KR20220123048A - 캐리어 수송 시스템, 기판을 위한 캐리어, 진공 프로세싱 장치, 및 진공 챔버에서의 캐리어의 수송 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
[0015] 도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 캐리어 및 캐리어 수송 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0016] 도 2는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 캐리어의 개략적인 측면도를 도시한다.
[0017] 도 3은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시한다.
[0018] 도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 진공 챔버 내에서의 캐리어의 수송을 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
Claims (19)
- 진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000)으로서,
수송 방향으로 연장되는 트랙 조립체(1100)를 포함하며,
상기 트랙 조립체는,
제1 수직 좌표에 제공되고 상기 수송 방향으로 연장되는 제1 수동 자기 유닛(passive magnetic unit)(1110);
제2 수직 좌표에 제공되고 상기 수송 방향으로 연장되는 제2 수동 자기 유닛(1120) ―상기 제1 수동 자기 유닛(1110) 및 상기 제2 수동 자기 유닛(1120)은 상기 캐리어(1200)의 중량을 상쇄(counteract)하도록 구성됨―; 및
제3 수직 좌표에 제공되며, 그리고 상기 캐리어(1200)의 부분 중량을 지지하도록 구성되고 제3 수직 좌표에 제공되는 복수의 롤러들(1131)을 포함하는 롤러 수송 트랙(1130)
을 포함하며,
상기 제1 수직 좌표와 상기 제2 수직 좌표 사이의 제1 수직 거리는 상기 제2 수직 좌표와 상기 제3 수직 좌표 사이의 제2 거리보다 더 큰,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항에 있어서,
중력에 평행한 힘을 생성하는, 상기 수송 방향으로 연장되는 한 세트의 능동(active) 자석들을 갖는 구동 조립체(1140)를 더 포함하는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제2 항에 있어서,
상기 구동 조립체(1140)는 추가로, 상기 수송 방향으로 힘을 제공하도록 구성되는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제2 항 또는 제3 항에 있어서,
상기 제2 수동 자기 유닛(1120)의 상기 제2 수직 좌표는 상기 제1 수동 자기 유닛(1110)의 상기 제1 수직 좌표와 상기 구동 조립체(1140)의 상기 한 세트의 자석들(1141) 사이에 수직으로 위치되는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항 내지 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수송 방향은 본질적으로 수평인,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캐리어(1200)는 수직 또는 거의 수직(near-vertical) 배향으로 수송되도록 구성되는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 수동 자기 유닛(1110)은 상기 캐리어(1200)의 중량의 적어도 20%를 상쇄하도록 구성되고, 상기 제2 수동 자기 유닛(1120)은 상기 캐리어(1200)의 중량의 적어도 60%를 상쇄하도록 구성되는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 수동 자기 유닛(1110) 및 상기 제2 수동 자기 유닛(1120)의 자극들(1111, 1112, 1121, 1122)은 상기 캐리어(1200)의 측방향 안내를 위해 구성되는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 제1 항 내지 제8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 롤러들(1131)은 개개의 롤러들의 회전 축에 적어도 부분적으로 평행하게 연장되며, 특히, 상기 복수의 롤러들(1131)의 일부분은 원통형 형상을 갖는,
진공 챔버 내에서 캐리어(1200)를 수송하기 위한 캐리어 수송 시스템(1000). - 기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치에서 프로세싱될 기판을 위한 캐리어로서,
제1 수직 캐리어 좌표에 제공된 제1 수동 자기 유닛(1210);
제2 수직 캐리어 좌표에 제공된 제2 수동 자기 유닛(1220); 및
제3 수직 캐리어 좌표에 제공된 제3 수동 자기 유닛(1230)
을 포함하며,
상기 제1 수직 캐리어 좌표와 상기 제2 수직 캐리어 좌표 사이의 제1 수직 캐리어 거리는 상기 제2 수직 캐리어 좌표와 상기 제3 수직 캐리어 좌표 사이의 제2 캐리어 거리보다 더 큰,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치에서 프로세싱될 기판을 위한 캐리어. - 제10 항에 있어서,
상기 제2 수동 자기 유닛(1220)은 상기 제1 수동 자기 유닛(1210)에 대하여 측방향으로 오프셋되고, 상기 오프셋은 상기 수송 방향에 직각(perpendicular)인 방향으로 그리고 상기 수직 방향에 대해 일정 방향으로 이루어지는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치에서 프로세싱될 기판을 위한 캐리어. - 제10 항 또는 제11 항에 있어서,
복수의 롤러들(1131) 중 적어도 하나의 롤러의 최상부 표면과 접촉하도록 구성된 제1 레일(1241); 및
상기 복수의 롤러들(1131) 중 상기 적어도 하나의 롤러의 최하부와 접촉하도록 구성된 제2 레일(1242)
을 더 포함하는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치에서 프로세싱될 기판을 위한 캐리어. - 기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치로서,
진공 챔버(2100); 및
제1 항 내지 제9 항 중 어느 한 항에 따른 캐리어 수송 시스템(1000)
을 포함하는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치. - 제13 항에 있어서,
상기 진공 챔버(2100) 내의 증착 장치(2200)를 더 포함하는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치. - 제13 항 또는 제14 항에 있어서,
제10 항 내지 제12 항 중 어느 한 항에 따른 캐리어를 더 포함하는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치. - 제15 항에 있어서,
상기 트랙 조립체(1100)의 상기 제1 수동 자기 유닛(1110)은, 상기 캐리어(1200)의 상기 제1 수동 자기 유닛(1210)과 커플링되는, 상기 캐리어(1200)의 최상부에 있도록 구성되는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치. - 제15 항 또는 제16 항에 있어서,
상기 트랙 조립체(1100)의 상기 제2 수동 자기 유닛(1120)은, 상기 캐리어(1200)의 상기 제2 수동 자기 유닛(1220)과 커플링되는, 상기 캐리어(1200)의 측면(side)에 있도록 구성되는,
기판(2000)의 진공 프로세싱을 위한 장치. - 진공 챔버(2100) 내에서의 캐리어(3000)의 수송을 위한 방법으로서,
제1 수동 자기 유닛들에 의한 상기 캐리어(1200)의 중량의 부분 상쇄로 트랙 조립체(1100) 상에서 상기 캐리어(1200)를 수송하는 단계;
제2 수동 자석 유닛들에 의한 상기 캐리어(1200)의 중량의 부분 상쇄로 상기 트랙 조립체(1100) 상에서 상기 캐리어(1200)를 수송하는 단계; 및
상기 캐리어(1200)의 부분 중량이 복수의 롤러들(1131) 중 적어도 하나의 롤러 상에 있는 상태로 상기 트랙 조립체(1100) 상에서 상기 캐리어(1200)를 수송하는 단계
를 포함하는,
진공 챔버(2100) 내에서의 캐리어(3000)의 수송을 위한 방법. - 제18 항에 있어서,
구동 조립체(1140)를 이용하여 수송 방향으로 상기 캐리어를 수송하는 단계를 더 포함하는,
진공 챔버(2100) 내에서의 캐리어(3000)의 수송을 위한 방법.
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20080046761A (ko) * | 2006-11-23 | 2008-05-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판이송장치 및 이를 구비하는 박막 형성 장치 |
| KR100880877B1 (ko) * | 2007-11-02 | 2009-01-30 | 한국기계연구원 | 자기부상형 기판 이송장치 |
| KR100945456B1 (ko) * | 2009-09-04 | 2010-03-05 | (주)엔피엘 | 피구동체와 무접촉 상태에서 피구동체를 왕복이동시키는 장치 |
| KR20120088980A (ko) * | 2011-02-01 | 2012-08-09 | (주)이루자 | 진공 처리 장치 |
| WO2020043277A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a first carrier and a second carrier, processing system for vertically processing a substrate, and methods therefor |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6206176B1 (en) * | 1998-05-20 | 2001-03-27 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Substrate transfer shuttle having a magnetic drive |
| JP4428799B2 (ja) | 2000-04-03 | 2010-03-10 | キヤノン株式会社 | 磁気支持機構、位置決め装置および半導体デバイス製造方法 |
| KR101288599B1 (ko) | 2007-05-29 | 2013-07-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판 이송 장치 |
| JP4505002B2 (ja) | 2007-08-27 | 2010-07-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | 搬送装置 |
| US7770714B2 (en) * | 2007-08-27 | 2010-08-10 | Canon Anelva Corporation | Transfer apparatus |
| KR101243743B1 (ko) | 2010-02-18 | 2013-03-13 | 주식회사 아바코 | 기판 이송 장치, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법 |
| JP6156716B2 (ja) * | 2012-08-21 | 2017-07-05 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 搬送装置 |
| JP6098923B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-03-22 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 搬送装置 |
| EP3102715A1 (en) | 2014-02-04 | 2016-12-14 | Applied Materials, Inc. | Evaporation source for organic material, apparatus having an evaporation source for organic material, system having an evaporation deposition apparatus with an evaporation source for organic materials, and method for operating an evaporation source for organic material |
| CN109699190B (zh) | 2017-08-24 | 2023-04-28 | 应用材料公司 | 在真空处理系统中非接触地传输装置及方法 |
| US20210363627A1 (en) | 2018-04-26 | 2021-11-25 | Applied Materials, Inc. | Vacuum processing system and method of operating a vacuum processing system |
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Patent Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| KR20080046761A (ko) * | 2006-11-23 | 2008-05-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 기판이송장치 및 이를 구비하는 박막 형성 장치 |
| KR100880877B1 (ko) * | 2007-11-02 | 2009-01-30 | 한국기계연구원 | 자기부상형 기판 이송장치 |
| KR100945456B1 (ko) * | 2009-09-04 | 2010-03-05 | (주)엔피엘 | 피구동체와 무접촉 상태에서 피구동체를 왕복이동시키는 장치 |
| KR20120088980A (ko) * | 2011-02-01 | 2012-08-09 | (주)이루자 | 진공 처리 장치 |
| WO2020043277A1 (en) * | 2018-08-29 | 2020-03-05 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for transportation of a first carrier and a second carrier, processing system for vertically processing a substrate, and methods therefor |
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