온에서 또는 실온 부근에서 안정적으로 유지되지만, 예를 들어 40℃ 내지 450℃의 더 높은 온도에서 휘발될 수 있는 능력에 기초하여 선택될 수 있다.

기재가 특히 담배 입자를 포함하는 담배 기반 제품으로 이루어진 경우, 에어로졸 형성제는, 에어로졸 형성 기재 내 바람직한 수준의 수분을 유지하는 데 도움을 주는 습윤제 유형의 특성도 가질 수 있다. 특히, 일부 에어로졸 형성제는 습윤제로서 기능하는 흡습성 재료, 즉 습윤제 함유 담배 기재를 촉촉하게 유지하는 데 도움이 되는 재료이다.

조합된 에어로졸 형성제의 하나 이상의 특성을 이용하기 위해 하나 이상의 에어로졸 형성제가 조합될 수 있다. 예를 들어, 활성 성분을 전달하는 트리아세틴의 능력 및 글리세린의 습윤 특성을 이용하기 위해 트리아세틴이 글리세린 및 물과 조합될 수 있다.

에어로졸 형성제는 폴리올, 글리콜 에테르, 폴리올 에스테르, 에스테르, 및 지방산으로부터 선택될 수 있고, 다음의 화합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다: 글리세린, 에리스리톨, 1,3-부틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 트리에틸 시트레이트, 프로필렌 카보네이트, 에틸 라우레이트, 트리아세틴, 메소-에리스리톨, 디아세틴 혼합물, 디에틸 수베레이트, 트리에틸 시트레이트, 벤질 벤조에이트, 벤질 페닐 아세테이트, 에틸 바닐레이트, 트리부티린, 라우릴 아세테이트, 라우르산, 미리스트산, 및 프로필렌 글리콜.

에어로졸 형성 기재는 향미제와 같은 다른 첨가제 및 성분을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성 기재는, 바람직하게는, 니코틴 및 적어도 하나의 에어로졸 형성제를 포함한다.

크림핑된 담배 시트, 예를 들어 캐스트 리프는 약 0.5 mm 내지 약 2 mm, 바람직하게는 약 0.8 mm 내지 약 1.5 mm의 범위, 예를 들어 1 mm의 두께를 가질 수 있다. 약 30% 이하의 두께 편차가 제조 공차로 인해 생길 수 있다.

에어로졸 형성 기재는 겔을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성 기재는 겔이 로딩된 다공성 매체를 포함할 수 있다. 다공성 매체는 겔을 흡착하는 기재를 형성한다. 겔은 에어로졸 발생 물품용 구성요소 내에 삽입된다.

특정 구현예와 조합하여, 겔은 바람직하게는 겔이 가열될 때, 휘발성 화합물을 에어로졸 발생 물품을 통과하는 에어로졸 내로 방출할 수 있는 재료의 혼합물이다. 유리하게는, 겔은 실온에서 고체이다. 본 문맥에서의 "고체"는, 겔이 안정한 크기와 형상을 가지며 유동하지 않음을 의미한다. 본 문맥에서의 실온은, 25℃를 의미한다.

겔은 에어로졸 형성제를 포함할 수 있다. 이상적으로, 에어로졸 형성제는 구성요소의 작동 온도에서 열적 열화에 대해 실질적으로 내성이 있다. 적합한 에어로졸 형성제는 당업계에 잘 공지되어 있으며, 트리에틸렌 글리콜, 1,3-부탄디올 및 글리세린과 같은 다가 알코올; 글리세롤 모노-, 디- 또는 트리아세테이트와 같은 다가 알코올의 에스테르; 및 디메틸 도데칸디오에이트(dimethyl dodecanedioate) 및 디메틸 테트라데칸디오에이트(dimethyl tetradecanedioate)와 같은, 모노-, 디- 또는 폴리카르복실산의 지방족 에스테르를 포함하지만 이에 한정되지 않는다. 다가 알코올 또는 이의 혼합물은 트리에틸렌 글리콜, 1, 3-부탄디올 및, 글리세린 또는 폴리에틸렌 글리콜 중 하나 이상일 수 있다.

유리하게는, 겔은, 예를 들어 열가역성 겔을 포함한다. 이는 용융 온도까지 가열될 때 겔이 유체가 되어 겔화 온도에서 다시 겔로 설정되는 것을 의미한다. 겔화 온도는 실온 및 대기압 이상일 수 있다. 대기압은 1 기압의 압력을 의미한다. 용융 온도는 겔화 온도보다 더 높을 수 있다. 겔의 용융 온도는 50℃, 또는 60℃, 또는 70℃ 초과일 수 있고 80℃ 초과일 수 있다. 본 문맥에서의 용융 온도는, 겔이 더 이상 고체가 아니고 유동하기 시작하는 온도를 의미한다.

대안적으로, 특정 구현예에서, 겔은 구성요소의 사용 중에 용융되지 않는 비용융 겔이다. 이들 구현예에서, 겔은 사용 시 관형 요소의 작동 온도 이상이지만, 겔의 용융 온도보다 낮은 온도에서 활성제를 적어도 부분적으로 방출할 수 있다.

특정 구현예와 조합하여, 겔은 겔화제를 포함한다. 특정 구현예에서, 겔은 아가 또는 아가로스 또는 알긴산 나트륨 또는 젤란 검, 또는 이의 혼합물을 포함한다.

특정 구현예에서, 겔은 물을 포함하고, 예를 들어, 겔은 하이드로겔이다.

대안적으로, 특정 구현예에서, 겔은 비수성이다.

바람직하게는, 겔은 활성제를 포함한다. 특정 구현예와 조합하여, 활성제는 니코틴(예를 들어, 분말 형태 또는 액체 형태) 또는 예를 들어, 에어로졸에서 방출하기 위한 담배 생성물 또는 다른 목표 화합물을 포함한다. 특정 구현예에서, 니코틴은 에어로졸 형성제를 갖는 겔에 포함된다.

특정 구현예에서, 겔은 가열될 때 향미 화합물을 방출하는 고체 담배 재료를 포함한다. 특정 구현예에 따라서, 고체 담배 재료는, 예를 들어 허브 잎, 담뱃잎, 담배 리브(rib) 단편, 재구성 담배, 균질화 담배, 압출 담배, 및 팽화 담배와 같은 식물 재료 중 하나 이상을 포함하는, 분말, 과립, 펠릿, 슈레드, 스파게티, 스트립 또는 시트 중 하나 이상이다.

추가적으로 또는 대안적으로, 예를 들어 겔이 다른 향미제, 예를 들어 멘톨을 포함하는 구현예가 있다. 멘톨은 겔의 형성 전에 물에 또는 에어로졸 형성제에 첨가될 수 있다.

바람직하게는, 겔은 겔화제를 포함한다. 겔화제는 에어로졸 형성제가 분산될 수 있는 고체 매체를 형성할 수 있다.

겔은 임의의 적합한 겔화제를 포함할 수 있다. 예를 들어, 겔화제는 하나 이상의 생체고분자, 예컨대 2개 또는 3개의 생체고분자를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 겔이 하나 이상의 생체고분자를 포함하는 경우, 생체고분자는 실질적으로 동일한 중량으로 존재한다.

생체고분자는 다당류로 형성될 수 있다. 겔화제로서 적합한 생체고분자는, 예를 들어 젤란 검(천연, 저 아실 젤란 검, 저 아실 젤란 검을 갖는 고 아실 젤란 검이 바람직함), 잔탄 검, 알지네이트(알긴산), 아가, 구아 검 등을 포함한다. 바람직하게는, 겔은 아가를 포함한다.

겔은 2가 양이온을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 2가 양이온은 용액 속의 젖산 칼슘과 같은 칼슘 이온을 포함한다. (칼슘 이온과 같은) 2가 양이온은 생체고분자(다당류), 예컨대 젤란 검(천연, 저 아실 젤란 검, 고 아실 젤란 검), 잔탄 검, 알지네이트(알긴산), 아가, 구아 검 등을 포함하는 조성물의 겔 제형을 보조할 수 있다. 이온 효과는 겔 제형을 보조할 수 있다. 2가 양이온은 약 0.1 내지 약 1 중량%의 범위, 또는 약 0.5 중량%의 겔 조성물 내에 존재할 수 있다. 일부 구현예에서, 겔은 2가 양이온을 포함하지 않는다.

겔은 카르복실산을 포함할 수 있다. 카르복실산은 케톤기를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 카르복실산은 10개 미만의 탄소 원자를 갖는 케톤기를 포함한다. 바람직하게는, 이러한 카르복실산은 5개의 탄소 원자(예컨대, 레불린산)를 갖고 있다. 레불린산이 첨가되어 겔의 pH를 중화시킬 수 있다. 이는 또한, 젤란 검(저 아실 젤란 검, 고 아실 젤란 검), 잔탄 검, 특히 알지네이트(알긴산), 아가, 구아 검 등과 같은 생체고분자(다당류)를 포함하는 겔 제형을 보조할 수 있다. 레불리닉은 또한, 겔 제형의 감각 프로파일을 향상시킬 수 있다. 일부 구현예에서, 겔은 카르복실산을 포함하지 않는다.

바람직하게는, 겔은 0.1 내지 2 중량%의 니코틴을 추가로 포함한다. 바람직하게는, 겔은 30 중량% 내지 90 중량% (또는 70 중량% 내지 90 중량%)의 글리세린을 추가로 포함한다. 특정 구현예에서, 겔의 나머지는 물 및 향료를 포함한다.

추가적으로 또는 대안적으로, 일부 특정 구현예에서, 에어로졸 형성 기재는 겔이 로딩된 다공성 매체를 포함한다. 겔은 겔에 대해 기재 역할을 하는 다공성 매질에 의해 흡착된다.

본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "에어로졸 발생 장치"는 에어로졸을 발생시키기 위해 에어로졸 발생 물품의 에어로졸 형성 기재와 상호작용하는 장치를 설명하는 데 사용된다. 바람직하게는, 에어로졸 발생 장치는 사용자의 입을 통해 사용자에 의해 직접 흡입 가능한 에어로졸을 생성하기 위해 에어로졸 발생 물품의 에어로졸 형성 기재와 상호작용하는 퍼핑 장치이다.

에어로졸 발생 물품의 "구성요소"는 에어로졸 발생 물품을 형성하는 데 사용되는 요소를 의미한다. 바람직하게는, 구성요소는 로드 형상이다. 바람직하게는, 구성요소는 실질적으로 원통형이다. 특정 구현예에서, 구성요소는 5 mm 내지 12 mm, 예를 들어 5 mm 내지 10 mm 또는 6 mm 내지 8 mm의 외경을 갖는다. 통상적으로, 구성요소는 7.2 mm ± 10%의 외경을 갖는다. 바람직하게는, 구성요소는 래핑지에 의해 둘러싸여 있다. 통상적으로, 구성요소는 약 5 mm 내지 약 15 mm의 길이를 갖는다. 바람직하게는, 구성요소는 6 mm 내지 12 mm의 길이를 가지며, 바람직하게는, 구성요소는 7 mm 내지 10 mm의 길이를 가지며, 바람직하게는 구성요소는 8 mm의 길이를 갖는다.

본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "서셉터"는 전자기 에너지를 열로 변환할 수 있는 재료를 지칭한다. 교번 전자기장 내에 위치될 때, 서셉터에 와전류가 유도되고 히스테리시스 손실이 발생하여 서셉터의 가열을 일으킨다. 서셉터가 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하거나 열적으로 밀접한 근위에 위치할 때, 에어로졸 형성 기재는 에어로졸이 형성되도록 서셉터에 의해 가열된다. 바람직하게는, 서셉터는 에어로졸 형성 기재와 직접 물리적으로 접촉하여, 예를 들어 에어로졸 형성 담배 기재 내부에 배열되어 있다.

서셉터는 에어로졸 형성 기재로부터 에어로졸을 생성하기에 충분한 온도까지 유도 가열될 수 있는 임의의 재료로 형성될 수 있다. 바람직한 서셉터는 금속 또는 탄소를 포함한다. 바람직한 서셉터는 강자성 재료, 예를 들어 강자성 합금, 페라이트 철 또는 강자성 강 또는 스테인리스 스틸을 포함하거나 이로 이루어질 수 있다. 적합한 서셉터는 알루미늄이거나 이를 포함할 수 있다. 바람직한 서셉터는 250℃를 초과하는 온도까지 가열될 수 있다. 적합한 서셉터는 비금속 코어 상에 배치된 금속층, 예를 들어 세라믹 코어의 표면 상에 형성된 금속 트랙을 갖는 비금속 코어를 포함할 수 있다. 서셉터는 보호성 외부 층, 예를 들어 서셉터를 캡슐화하는 보호성 세라믹 층 또는 보호성 유리 층을 가질 수 있다. 서셉터는 서셉터 재료의 코어 위로 형성된, 유리, 세라믹, 또는 불활성 금속에 의해 형성된 보호용 코팅을 포함할 수 있다.

서셉터는 다중 재료 서셉터일 수 있고, 제1 서셉터 재료 및 제2 서셉터 재료를 포함할 수 있다. 제1 서셉터 재료는 제2 서셉터 재료와 물리적으로 밀접하게 접촉하여 배치된다. 제2 서셉터 재료는 500℃ 미만의 퀴리 온도를 갖는 것이 바람직하다. 제1 서셉터 재료는 서셉터가 변동 전자기장에 배치될 때, 서셉터를 가열하는 데 주로 사용되는 것이 바람직하다. 임의의 적합한 재료가 사용될 수 있다. 예를 들어, 제1 서셉터 재료는 알루미늄일 수 있거나, 스테인리스 스틸과 같은 철 재료일 수 있다. 제2 서셉터 재료는 서셉터가 제2 서셉터 재료의 퀴리 온도인 특정 온도에 도달한 때를 표시하는 데 주로 사용되는 것이 바람직하다. 제2 서셉터 재료의 퀴리 온도는 작동 동안에 전체 서셉터의 온도를 조정하는 데 사용될 수 있다. 따라서, 제2 서셉터 재료의 퀴리 온도는 에어로졸 형성 기재의 발화점 아래여야 한다. 제2 서셉터 재료로 적합한 재료는 니켈 및 특정 니켈 합금을 포함할 수 있다.

바람직하게는, 서셉터는 필라멘트, 로드, 시트 또는 밴드의 형태를 가질 수 있다. 서셉터 프로파일이 일정한 단면, 예를 들어 원형 단면인 경우, 약 1 mm 내지 약 5 mm의 바람직한 폭 또는 직경을 갖는다. 서셉터 프로파일이 시트나 밴드의 형태를 갖는 경우, 시트나 밴드는 바람직하게는 약 2 mm 내지 약 8 mm, 더 바람직하게는 약 3 mm 내지 약 5 mm, 예를 들어 4 mm의 폭, 및 바람직하게는 약 0.03 mm 내지 약 0.15 mm, 더 바람직하게는 약 0.05 mm 내지 약 0.09 mm, 예를 들어 0.07 mm의 두께를 갖는 직사각형 형상을 갖는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면, 에어로졸 발생 물품의 구성요소가 제공된다. 구성요소는 바람직하게는 로드의 형상을 갖는다. 바람직하게는, 구성요소는 길이방향 축을 정의한다. 구성요소는 제1 단부 및 제2 단부를 정의한다. 길이방향 축은 제1 단부와 제2 단부를 연결한다.

바람직하게는, 구성요소의 길이방향 축에 수직인 평면을 따르는 구성요소의 단면은 원형 또는 난형이다. 그러나, 구성요소는 또한 직사각형 또는 다각형의 단면을 가질 수 있다.

또한, 구성요소는 에어로졸 형성 기재를 포함한다. 에어로졸 형성 기재는 균질화 담배 재료를 포함할 수 있다. 에어로졸 형성 기재는 겔을 포함할 수 있다. 에어로졸 형성 기재는 겔을 흡착하는 기재를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 대부분의 구성요소는 에어로졸 형성 기재에 의해 형성된다. 에어로졸 형성 기재는 바람직하게는 구성요소를 완전히 충진하고, 즉, 공극, 공동 및 구멍은 구성요소 내에서 바람직하지 않다.

구성요소는 서셉터를 더 포함한다. 바람직하게는, 서셉터는 금속으로 만들어진다. 서셉터는 에어로졸 형성 기재와 열 접촉한다. 열 접촉은 에어로졸 형성 기재를 가열하기 위해 생성된다. 가열 시, 에어로졸 형성 기재는 에어로졸을 방출한다. 바람직하게는, 서셉터는 에어로졸 형성 기재에 의해 둘러싸여 있다. 바람직하게는, 서셉터는 길이방향 축을 정의한다. 바람직하게는, 서셉터는 구성요소 내에 완전히 포함된다. 바람직하게는, 서셉터는 구성요소의 제1 단부에 근접하여 위치된다. 바람직하게는, 서셉터는 구성요소의 제1 단부로부터 제2 단부까지 연장된다. 바람직하게는, 서셉터의 길이방향 축은 평행하거나 구성요소의 길이방향 축과 20도 미만의 각도를 형성한다. 바람직하게는, 서셉터는 구성요소 내에 삽입된다. 바람직하게는, 서셉터는 구성요소 내의 주어진 위치에 위치된다. 바람직하게는, 서셉터는 블레이드의 형상을 갖는다.

바람직하게는, 구성요소는 래핑 시트로 래핑된다.

전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광 카메라가 또한 제공된다. 센서는 바람직하게는 편광기 어레이를 포함한다. 바람직하게는, 편광기 어레이는 복수의 상이한 편광 각도로 복수의 편광 필터를 포함한다. 바람직하게는, 센서는 CMOS 센서를 포함한다. 센서는 포토다이오드 위의 편광 필터의 층을 통합할 수 있다. 편광기 어레이 층은 온 칩(on-chip)에 배치될 수 있고, 플레어링 및 고스팅을 억제하는 반사-방지 재료로 코팅된 에어 갭 나노-와이어-그리드를 포함할 수 있다. 이러한 온 칩 배치는 편광 크로스토크를 감소시키고 소광비를 향상시킨다.

편광기 어레이는 4개의 상이한 지향성 편광 필터를 포함할 수 있다. 편광 필터는 각각의 픽셀 상에 배치될 수 있다. 각각의 편광 필터는 편광 방향을 따라 광을 편광시킨다. 바람직하게는, 4개의 상이한 편광 방향은 90도, 45도, 135도 및 영(0)도이다. 4개의 픽셀의 모든 블록은 계산 단위를 정의한다. 4개의 픽셀 블록 설계에서 상이한 지향성 편광기를 사용하는 센서는 바람직하게는 전자기 방사선의 편광도 및 편광 방향 모두를 계산할 수 있게 한다.

제1 편광 카메라는 바람직하게는 약 200 nm 내지 약 2500 nm, 보다 바람직하게는 400 nm 내지 1000 nm로 구성된 파장 범위를 갖는 전자기 방사선에 민감하다.

바람직하게는, 제1 편광 카메라는 Sony에 의해 생산된 XCG-CP 시리즈의 편광 머신 비전 카메라이다. 바람직하게는, 제1 편광 카메라는 XPL-SDKW 편광 카메라 소프트웨어 개발 키트를 사용한다.

구성요소는, 예를 들어 전자기 방사선을 방출하는 전자기 방사원에 의해 조명된다. 바람직하게는, 전체 구성요소는 조명되거나, 구성요소의 일부만이 조명된다. 바람직하게는, 구성요소의 제1 단부는 전자기 방사선에 의해 조명된다. 전자기 방사선은 집속된 전자기 방사선빔일 수 있다. 전자기 방사선은 확산 전자기 방사선일 수 있다. 전자기 방사원은 바람직하게는 약 200 nm 내지 약 2500 nm, 보다 바람직하게는 400 nm 내지 1000 nm의 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 방출한다. 바람직하게는, 전자기 방사선은 가시 범위 내의 파장을 갖는다. 바람직하게는, 전자기 방사원은 LED를 포함한다. LED는 백색 LED일 수 있다. 바람직하게는, 구성요소의 제1 단부 상에 전자기 방사선을 집속시키기 위해 적절한 광학장치가 포함될 수 있다. 전자기 방사원은 바람직하게는 구성요소의 제1 단부를 조명할 수 있도록 위치된다.

제1 편광 카메라는 시야를 정의하고, 구성요소는 제1 편광 카메라의 시야에 들어가도록 배치되거나 적응되도록 위치된다. 바람직하게는, 구성요소는 제1 편광 카메라의 시야에 전체적으로 또는 단지 부분적으로 진입하도록 배치되거나 적응되도록 위치된다. 바람직하게는, 구성요소는 제1 단부가 제1 편광 카메라의 시야에 진입하도록 배치되거나 적응되도록 위치된다.

편광 카메라의 시야는 제1 편광 카메라에 포함된 광학장치의 광학축인 중심 축을 갖는다.

전자기 방사선은 구성요소에 의해, 예를 들어 구성요소의 일부에 의해 반사, 굴절 또는 투과될 수 있다. 전자기 방사선을 반사, 굴절 또는 투과할 수 있는 구성요소의 일부는 바람직하게는 구성요소의 제1 단부를 포함한다. 구성요소로부터 나오는 이러한 전자기 방사선의 일부는 제1 편광 카메라의 센서에 충돌하여, 제1 편광 카메라에 의해 검출된다. 이하에서, "구성요소로부터 나오는 전자기 방사선"은 구성요소의 일부에 의해 반사, 굴절 또는 투과된 전자기 방사선을 의미한다. 제1 편광 카메라는 복수의 픽셀을 갖는 제1 이미지를 생성하도록 적응된다. 제1 이미지의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선의 편광 정보를 포함한다. 따라서, 제1 이미지는 구성요소로부터 나오는 전자기 방사선의 편광 정보를 포함한다.

예를 들어, 이미지의 각각의 픽셀은 주어진 방향을 따라 편광에 관한 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 방향은 카메라의 센서에 포함된 편광 필터 중 하나에 의해 정의된 방향이다. 예를 들어, 제1 이미지는 4개의 픽셀의 클러스터로 분할되고, 클러스터의 각각의 픽셀은 편광 필터에 의해 식별된 4개의 방향 중 하나를 따라 편광 정보, 예를 들어 편광값을 포함한다. 따라서, 4개의 픽셀의 클러스터는 4개의 방향을 따라 편광값을 포함할 수 있다.

제1 이미지는 정교화된 편광 정보를 포함할 수 있다. 하나 이상의 방향을 따르는 편광값으로부터, 상이한 수량이 계산될 수 있다.

제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 편광도(DOP)를 포함할 수 있다. 편광도는 각각의 픽셀에 대해 계산될 수 있고, 편광 이미지의 정도로서 전체적으로 디스플레이될 수 있다. 편광도(DOP)는 편광된 전자기 방사선의 부분을 설명하기 위해 사용되는 양이다. 완전하게 편광된 복사는 100%의 DOP를 갖는 반면, 비편광된 복사는 영(0)%의 DOP를 갖는다. 부분적으로 편광되고, 따라서 편광 및 비편광 구성요소의 중첩에 의해 표현될 수 있는 복사는 영(0)% 내지 100%의 DOP를 갖는다. DOP는 일반적으로 전자기 방사선의 편광된 구성요소에 의해 운반되는 총 전력의 분율로서 계산된다.

제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 단일 방향(모든 픽셀에 대해 동일한 방향임)을 따르는 편광값에 대한 정보를 포함할 수 있다. 이러한 방향은 필터의 편광 방향 중 하나일 수 있다. 제1 편광 카메라는 카메라 센서에 포함된 편광 필터에 의해 정의된 바와 같이 편광의 각 방향에 대해 하나씩, 4개의 상이한 이미지를 생성할 수 있다.

제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 단일 방향(모든 픽셀에 대해 동일한 방?t임)을 따르는 편광값에 대한 정보를 포함할 수 있으며, 이는 편광 필터에 의해 정의된 모든 방향과 상이하다. 이러한 제1 이미지는 센서에 의해 얻어진 편광 필터에 의해 정의된 상이한 방향을 따라 편광값을 정교화하여 얻어진다.

제1 이미지는, 각각의 픽셀에 대해, 다수의 방향을 따라 편광값의 평균을 포함하는 편광 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 4개의 편광 필터에 의해 정의된 4개의 상이한 방향의 경우, 제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 4개의 상이한 방향을 따라 4개의 편광의 평균인 값을 포함할 수 있다.

제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 편광 방향을 포함하는 편광 정보를 포함할 수 있다. 이러한 정보는 표면 법선 이미지를 디스플레이하기 위해 처리되고 사용될 수 있다. 표면 법선 이미지는 각각의 픽셀에서 구성요소의 표면에 대한 법선의 방향을 보여준다.

제1 이미지에 존재하는 편광 정보에 기초하여, 서셉터의 위치가 식별될 수 있다. 서셉터의 위치는 스탠다드 카메라를 사용하여 쉽게 찾을 수 없다. 제1 이미지에 디스플레이된 편광 정보를 사용하여, 구성요소 내 서셉터의 위치를 쉽게 식별할 수 있다. 구성요소 내의 서셉터의 위치는 쉽게 식별될 수 있다. 바람직하게는, 서셉터의 위치의 식별은 공지된 이미지 처리 소프트웨어 또는 알고리즘을 사용하여 자동으로 수행된다.

서셉터의 위치는, 예를 들어 컴퓨터와 같은 제어 유닛을 사용하여 식별된다. 제어 유닛은 디지털 이미지 분석을 위해 적절한 소프트웨어를 포함할 수 있다.

서셉터가 겔과 같은 다른 재료에 의해 덮인 경우, 제1 이미지를 정교화하여 얻어진 다른 정보가 서셉터의 위치를 결정하는 데 사용될 수 있다. 또한, 서셉터의 치수에 대한 정보는 서셉터의 위치를 결정하는 데 사용될 수 있다.

구성요소에 대한 추가 정보가 제1 이미지를 정교화하여 얻어질 수 있다. 예를 들어, 제1 단부에서 구성요소의 직경의 치수가 측정될 수 있다.

바람직하게는, 방법은 서셉터의 위치가 올바른지 여부를 결정하는 단계를 포함한다. 위치가 올바른지 여부를 결정하는 것은 바람직하게는 서셉터의 검출된 위치를 서셉터의 예상 위치의 범위와 비교하는 것을 포함한다. 서셉터는 바람직하게는 에어로졸 형성 기재에 의해 완전히 둘러싸이도록 구성요소 내에 배치된다. 서셉터는, 바람직하게는 에어로졸 형성 기재에 의해 완전히 둘러싸이도록 구성요소에 배치된다. 또한, 서셉터는 서셉터 축을 정의한다. 바람직하게는, 서셉터 축은 구성요소의 길이방향 축에 실질적으로 평행하다. 따라서, 서셉터의 축이 길이방향 축에 평행하지 않은 경우, 서셉터는 정확하게 위치되지 않은 것으로 간주된다. 서셉터의 축과 길이방향 축이 20도 초과의 각도를 형성하는 경우, 서셉터는 정확하게 위치되지 않은 것으로 간주된다.

바람직하게는, 방법은 경고를 내리는 단계를 포함한다. 서셉터가 잘못 배치되거나 적절하게 정렬되지 않는 경우, 즉 서셉터의 위치가 정확하지 않은 경우, 바람직하게는 방법은, 예를 들어 작동자에게 경고를 내리는 단계를 포함한다. 대안적으로, 경고 또는 알람이 피드백 루프 장치로 보내진다. 피드백 루프 장치는 경고에 기초하여 구성요소 내의 서셉터의 위치를 수정할 수 있다.

바람직하게는, 방법은 제1 이미지에 존재하는 편광 정보로부터 다음 중 하나: 편광도; 또는 편광 각도를 평가하는 단계를 포함한다. 보다 바람직하게는, 제1 이미지의 각각의 픽셀에 대해 편광도 또는 편광 각도 중 하나가 계산된다. 보다 바람직하게는, 편광도 및 편광 각도 둘 모두가 계산된다. 따라서, 제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 편광의 DOP 값 또는 각도값을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제1 이미지는 각각의 픽셀에 대해 편광의 DOP 값 및 각도값을 포함한다. 서셉터는 금속으로 실현될 수 있다. 편광 이미지의 정도는, 전자기 방사선이 금속에 의해 비교적 고도로 편광되기 때문에, 다른 재료와 비교하여 금속으로 만들어진 물체 간의 대비를 향상시킨다. 서셉터를 국소화하고 서셉터가 정확하게 위치되는지 여부를 결정하는 것은 비교적 간단하다.

바람직하게는, 제1 편광 카메라는 제1 중심 축을 갖는 제1 시야를 정의하고; 방법은, 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제2 편광 카메라를 제공하고, 제2 편광 카메라는 제2 중심 축을 갖는 제2 시야를 정의하고, 제2 중심 축은 제1 중심 축과 영(0)이 아닌 각도를 형성하는 단계; 제2 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계; 제2 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부의 제2 이미지를 생성하고, 제2 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는 단계; 및 제1 이미지에 포함된 편광 정보를 제2 이미지에 포함된 편광 정보와 조합하여 구성요소의 제1 단부의 단일 조합 이미지를 얻는 단계를 포함한다. 보다 바람직하게는, 제2 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계는 제2 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 것을 포함한다. 바람직하게는, 제2 편광 카메라가 제공된다. 제2 편광 카메라는 구성요소의 제1 단부의 제2 이미지를 얻는다. 바람직하게는, 제2 편광 카메라는 제1 편광 카메라와 실질적으로 동일하다. 제2 편광 카메라는 제2 중심 축을 갖는 제2 시야를 정의한다. 제2 편광 카메라는 제2 중심 축을 갖는 제2 시야를 정의한다. 제1 편광 카메라의 제1 시야의 제1 축과 제2 편광 카메라의 제2 시야의 제2 축 사이에 형성된 각도는 영(0) 또는 180도와 상이하다. 바람직하게는, 제1 이미지에 포함된 편광 정보는 제2 이미지에 포함된 편광 정보와 동일한 유형이다. 예를 들어, 제1 이미지가 모든 픽셀에 대해 DOP에 대한 정보를 포함하는 경우, 제2 이미지도 마찬가지로 DOP에 대한 정보를 포함한다. 바람직하게는, 제1 이미지 및 제2 이미지는 실질적으로 동시에 촬영된다. 제1 편광 카메라의 제1 시야의 제1 축과 제2 편광 카메라의 제2 시야의 제2 축이 사이에 각도를 형성한다는 사실은 제1 이미지와 제2 이미지를 조합할 수 있게 하고, 실질적으로 3차원 이미지를 얻을 수 있게 한다. 바람직하게는, 제1 축과 제2 축 사이에 형성된 각도는 약 5도 내지 약 60도에 포함된다. 제1 이미지와 제2 이미지를 조합하기 위해, 입체 비전 알고리즘이 사용될 수 있다. 2개의 각도로부터 구성요소에 대한 정보를 비교함으로써, 제1 이미지 및 제2 이미지 내의 요소의 상대 위치를 검사함으로써 3차원 정보를 추출할 수 있다. 3차원 이미지는 에어로졸 형성 기재 내의 서셉터의 위치를 더 양호하게 식별할 수 있게 한다. 3차원 이미지는 에어로졸 형성 기재 내의 구조의 인식성을 향상시켜 서셉터가 더 잘 보이게 한다.

바람직하게는, 방법은: X-선 센서를 제공하는 단계; X-선 필드에 의해 제1 단부와 제2 단부 사이에서 구성요소를 조사하는 단계; X-선 이미지를 생성하는 단계; 및 X-선 이미지에 포함된 정보를 제1 이미지에 포함된 정보와 조합하는 단계를 포함한다. 제1 편광 카메라는 구성요소의 제1 단부의 이미지를 생성한다. 편광 카메라는 구성요소 내부의 이미지를 생성할 수 없을 수 있지만, 그의 표면만을 생성할 수 있다. 따라서, 구성요소의 표면에서 나타나지 않는 구성요소 내부에 존재하는 결함은 편광 카메라를 사용하여 검출할 수 없다. 구성요소 내부의 이미지를 생성하기 위해, X-선 센서가 제공될 수 있다. X-선 센서는 제1 단부와 제2 단부 사이에서 구성요소를 충돌시키는 투과된 또는 반사된 X-선 필드를 검출한다. X-선 센서는 X-선 이미지를 생성하도록 적응된다. 이는 구성요소 내부에 위치되고 구성요소의 표면 상에서 보이지 않는 결함을 검출할 수 있게 한다.

바람직하게는, 방법은: 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제3 편광 카메라를 제공하는 단계; 제3 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계; 및 제3 편광 카메라에 의해 구성요소의 제2 단부의 제3 이미지를 생성하고, 제3 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는 단계; 및 제3 이미지에서 서셉터의 위치를 검출하는 단계를 포함한다. 보다 바람직하게는, 제1 이미지 및 제3 이미지는 실질적으로 동시에 생성된다. 더욱 바람직하게는, 전자기 방사선에 의해 구성요소를 조명하는 단계는 전자기 방사선에 의해 구성요소의 제1 단부 및 제2 단부를 조명하는 것을 포함한다. 보다 바람직하게는, 제3 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계는 제3 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 것을 포함한다. 이러한 방식으로, 서셉터의 위치는 구성요소의 제1 단부 및 제2 단부 모두에서 식별될 수 있다. 서셉터의 오정렬은 구성요소의 양 단부 상에서 식별될 수 있다. 2개의 편광 카메라(제1 편광 카메라 및 제3 편광 카메라)의 존재는 제1 단부 및 제2 단부를 동시에 검사할 수 있게 하여, 제조 시간을 감소시킨다. 이는 또한 구성요소의 2개의 대향 단부에 2개의 상이한 서셉터가 존재할 때 유용할 수 있다.

바람직하게는, 방법은: 제1 전자기 방사선에 의해 구성요소를 조명하는 단계; 제1 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 제1 전자기 방사선을 검출하는 단계; 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하고, 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 제1 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는 단계; 구성요소를 제1 전자기 방사선와 상이한 제2 전자기 방사선로 조명하는 단계; 제1 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사또는 굴절된 제2 전자기 방사선을 검출하는 단게; 제1 편광 카메라에 의해 구성요소의 제1 단부의 제4 이미지를 생성하고, 제4 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 제2 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는 단계; 제1 이미지에 포함된 편광 정보를 제4 이미지에 포함된 편광 정보와 조합하여 구성요소의 제1 단부의 단일의 조합 이미지를 얻는 단계를 포함한다.

제1 전자기 방사선은 임의의 특징에서 제2 전자기 방사선와 상이할 수 있다. 예를 들어, 제2 전자기 방사선은 확산되는 반면, 제1 전자기 방사선은 집속된다. 제1 전자기 방사선의 파장은 제2 전자기 방사선의 파장과 상이할 수 있다. 제1 전자기 방사선이 구성요소의 제1 단부에 충돌하는 각도는 제2 전자기 방사선이 구성요소의 제1 단부에 충돌하는 각도와 상이할 수 있다. 제1 전자기 방사선 및 제2 전자기 방사선와 같은 2개의 상이한 광 설정을 가지면 주어진 분석을 위해 최적의 전자기 방사선을 사용할 수 있다. 예를 들어, 제1 전자기 방사선은 서셉터의 위치가 제1 이미지, 제4 이미지 또는 조합된 이미지에서 쉽게 검출될 수 있도록 선택되는 반면, 제2 전자기 방사선은 제1 이미지, 제4 이미지 또는 조합된 이미지의 다른 특징이 쉽게 검출될 수 있도록 선택된다.

바람직하게는, 제3 편광 카메라는 제3 중심 축을 갖는 제3 시야를 정의하고; 방법은, 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제5 편광 카메라를 제공하고, 제5 편광 카메라는 제5 중심 축을 갖는 제5 시야를 정의하고, 제5 중심 축은 제3 중심 축과 영(0)이 아닌 각도를 형성하는 단계; 제5 편광 카메라에 의해 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계; 제5 편광 카메라에 의해 구성요소의 제2 단부의 제5 이미지를 생성하고, 제5 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 전자기 방사선의 편광 정보를 포함하는 단계; 및 제3 이미지에 포함된 편광 정보를 제5 이미지에 포함된 편광 정보와 조합하여 구성요소의 제2 단부의 단일 조합 이미지를 얻는 단계를 포함한다. 제1 단부에서와 같이, 구성요소의 제2 단부의 실질적으로 3차원 이미지가 상이한 각도로 촬영된 제3 이미지 및 제5 이미지를 조합함으로써 얻어질 수 있다.

바람직하게는, 구성요소는 길이방향 축을 정의하고, 제1 편광 카메라는 제1 시야를 가지며, 방법은: 이동식 이송부를 제공하는 단계; 복수의 구성요소를 길이방향 축이 서로 실질적으로 평행한 상태로 이동식 이송부 상에 위치시키는 단계; 이동식 지지부의 움직임에 의해 제1 카메라의 제1 시야로 진입하는 복수의 구성요소 중 일부에 대해 제1 단부의 제1 이미지를 생성시키는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 구성요소는 이동된다. 에어로졸 발생 물품의 제조 동안, 구성요소는 제조를 위해 하나의 기계로부터 다른 기계로 이동된다. 제한된 시간 내에 구성요소를 생산하기 위해, 구성요소가 이동되는 동안, 예를 들어 처리되는 동안 서셉터의 위치의 결정이 이루어진다. 제조 중단은 회피되거나 최소화될 수 있다. 이러한 목적을 위해, 길이방향 축이 서로 평행한 상태로 배열된 복수의 구성요소를 이동시키도록 적응된 이동 요소가 제공된다. 구성요소는 제1 단부가 쉽게 조명되고 제1 편광 카메라의 시야로 진입할 수 있도록 평행한 길이방향 축으로 이동된다. 제1 편광 카메라는 구성요소의 제1 이미지를 연속적으로 촬영할 수 있다. 제1 편광 카메라는 구성요소가 시야 내에 진입하는 즉시 제1 이미지를 생성한다.

바람직하게는, 시스템은 또한 구성요소의 접근을 식별하고 전자기 방사원을 스위치 온하고 구성요소를 조명하기 위해 전자기 방사원에 신호를 보내도록 적응된 트리거 요소를 포함한다. 복수의 구성요소가 고려되는 경우, 트리거 요소는 새로운 구성요소가 제1 편광 카메라의 시야 내에 진입할 때마다 전자기 방사원의 스위칭 온을 트리거한다. 전자기 방사원은 스트로보스코픽일 수 있다.

바람직하게는, 구성요소는 길이방향 축을 정의하고, 제1 편광 카메라는 제1 시야를 가지며, 방법은 드럼을 제공하는 단계; 복수의 구성요소를 길이방향 축이 서로 실질적으로 평행한 상태로 드럼 상에 위치시키는 단계; 드럼을 회전시키는 단계; 및 드럼의 회전에 의해 제1 카메라의 제1 시야로 진입하는 복수의 구성요소 중 일부에 대한 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계를 포함한다. 이동식 요소는 임의의 유형일 수 있다. 편광 카메라는 시스템 내 여러 위치에 배치되어 에어로졸 발생 물품용 구성요소를 형성할 수 있다.

바람직하게는, 방법은 서셉터의 위치에 기초하여 구성요소를 폐기하는 단계를 포함한다. 서셉터가 구성요소 내에 정확히 배치되지 않는 경우, 부정확하게 위치된 서셉터를 포함하는 구성요소는 바람직하게 폐기된다. 예를 들어, 압축 공기는 원하지 않는 구성요소를 밀어내는 데 사용될 수 있다.

바람직하게는, 시스템은 길이방향 축이 서로 평행하게 배열된 복수의 구성요소를 이동시키도록 적응된 이동 요소를 포함한다.

바람직하게는, 시스템은 서셉터의 위치에 기초하여 구성요소를 제거하도록 적응된 제거 유닛을 포함한다. 보다 바람직하게는, 이동식 요소는 드럼 또는 컨베이어 벨트를 포함한다.

바람직하게는, 제1 전자기 방사원은 주어진 주파수에서 구성요소를 조명하도록 적응된 스트로보스코프 광(stroboscopic light)을 포함한다. 보다 바람직하게는, 스트로보스코프 광은 구성요소 상에 전자기 방사선을 집속시키기 위한 광학장치를 포함한다.

바람직하게는, 시스템은 구성요소를 조명하도록 적응된 전자기 방사선의 제2 공급원을 포함하며, 제2 공급원은 제1 공급원과 상이하다.

본 발명은 이제 첨부된 도면을 참조하여 비제한적으로 상세하게 설명될 것이다:
- 도 1은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템의 제1 구현예의 개략적인 사시도이다;
- 도 2는 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템의 제2 구현예의 개략적인 측면도이다;
- 도 3은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템의 제3 구현예의 개략적인 사시도이다;
- 도 4는 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템의 제4 구현예의 개략적인 사시도이다;
- 도 5는 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템의 제5 구현예의 개략적인 사시도이다;
- 도 6은 에어로졸 발생 물품용 구성요소의 개략적인 정면도이다;
- 도 7은 도 6의 구성요소의 개략적인 측면도이다;
- 도 8은 편광 카메라로 촬영한 구성요소의 이미지이다;
- 도 9는 본 발명의 방법에 따른 도 8의 이미지의 상세도이다;
- 도 10은 본 발명의 방법에 따른 도 9의 이미지의 상세도이다;
- 도 11은 편광 카메라로 촬영한 구성요소의 이미지이다;
- 도 12는 본 발명의 방법에 따른 도 11의 이미지의 상세도이다;
- 도 13은 본 발명의 방법에 따른 도 12의 이미지의 상세도이다;
- 도 14는 본 발명의 방법에 따른 도 13의 이미지의 상세도이다;
- 도 15는 스탠다드 카메라로 촬영한 구성요소의 사진이다;
- 도 16은 도 2의 시스템의 상세 정면도이다;
- 도 17은 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 일반 시스템의 개략적인 측면도이다; 그리고
- 도 18은 본 발명의 방법의 흐름도이다.

도 17에서, 에어로졸 발생 물품용 구성요소(50)의 생산을 위한 일반 시스템이 도시되어 있고, 20으로 전역적으로 표시되어 있다.

구성요소(50)는 도 6 및 도 7에 개략적으로 도시되어 있다. 구성요소(50)는 로드 형상이고 길이방향 축(51)을 정의한다. 구성요소(50)는 서로 대향하는 제1 단부(52) 및 제2 단부(53)를 포함한다. 제1 단부(52)는 도 6에 정면도로 도시되어 있다.

구성요소(50)는 구성요소(50)에서 점으로 도시된 에어로졸 형성 기재(54)를 포함한다. 에어로졸 형성 기재(54) 내에 서셉터(55)가 삽입된다.

도 15에 도시된 구성요소의 제1 단부(52)의 정면도의 이미지에 도시된 바와 같이, 본 구현예에서, 에어로졸 형성 기재(54)는 겔이 로딩된 매체를 포함한다. 매체는 면일 수 있다. 도 15는 매체(56), 매체(56)로부터 분리된 겔(57)의 일부분, 구멍(58)(즉, 임의의 요소가 없는 체적) 및 서셉터(55)를 도시한다. 스탠다드 카메라로 촬영한 도 15의 이러한 이미지에서 볼 수 있는 바와 같이, 서셉터(55)는 거의 보이지 않고 구멍과 같은 다른 요소와 혼동될 수 있다.

도 17의 일반적인 측면도에서, 시스템(20)은 제1 편광 카메라(4)를 포함한다. 제1 편광 카메라(4)는 제1 시야를 정의하고, 카메라에 의해 검출되는 전자기 방사선의 편광에 관한 정보를 포함하는 제1 이미지를 생성하도록 적응된다. 제1 편광 카메라(4)는, 컨베이어 벨트(2)에 의해 이송되는 구성요소의 제1 단부(52)가 제1 편광 카메라(4)의 시야 내에 진입할 수 있도록 위치된다. 예를 들어, 제1 편광 카메라는 구성요소(50)의 제1 단부(52)의 전방에 배치된다. 또한, 시스템(20)은 구성요소(50)의 제1 단부(52)를 조명하기 위한 전자기 방사원(6)을 포함한다.

도 1에서, 일반 시스템(20)의 제1 구현예가 도시되어 있으며, 참조 번호 1로 표시되어 있다. 동일한 참조 번호로, 도 17의 시스템(20)을 참조하여 설명된 동일한 요소가 표시된다.

도 1의 시스템(1)은 구성요소(50)를 운반하도록 적응된 컨베이어 벨트(2)와 같은 이동 요소를 포함한다. 구성요소(50)는 길이방향 축(51)이 서로 실질적으로 평행한 상태로 컨베이어 벨트(2) 상에 위치된다. 시스템(1)은 제1 편광 카메라(4)를 더 포함한다. 제1 편광 카메라(4)는 제1 시야를 정의하고, 카메라에 의해 검출되는 전자기 방사선의 편광에 관한 정보를 포함하는 제1 이미지를 생성하도록 적응된다.

제1 편광 카메라(4)는, 컨베이어 벨트(2)에 의해 이송되는 구성요소의 제1 단부(52)가 컨베이어 벨트(2)의 이동 중에 제1 편광 카메라(4)의 시야 내에 진입할 수 있도록 위치된다. 도시된 구현예에서, 구성요소(50)는 제1 편광 카메라(4)가 구성요소(50)의 제1 단부(52)의 표면에 대해 대략 영(0)도, 즉 평행한 시야각을 형성하는 방식으로 정렬된다. 시스템(1)은 또한 구성요소(50)로부터 나오는 전자기 방사선의 광학 경로를 2개의 구성요소로 분할하기 위한 미러(5)를 포함한다. 이러한 방식으로, 제1 편광 카메라(4)는 구성요소(50)의 길이방향 축(51)에 직교하게(즉, 제1 편광 카메라의 중앙 광축과 구성요소(50)의 길이방향 축(51)은 수직임) 장착될 수 있어서, 콤팩트 용액을 제공한다. 미러(5)는 제1 편광 카메라(4)를 이동시키지 않고도 구성요소(50)의 상대 위치의 가능한 부정확성이 보정될 수 있도록 이동될 수 있다. 시스템(1)은 또한 구성요소(50)의 제1 단부(52)를 조명하도록 적응된 제1 전자기 방사원(6)을 포함한다. 제1 공급원(6)은 단 하나의 특정 파장을 방출할 수 있다. 제1 공급원은 바람직하게는 백색 광을 방출한다. 제1 공급원(6)의 예로서, 밝은 백색 광을 점멸하는 스포트라이트 LED가 사용될 수 있다. 제1 공급원(6)은 균일한 광 및 특정 조명각을 얻기 위해 위치된 하나, 바람직하게는 둘 이상의 스포트라이트, 또는 LED 링 광에 의해 구성될 수 있다.

시스템(1)은 제1 편광 카메라(4)를 제어하고 제1 편광 카메라(4)에 의해 생성된 제1 이미지를 정교화하도록 적응된 제어 유닛(30)을 포함한다.

도 2 및 도 16에서, 일반 시스템(20)의 제2 구현예가 도시되어 있으며, 참조 번호 40으로 표시되어 있다. 동일한 참조 번호로, 도 1의 시스템(1)을 참조하여 설명된 동일한 요소가 표시된다. 시스템 (1)과 시스템 (40) 간의 차이는 이동 요소에 있다. 컨베이어 벨트 대신에, 구성요소(50)는 화살표(9)로 표시된 방향으로 회전하는 드럼(8) 내에 위치된다. 제1 편광 카메라(4)는 드럼(8)의 일측에 위치되어, 드럼(8)이 회전하는 동안 구성요소(50)의 제1 단부(52)가 제1 편광 카메라(4)의 시야로 진입한다. 드럼(8)은 콤바이너의 일부일 수 있다. 도 16에 도시된 바와 같이, 바람직하게는 시스템(40)은 구성요소(50)로부터 나오는 전자기 방사선을 제1 편광 카메라(4)로 지향시키는 데 사용되는 미러(5)를 또한 포함한다. 제1 공급원(6)도 마찬가지로 시스템(40) 내에 존재할 수 있다(도 2 및 도 16에는 도시되지 않음).

도 3에서, 일반 시스템(20)의 제3 구현예가 도시되어 있으며, 참조 번호 60으로 표시되어 있다. 동일한 참조 번호로, 도 1의 시스템(1)을 참조하여 설명된 동일한 요소가 표시된다. 시스템(60)은 제1 편광 카메라(4), 및 바람직하게는 제1 편광 카메라(4)와 동일한 제2 편광 카메라(7)를 포함한다. 제2 편광 카메라(7)는 각각의 픽셀에 대한 편광 정보를 포함하는 구성요소(50)의 제1 단부(52)의 제2 이미지를 생성하도록 적응된다. 제2 편광 카메라(7)는 시야를 정의한다. 도 3에는 제1 편광 카메라(4)의 시야의 중심 축(14) 및 제2 편광 카메라(7)의 시야의 중심 축(17)이 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 제1 편광 카메라 및 제2 편광 카메라는 서로 약간의 수평 오프셋으로 위치되며, 즉 각각의 시야의 중심 축이 사이에 각도를 형성한다. 이러한 방식으로, 제1 편광 카메라 및 제2 편광 카메라에 의해 각각 생성된 구성요소(50)의 제1 단부(52)의 제1 이미지 및 제2 이미지는 상이한 각도로 촬영된다. 제1 이미지 및 제2 이미지를 중첩시킴으로써, 단일 제1 이미지 또는 제2 이미지보다 훨씬 더 많은 3차원 특징을 포함하는 "스테레오" 조합 이미지가 생성될 수 있다. 이러한 방식으로, 구성요소(50)의 제1 단부(52)에 위치된 3차원 구조가 인식가능하게 될 수 있다.

제2 편광 카메라(7)는 또한 제어 유닛(30)에 의해 제어되고, 제2 이미지는 제어 유닛(30)에 의해 정교해질 수 있다.

도 4에서, 일반 시스템(20)의 제4 구현예가 도시되어 있으며, 참조 번호 70으로 표시되어 있다. 동일한 참조 번호로, 도 1의 시스템(1)을 참조하여 설명된 동일한 요소가 표시된다. 시스템(70)은 구성요소(50)의 제2 단부(53)의 제3 이미지를 생성하도록 적응된 제3 편광 카메라(11)를 포함한다. 따라서, 컨베이어 벨트(2)가 이동하는 동안, 제1 편광 카메라(4)는 구성요소의 제1 단부(52)의 제1 이미지를 생성하고, 제3 편광 카메라(11)는 구성요소의 제2 단부(53)의 제3 이미지를 생성한다. 바람직하게는, 제1 이미지 및 제3 이미지는 동시에 촬영된다. 따라서, 제1 단부(52) 및 제2 단부(53)에서 서셉터(55)의 오정렬이 검출될 수 있다.

제3 편광 카메라(11)는 또한 제어 유닛(30)에 의해 제어되고, 제3 이미지는 제어 유닛(30)에 의해 정교해질 수 있다.

도 5에서, 일반 시스템(20)의 제5 구현예가 도시되어 있으며, 참조 번호 80으로 표시되어 있다. 시스템(80)은 도 4의 시스템(70)과 동일한 요소를 포함하고, 게다가 이는 추가의 X-선 이미징 유닛(12)을 포함한다. X-선 이미징 유닛(12)은 제1 단부(52)와 제2 단부(53) 사이에서 구성요소(50)의 전체 길이에 걸쳐 구성요소(50)의 비파괴 이미지를 촬영하기에 적합하다. X-선 이미징 유닛(12)은 X-선 이미지를 생성하도록 적응된다. X-선 이미지는 상이한 밀도를 시각적으로 나타낼 수 있어서, 구성요소(50) 내부의 종이, 면, 겔, 구멍, 담배 및 서셉터와 같은 개별 요소의 해상도 및 그라데이션이 얻어질 수 있다.

X-선 이미징 유닛(12)은 또한 제어 유닛(30)에 의해 제어되고, X-선 이미지는 제어 유닛(30)에 의해 정교해질 수 있다. X-선 이미징 유닛(12)도 마찬가지로 시스템(1, 40, 60, 70)에 적용될 수 있다.

시스템(1, 40, 60, 70 또는 80)은 도 18에 개략적으로 도시된 본 발명의 방법에 따라 작동한다.

복수의 구성요소(50)는 길이방향 축(51)이 서로 평행한 상태로 컨베이어 벨트(2) 또는 드럼(8)과 같은 이동식 요소에 배치된다(단계 100). 이동식 요소(2 또는 8)가 이동하는 동안, 구성요소(50)의 각각의 제1 단부(52)는 제1 편광 카메라(4)의 시야 내로 연속적으로 진입한다(단계 101). 동일한 단계 101에서, 구성요소의 제2 단부(53)는 제3 편광 카메라(11)의 시야로 진입할 수 있다. 제1 단부(52)는 제1 광원(6)에 의해 조명된다(단계 102). 제1 광원(6)은 구성요소의 접근에 의해 스위치 온될 수 있다. 제1 단부(52)의 제1 이미지가 제1 편광 카메라(4)에 의해 생성된다(단계 103). 동일한 단계에서, 제2 단부(53)의 제3 이미지가 제3 편광 카메라(11)에 의해 생성될 수 있다. 제1 이미지(90)는 복수의 픽셀에 의해 형성된다. 각각의 픽셀은 구성요소의 제1 단부로부터 나오는 전자기 방사선의 편광 정보를 포함한다. 제1 이미지(90)의 예가 도 8에 주어진다. 이러한 이미지에서, 각각의 픽셀은 주어진 방향을 따라 편광의 값을 나타낸다. 여기에는 4개의 편광 방향이 있고, 따라서 각각의 픽셀은 이들 4개의 방향 중 하나를 따라 편광의 값을 제공한다. 제1 이미지(90)와 동일한 특징을 갖는 제3 이미지(미도시)가 제2 단부(53)에 대해 생성될 수 있다. 제1 이미지(90)의 다른 예가 도 11에 주어진다.

제어 유닛(30)은 제1 이미지(90)를 정교하게 하여, 정교한 이미지(91)를 생성한다(단계 104). 정교화된 이미지는 도 9에 도시되어 있다. 각각의 픽셀에 대한 정교화된 이미지(91)는 제1 편광 카메라(4)에 의해 검출된 전자기 방사선의 DOP를 나타낼 수 있다. 제3 이미지에 대해서도 동일한 정교화가 이루어질 수 있다. 도 9에서, 서셉터(55)가 제1 이미지(90)에서보다 정교화된 이미지(91)에서 더 잘 보이는 것은 명백하다. 정교화된 이미지(91)는, 도 10에 도시된 바와 같이, 더 정교화된 이미지(92)를 얻기 위해 스탠다드 머신 비전 알고리즘을 사용하여 더 정교해질 수 있다(단계 105). 이러한 알고리즘은 블럽(blob) 검출, 에지 검출, 영역 성장 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 추가로 정교화된 이미지로부터, 서셉터(55)의 위치가 식별될 수 있다(단계 106).

제1 편광 카메라(4)에 의해 얻어진 제1 이미지(900)의 정교화의 또 다른 예가 도 11 내지 도 14를 참조하여 도시되어 있다. 도 11은 각각의 픽셀이 주어진 방향을 따라 편광의 값을 나타내는 제1 이미지(900)이다. 여기에는 4개의 편광 방향이 있고, 따라서 각각의 픽셀은 이들 4개의 방향 중 하나를 따라 편광의 값을 제공한다. 각각의 픽셀에 대한 도 12의 정교화된 이미지(901)는 제1 편광 카메라(4)에 의해 검출된 전자기 방사선의 DOP를 나타낼 수 있다. 직사각형은 서셉터(55)의 위치를 강조하기 위해 사용된다. 도 12의 이미지(901)는 서셉터의 정의를 더 강화하기 위해 도 13의 더 정교화된 이미지(902)로 더 정교해질 수 있다. 도 14에서, 구성요소의 제1 단부(52)의 부분 이미지(903)가 도시되어 있다. 서셉터(55)는 제1 단부(52)에 식별되고 위치된다.

Claims (15)

1. 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 광학 분석을 위한 방법으로서, 방법은,
   - 제1 단부 및 제2 단부를 정의하는 에어로졸 발생 물품의 구성요소를 제공하는 단계로서, 상기 구성요소는
   o 에어로졸 형성 기재;
   o 상기 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하는 서셉터를 포함하는, 단계;
   - 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광 카메라를 제공하는 단계;
   - 전자기 방사선에 의해 구성요소를 조명하는 단계;
   - 상기 제1 편광 카메라에 의해 상기 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계;
   - 상기 제1 편광 카메라에 의해 상기 구성요소의 상기 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계로서, 상기 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 상기 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계; 및
   - 상기 제1 이미지에서 상기 서셉터의 위치를 검출하는 단계를 포함하는, 방법.
2. 제1항에 있어서,
   - 상기 제1 이미지 내 상기 편광 정보로부터:
   o 편광도; 또는
   o 편광 각도;
   중 하나를 평가하는 단계를 포함하는, 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 편광 카메라는 제1 중심 축을 갖는 제1 시야를 정의하고; 상기 방법은,
   - 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제2 편광 카메라를 제공하는 단계로서, 상기 제2 편광 카메라는 제2 중심 축을 갖는 제2 시야를 정의하고, 상기 제2 중심 축은 상기 제1 중심 축과 영(0)이 아닌 각도를 형성하는, 단계;
   - 상기 제2 편광 카메라에 의해 상기 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계;
   - 상기 제2 편광 카메라에 의해 상기 구성요소의 상기 제1 단부의 제2 이미지를 생성하는 단계로서, 상기 제2 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 상기 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계; 및
   - 상기 제1 이미지에 포함된 상기 편광 정보를 상기 제2 이미지에 포함된 상기 편광 정보와 조합하여 상기 구성요소의 제1 단부의 단일 조합 이미지를 얻는 단계를 포함하는, 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
   - 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제3 편광 카메라를 제공하는 단계;
   - 상기 제3 편광 카메라에 의해 상기 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 전자기 방사선을 검출하는 단계;
   - 상기 제3 편광 카메라에 의해 상기 구성요소의 상기 제2 단부의 제3 이미지를 생성하는 단계로서, 상기 제2 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 상기 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계; 및
   - 상기 제3 이미지에서 상기 서셉터의 위치를 검출하는 단계를 포함하는, 방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
   - 제1 전자기 방사선에 의해 상기 구성요소를 조명하는 단계;
   - 상기 제1 편광 카메라에 의해 상기 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 제1 전자기 방사선을 검출하는 단계;
   - 상기 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계로서, 상기 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 상기 제1 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계;
   - 상기 구성요소를 상기 제1 전자기 방사선과 상이한 제2 전자기 방사선으로 조명하는 단계;
   - 상기 제1 편광 카메라에 의해 상기 구성요소로부터 투과, 반사 또는 굴절된 제2 전자기 방사선을 검출하는 단계;
   - 상기 제1 편광 카메라에 의해 상기 구성요소의 제1 단부의 제4 이미지를 생성하는 단계로서, 상기 제4 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 검출된 상기 제2 전자기 방사선에 대한 편광 정보를 포함하는, 단계; 및
   - 상기 제1 이미지에 포함된 상기 편광 정보를 상기 제4 이미지에 포함된 상기 편광 정보와 조합하여, 상기 구성요소의 제1 단부의 단일 조합 이미지를 얻는 단계를 포함하는, 방법.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구성요소는 길이방향 축을 정의하고, 상기 제1 편광 카메라는 제1 시야를 가지며, 상기 방법은,
   - 이동식 이송부를 제공하는 단계;
   - 복수의 구성요소를 그들의 길이방향 축이 서로 실질적으로 평행한 상태로 상기 이동식 이송부 상에 위치시키는 단계;
   - 상기 이동식 지지부의 움직임에 의해 상기 제1 카메라의 제1 시야로 진입하는 상기 복수의 구성요소 중 일부에 대해 상기 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계를 포함하는, 방법.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구성요소는 길이방향 축을 정의하고, 상기 제1 편광 카메라는 제1 시야를 가지며, 상기 방법은,
   - 드럼을 제공하는 단계;
   - 복수의 구성요소를 그들의 길이방향 축이 서로 실질적으로 평행한 상태로 상기 드럼 상에 위치시키는 단계;
   - 상기 드럼을 회전시키는 단계;
   - 상기 드럼의 회전에 의해 상기 제1 카메라의 제1 시야로 진입하는 상기 복수의 구성요소 중 일부에 대해 상기 제1 단부의 제1 이미지를 생성하는 단계를 포함하는, 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 하나 이상의 항에 있어서,
   - 상기 서셉터의 위치에 기초하여 상기 구성요소를 폐기하는 단계를 포함하는, 방법.
9. 에어로졸 발생 물품의 구성요소의 생산을 위한 시스템으로서, 상기 구성요소는,
   - 길이방향 축;
   - 제1 단부 및 제2 단부;
   - 에어로졸 형성 기재;
   - 상기 에어로졸 형성 기재와 열 접촉하는 서셉터를 포함하고,
   상기 시스템은,
   - 상기 구성요소를 조명하도록 적응된 제1 전자기 방사원;
   - 전자기 방사선의 편광 정보를 검출하기 위한 센서를 포함하는 제1 편광화된 카메라로서, 상기 제1 편광 카메라는 제1 시야를 정의하고, 상기 제1 편광 카메라는 상기 구성요소의 제1 단부가 상기 제1 시야 내에 있도록 배열되고, 상기 제1 편광 카메라는 상기 구성요소의 제1 단부의 제1 이미지를 생성하도록 적응되고, 상기 제1 이미지는 복수의 픽셀에 의해 형성되고, 상기 복수의 픽셀의 각각의 픽셀은 상기 카메라에 의해 검출된 상기 전자기 방사선의 편광 정보를 포함하는, 제1 편광 카메라; 및
   - 상기 제1 이미지를 처리하고 상기 제1 이미지에서 상기 서셉터의 위치를 검출하도록 적응된 제어 유닛을 포함하는, 시스템.
10. 제9항에 있어서,
    - 길이방향 축이 서로 평행하게 배열된 복수의 구성요소를 이동시키도록 적응된 이동 요소를 포함하는, 시스템.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 서셉터의 위치에 기초하여 상기 구성요소를 제거하도록 적응된 제거 유닛을 포함하는, 시스템.
12. 제9항 내지 제11항 중 하나 이상의 항에 있어서, 상기 이동식 요소는 드럼 또는 컨베이어 벨트를 포함하는, 시스템.
13. 제9항 내지 제12항 중 하나 이상의 항에 있어서, 상기 전자기 방사원은 주어진 주파수로 상기 구성요소를 조명하도록 적응된 스트로보스코프 광(stroboscopic light)을 포함하는, 시스템.
14. 제13항에 있어서, 상기 스트로보스코프 광은 상기 구성요소 상에 상기 전자기 방사선을 집속시키기 위한 광학장치를 포함하는, 시스템.
15. 제9항 내지 제14항 중 하나 이상의 한 항에 있어서, 상기 구성요소를 조명하도록 적응된 제2 전자기 방사원으로서, 상기 제2 방사원은 상기 제1 방사원과 상이한, 제2 전자기 방사원을 포함하는, 시스템.

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