KR20220162242A - 식기 세척기 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 식기 세척기 및 방법에 관한 것이다.
이를 위해, 본원 발명의 식기 세척기는 외관을 이루고 전방이 개구되는 케이스, 상기 케이스의 개구된 전방을 밀폐시키는 도어를 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 식기 세척기는 식기 세척기의 세척수를 집수하고 이물을 걸러서 분사되도록 하는 섬프, 상기 섬프의 하부에 배치되어 상기 식기 세척기의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하는 분광 카메라, 상기 잔수를 가열하는 히터, 및 상기 분광 카메라 및 상기 히터와 전기적으로 연결된 프로세서를 포함할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서는, 분광 카메라를 통해 획득된 상기 적어도 하나의 이미지를 분석하여, 상기 잔수의 오염 정도를 식별하고, 상기 식별된 오염 정도에 기반하여, 상기 잔수의 살균, 및 상기 잔수의 희석 및 상기 잔수의 배출 중 적어도 하나를 수행하도록 설정될 수 있다.

Description

식기 세척기 및 방법{A DISHWASHER AND METHOD}
본 발명은 식기 세척기 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 식기 세척기는 고압의 세척수를 분사하여, 식사 후 식기에 흡착된 음식물 또는 오물을 제거하여 식기를 세척해주는 장치이다. 이러한 식기 세척기는 식기 세척을 위해 여러 단계의 과정을 거쳐 동작한다.
종래 선행 문헌(KR 10-2017-0140354 A)은 분광기를 이용하여 세척수에 섞여 있는 오물을 측정하여 세척제 또는 세제를 계량하고, 세척 물품을 세척하는 장치이다. 그러나, 이러한 선행 문헌은 단지 세척수 내의 오물을 측정하여 세척 매개변수들의 조정을 통해 세척 물품을 세척할 뿐, 세척수 내의 세균에 의한 오염 정도를 측정하거나, 이를 통해 식기 세척기의 동작을 제어하거나 활용하는 내용을 개시하고 있지 않다.
또한, 종래의 식기 세척기는 식기 량을 통해 세척 코스를 분기시켜 동작시키는 내용을 개시하고 있을 뿐, 식기 세척기의 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도에 따라 식기 세척기를 동작시키는 내용을 개시하고 있지 않다.
또한, 종래의 식기 세척기는 분광기를 이용하여 식기에 부착되어 있는 오염을 측정할 뿐, 식기 세척기의 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도에 따라 식기 세척기를 동작시키지 않는다.
이와 같이, 종래 식기 세척기는 단지 분광기를 이용하여 식기 세척기 내의 오염을 측정할 뿐, 식기 세척기 내의 잔수에 포함된 세균의 오염 정도에 따라 식기 세척기가 동작되지 않는다.
이러한 이유로, 종래 식기 세척기는 잔수에 존재하는 세균을 효과적으로 살균처리 하지 못했을 뿐만 아니라, 세균에 의한 오염 정도가 심한 경우, 잔수를 살균 또는 잔수를 적절하게 교체하지 않았다.
따라서, 식기 세척기의 하부의 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도에 기반하여, 잔수의 살균, 및 잔수의 배출 여부를 결정하여, 잔수에 존재하는 세균을 제거하고, 식기 세척기 내의 잔수를 깨끗한 상태로 유지할 필요성이 제기된다.
KR 10-2017-0140354 A
따라서, 본 발명은 식기 세척기의 잔수의 하부에 카메라를 배치하여 잔수에 대한 이미지를 획득하는 식기 세척기 및 방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 잔수에 대한 이미지를 분석하여 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별하는 식기 세척기 및 방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 잔수에 존재하는 세균의 오염 정도를 식별하여, 잔수의 희석, 잔수의 살균, 및 잔수의 배출을 제어하는 식기 세척기 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구 범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 분광 카메라를 식기 세척기의 하부에 배치하여 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 측정할 수 있다.
또한, 본 발명은 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도에 기반하여, 식기 세척기 내의 잔수의 희석, 잔수의 살균, 및 잔수의 배출을 수행할 수 있다.
또한, 본 발명은 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도와 기준 값을 비교하여, 식기 세척기의 동작을 적절히 제어할 수 있다.
이를 위해, 본원 발명의 식기 세척기는 외관을 이루고 전방이 개구되는 케이스, 상기 케이스의 개구된 전방을 밀폐시키는 도어를 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 식기 세척기는 식기 세척기의 세척수를 집수하고 이물을 걸러서 분사되도록 하는 섬프, 상기 섬프의 하부에 배치되어 상기 식기 세척기의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하는 분광 카메라, 상기 잔수를 가열하는 히터, 및 상기 분광 카메라 및 상기 히터와 전기적으로 연결된 프로세서를 포함할 수 있다.
그리고, 상기 프로세서는, 분광 카메라를 통해 획득된 상기 적어도 하나의 이미지를 분석하여, 상기 잔수의 오염 정도를 식별하고, 상기 식별된 오염 정도에 기반하여, 상기 잔수의 살균, 및 상기 잔수의 희석 및 상기 잔수의 배출 중 적어도 하나를 수행하도록 설정될 수 있다.
또한, 본원 발명의 식기 세척기는 식기 세척기의 하부에 배치된 분광 카메라를 통해 식기 세척기의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하고, 상기 획득된 적어도 하나의 이미지를 분석할 수 있다.
그리고, 이러한 분석에 기반하여, 식기 세척기의 잔수의 오염 정도를 식별하고, 상기 식별된 오염 정도에 기반하여, 상기 잔수의 살균, 및 상기 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정으로 동작될 수 있다.
본 발명은 식기 세척기 하부의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 이미지를 통해 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별하고, 이러한 식별에 기반하여 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행함으로써, 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 농도를 줄이거나 제거할 수 있다.
또한, 본 발명은 분광 카메라를 통해 획득된 적어도 하나의 이미지를 통해 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수의 파장에 따른 흡수율을 분석하고, 상기 분석된 흡수율에 기반하여 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별함으로써, 식별된 오염 정도에 따라 식기 세척기의 동작을 서로 다르게 제어할 수 있다.
또한, 본 발명은 분광 카메라를 통해 획득된 파장 별 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성하고, 상기 합성된 이미지에서 잔수의 오염에 의한 면적 및 명암 중 적어도 하나의 흡수율을 분석함으로써, 사용자는 잔수의 오염 정도에 대한 정보를 시각적으로 확인할 수 있다.
또한, 본 발명은 잔수의 오염 정도가 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 잔수에 세척수를 공급하여 잔수의 희석 및 배출을 수행함으로써, 식기 세척기를 클린 상태로 유지 및 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 잔수의 오염 정도가 제2 기준 값을 초과하는 경우, 잔수를 살균, 및 잔수 배출을 수행함으로써, 식기 세척기의 하부를 멸균 상태로 유지 및 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은 잔수의 오염 정도가 제1 기준 값 및 제2 기준 값 중 어느 하나를 초과하는 경우, 식기 세척기의 급수 장치를 통해 세척수를 투입시키고, 세척수의 투입과 동시에 식기 세척기의 잔수를 배출시킴으로써, 잔수의 오염 정도를 항상 낮은 수준으로 유지시킬 수 있다.
또한, 본 발명은 식기 세척기가 식기에 대한 행정을 수행하는 중에, 카메라를 통해 획득한 상기 적어도 하나의 이미지를 이용하여 상기 잔수에 존재하는 세균의 양을 측정함으로써, 식기 세척기가 행정 중 어느 시점에서도 식기 세척기의 내부를 살균 처리할 수 있다.
또한, 본 발명은 세균의 양에 따라, 히터를 제어하여 잔수의 살균 강도를 조절함으로써, 적응적으로 살균 처리의 동작을 수행할 수 있다.
상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 도어가 열린 상태를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 측단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 필터장치를 분해한 분해도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에서 필터 챔버와 필터 챔버에 삽입된 필터장치의 하부에 카메라를 배치한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 동작을 제어하는 장치의 블록도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 나타낸 순서도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 나타낸 순서도이다.
도 8a는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균이 기준 값 이하인 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다.
도 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균의 양이 적은 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다.
도 8c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균의 양이 많은 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다.
전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것으로, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 제1 구성요소는 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
이하에서 구성요소의 "상부 (또는 하부)" 또는 구성요소의 "상 (또는 하)"에 임의의 구성이 배치된다는 것은, 임의의 구성이 상기 구성요소의 상면 (또는 하면)에 접하여 배치되는 것뿐만 아니라, 상기 구성요소와 상기 구성요소 상에 (또는 하에) 배치된 임의의 구성 사이에 다른 구성이 개재될 수 있음을 의미할 수 있다.
또한 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 상기 구성요소들은 서로 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성요소 사이에 다른 구성요소가 "개재"되거나, 각 구성요소가 다른 구성요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있는 것으로 이해되어야 할 것이다.
명세서 전체에서, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 각 구성요소는 단수일수도 있고 복수일 수도 있다.
본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다.
명세서 전체에서, "A 및/또는 B" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, A, B 또는 A 및 B 를 의미하며, "C 내지 D" 라고 할 때, 이는 특별한 반대되는 기재가 없는 한, C 이상이고 D 이하인 것을 의미한다
이하에서는, 본 발명의 몇몇 실시 예에 따른 식기 세척기 및 이의 동작 방법을 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 도어가 열린 상태를 나타낸 사시도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기(100)의 외관은 전방이 개구되는 케이스(100), 케이스의 개구된 전방을 밀폐시키는 도어(120)로 형성되어 있다. 케이스(100)와 식기 세척기의 전방에 배치된 도어(120)는 내부 공간을 밀폐시킴으로써, 식기를 세척하는 동안 세척수 또는 세제가 외부로 유출되지 않도록 형성될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 도어(120)가 개방되는 경우, 도어(120)는 케이스(110)와 약 90도 각도를 이루며 열릴 수 있다. 식기 세척기(100)의 내부에는 세척수가 수용되는 터브(113), 터브(113)의 하측 면(섬프 덮개(114)의 하부)에 세척수를 집수하고 이물을 걸러서 분사되도록 하는 섬프, 섬프와 연결되어 회전하며 세척수를 터브 내부로 분사하는 적어도 하나의 노즐(112a, 112b), 및 식기를 적재하는 랙(111)을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 도어(120)의 일 측에는 식기를 적재하는 랙(121)을 포함할 수 있다.
이러한 식기 세척기가 식기를 세척하는 경우, 부피가 큰 음식물은 식기에서 가장 먼저 제거되어 식기 세척기의 터브 하 측면에 수집될 수 있다. 그리고, 이 후 식기 세척기의 동작 과정(예: 세척, 헹굼 및 건조 순서)이 지속됨에 따라 부피가 작은 음식물이 차례로 식기에서 제거되며 식기가 세척될 수 있다. 그리고, 제거된 음식물은 식기 세척기의 터브 하 측면으로 수집될 수 있다.
도 1의 식기 세척기의 외관은 일 실시 예이며, 본 발명의 실시 예에 따른 식기 세척기는 다른 외관을 갖는 식기 세척기에서도 적용될 수 있음은 자명하다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 측 단면을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 식기 세척기(100)는 세척수를 터브(113) 내의 세척 공간(210)으로 분사하는 복수의 노즐들(112a, 112b), 섬프(223)에 저장된 세척수를 복수의 노즐들(112a, 112b)로 공급하는 세척 펌프(예: 도 5의 펌프(540)), 상기 세척 펌프의 하부에 배치되어, 세척수를 가열하는 히터(예: 도 5의 560), 터브(113) 내부에 세척 대상인 식기를 수용하는 랙(111, 121), 섬프(223) 내부의 일 측에 형성된 필터 챔버(222) 및 필터 챔버(222) 내부에 삽입되어 세척수에 포함된 오염물을 필터링하는 필터장치(예: 도 3의 300)를 포함할 수 있다.
또한, 상기 식기 세척기(100)는 세척수를 살균 처리하는 적어도 하나의 발광 소자(예: UVC LED)를 포함할 수 있다. 예를 들면, 적어도 하나의 발광 소자는 펌프(540)의 일 측에 배치될 수 있다. 또한, 상기 식기 세척기(100)는 외관 상에 잔수의 오염 정도, 식기의 동작 과정 등에 대한 다양한 정보를 표시하는 표시부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 표시부(미도시)는 식기 세척기(100)의 도어(120)의 외관에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 식기 세척기(100)는 크기 또는 종류에 따라 내부에 하나 또는 3개 이상의 노즐들이 배치될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 세척수에 의해 식기로부터 제거된 오염물은 터브(113)의 하 측면인 섬프 덮개(114)에 퇴적된다. 섬프 덮개(114)에는 메쉬가 포함되어 제거된 오염물 중 부피가 매우 큰 오염물은 섬프 덮개(114)에 의해 필터링된다.
그러나, 부피가 크지 않은 오염물은 섬프 덮개(114)와 연결된 제1 필터(도 3의 310)의 상측에 위치하는 유입구(도 4의 411)를 통과하여 섬프(223) 내부로 유입될 수 있다.
따라서, 섬프(223) 내부의 일측에는 세척수에 포함된 오염물을 추가적으로 필터링하는 필터장치(도 3의 300)가 배치될 수 있다. 필터장치(도 3의 300)의 상세한 구조 및 기능에 대해서는 후술하도록 한다.
일 실시 예에 따르면, 식기 세척기(100)는 식기 세척기(100)의 내부로 세척수를 공급하는 급수장치(예: 도 5의 510)와 식기세척기 내부에 저장된 물을 배수하는 배수장치(220)(예: 도 5의 520)를 포함할 수 있다. 상기 급수장치는 외부수원으로부터 세척수가 공급되는 급수유로를 형성하는 급수관(224)과, 급수관(224)에 형성되는 급수유로를 개폐하는 급수밸브(미도시)를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 배수장치(220)는 섬프(223)에 저장된 물을 외부로 안내하는 배수유로(430)가 형성된 배수관(225)과, 배수관(225)에 형성된 배수유로(430) 상에 배치되어, 섬프(223) 내의 세척수를 배수모터(미도시)를 통해 외부로 배수하는 배수펌프(221)를 포함할 수 있다.
이에 따라, 일 실시 예에 따른 식기 세척기(100)는 급수장치를 통해 세척수를 공급받고, 공급된 세척수를 이용하여 식기를 세척한 후, 세척이 종료되면 배수장치를 통해 저장된 세척수를 배출하게 된다.
일 실시 예에 따르면, 세척수의 급수와 배수과정에서 식기로부터 제거된 오염물이 세척수에 섞이게 되므로 섬프(223) 일측의 필터 챔버(222)에는 순환된 세척수에서 오염물을 걸러주는 필터장치(300)가 배치될 수 있다. 이하 필터장치(300)의 구조에 대해 도 3을 참조하여 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 필터장치를 분해한 분해도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 필터장치(300)는 필터 챔버(222) 내부에 탈착 가능하게 삽입되며, 세척수에 포함된 오염물을 걸러주는 역할을 한다. 필터장치(300)는 세척수로부터 비교적 큰 오염물을 걸러주는 제1 필터(310)와, 제1 필터(310) 외측에 설치되어 제1 필터(310)를 통과한 세척수로부터 비교적 작은 오염물을 걸러주는 제2 필터(320) 그리고, 제2 필터(320)의 외측에 설치되어 미세한 오염물을 걸러주는 제3 필터(330)를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 제1필터(310), 제2필터(320) 및 제3필터(330)는 각각 밑면이 개구된 원통형상으로 이루어지고 측면에는 메쉬가 구비되어 세척수에 포함된 오염물을 걸려낼 수 있도록 형성될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1필터(310)가 오염물을 걸러내는 구멍 크기보다 제2필터(320)의 메쉬 구멍크기가 작고, 상기 제2필터(320)의 메쉬의 구멍 크기보다는 제3필터(330)의 메쉬 구멍 크기가 작아지도록 하는 것이 바람직하다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에서 필터 챔버와 필터 챔버에 삽입된 필터장치의 하부에 카메라를 배치한 단면도이다.
도 4를 참조하면, 제1필터(310)의 상 측에 위치하는 유입구(411)로 세척수가 유입된 후, 상기 제1필터(310)의 아래쪽 둘레에 위치하는 배출구(412)로 배출되며, 이때 비교적 부피가 큰 오염물은 배출구(412)를 통과하지 못하고 제1필터(310)에 의해서 걸러질 수 있다.
그후, 제1 필터(310)의 둘레로 빠져나온 세척수는 다시 상기 제2 필터(320)의 둘레에 형성된 메쉬를 지나가게 되는데, 이때 비교적 작은 오염물이 상기 메쉬에서 필터링 된다. 그후, 다시 세척수는 좀더 미세한 메쉬를 가진 제3 필터(330)를 거치면서 다시 한번 필터링 되어서 상기 필터장치(300)를 모두 통과하여 다시 식기를 세척하는 과정으로 투입된다. 상기 제3 필터(330)를 통과하지 못한 이물질(413)은 제2 필터(320)와 제3 필터(330) 사이에 존재하게 된다.
그리고, 세척수가 필터장치(300)를 통과하면서 걸러진 오염물들은 상기 필터장치(300)에 포집된 후, 식기 세척기(100)의 배수과정에서 배수유로(430)를 통해 식기 세척기(100)의 외부로 배출된다.
일 실시 예에 따르면, 섬프(223)의 하부에는 적어도 하나의 카메라(420)가 배치될 수 있다. 상기 카메라(420)는 식기 세척기(100)의 하부에 존재하는 잔수(440)에 대한 적어도 하나의 이미지를 획득할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 카메라(420)는 식기 세척기(100)의 하부에 존재하는 잔수(440)에 대한 적어도 하나의 이미지를 지속적으로 획득할 수 있다. 예를 들어, 상기 카메라(420)는 파장 별 적어도 하나의 이미지를 획득하는 분광 카메라를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 카메라(420)는 필터 챔버(222) 바닥에서 필터장치(300)의 내부방향으로 잔수(440)에 포함된 세균의 정도, 또는 세균의 양을 식별할 수 있는 다양한 촬영 디바이스를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 식기 세척기(100)가 동작되는 동안 세척수는 필터장치(300)를 통과하며 반복적으로 재사용되고 노즐(112a, 112b)을 통해 터브 내부의 세척실(210)로 분사될 수 있다. 이 경우, 세척수의 흐름에 따라 세척수에 포함된 오염물의 대부분은 필터 챔버(222) 바닥으로 낙하하지 않고 필터장치(300)의 원통형 둘레를 따라 측면의 메쉬에 남게 된다.
따라서, 카메라(420)는 필터 챔버(222) 바닥으로부터 필터장치(300) 내부를 향하는 방향으로 잔수(440)에 대한 이미지를 획득할 수 있다. 상기 카메라(420)는 이러한 잔수(440)에 대한 이미지를 통해 잔수(440)에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 지속적으로 측정할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 필터 챔버(222) 바닥에는 홈이 형성되어 있을 수 있다. 카메라(420)는 필터 챔버(222) 바닥에 형성된 홈 내부에 배치되고, 홈을 덮는 투명한 재질의 가림막은 상기 카메라(420)의 상면에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 카메라(420)는 필터 챔버(222) 바닥에 형성된 홈 내부에 배치됨으로써, 잔수에 포함된 오염물의 이동에 따른 충돌로 렌즈가 물리적으로 파손되거나, 물기 또는 습기 등에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 카메라(420)는 필터 챔버(222) 바닥에 배치되어 필터장치(300) 내부 전체를 촬영하기 때문에 사각지대 없이 잔수에 대한 이미지를 획득할 수 있어 카메라(420) 설치에 따른 비용을 절감할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 동작을 제어하는 장치의 블록도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 동작을 제어하는 장치(500)는 급수장치(510), 배수장치(520), 저장부(530), 카메라(420), 펌프(540), 히터(560), 제1 노즐(112a), 제2 노즐(112b), 및 프로세서(550)를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 식기 세척기(100)는 탁도 센서(미도시)를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 탁도 센서(미도시)는 상기 카메라(420)가 위치한 자리에 카메라(420)를 대신하여 배치될 수 있다.
도 5에 도시된 식기 세척기의 동작을 제어하는 장치(500)의 구성은 일 실시 예에 따른 것이고, 장치(500)의 구성 요소들이 도 5에 도시된 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 일부 구성 요소가 부가, 변경 또는 삭제될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 급수장치(510)는 식기 세척기(100)의 내부로 물을 공급할 수 있다. 상기 급수장치(510)는 외부수원으로부터 물이 공급되는 급수유로를 형성하는 급수관(224)과, 급수관(224)에 형성되는 급수유로를 개폐하는 급수밸브(미도시)를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 배수장치(520)는 식기세척기(110) 내부에 존재하는 물을 외부로 배수할 수 있다. 상기 배수장치(520)는 섬프(223)에 저장된 물을 외부로 유도하는 배수유로(430)가 형성된 배수관(225)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 배수장치(520)는 상기 배수관(225)에 형성된 배수유로(430) 상에 배치되어 섬프(223) 내의 세척수를 배수모터(미도시)를 통해 외부로 배수하는 배수펌프(221)를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 카메라(420)는 적어도 하나의 분광 카메라를 포함할 수 있다. 상기 분광 카메라는 가시광선, 자외선, 적외선, X선 등의 스펙트럼 사진을 촬영하는 장치이다. 이러한 분광 카메라는 빛을 슬릿에 비추어 통과시킨 뒤 시준기 렌즈를 이용하여 평행광선으로 만든 다음, 그 빛을 렌즈에 비추어 스펙트럼을 촬영한다. 이 때, 사용되는 렌즈는 색수차가 일어나지 않도록 보정된 것을 사용해야 한다. 상기 카메라(420)는 파장 대역(예: 400nm~1000nm)을 가지며, 각 파장 별로 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 카메라(420)는 획득된 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 프로세서(550)로 전달할 수 있다. 상기 카메라(420)는 식기 세척기(100)의 하부에 존재하는 잔수(440)의 아래에 배치될 수 있다. 잔수(440)와 카메라(420) 사이에는 투명한 재질의 막이 배치될 수 있고, 이러한 구조를 통해 카메라(420)는 잔수에 대한 이미지를 획득할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 탁도 센서(미도시)는 잔수의 흡수율에 대한 정보를 획득하여 상기 프로세서(550)로 제공할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 저장부(530)는 상기 식기 세척기(100)의 적어도 하나의 구성요소(예: 급수장치(510), 배수장치(520), 카메라(420), 펌프(540), 히터(560), 제1 노즐(112a), 제2 노즐(112b), 및 프로세서(550))에 의해 획득되거나 또는 사용되는 다양한 데이터(예: 소프트웨어, 어플리케이션, 획득된 정보, 측정된 정보, 제어 신호 등), 및 이와 관련된 명령어들을 저장할 수 있다.
예를 들면, 상기 저장부(530)는 식기 세척기(100)의 각 행정(또는 동작 과정)(예: 세척 과정, 헹굼 과정, 및 추가 헹굼 과정, 가열 헹굼 과정, 건조 과정, 세균의 양 또는 농도를 측정하는 과정 등)에 대한 적어도 하나의 명령어를 저장할 수 있다. 상기 저장부(530)는 이러한 각 행정(또는 동작 과정)에 기반하여 식기 세척기(100)가 동작되도록 하는 다양한 프로그램들을 저장할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 저장부(530)는 식기 세척기(100)의 동작에 필요한 정보, 데이터, 프로그램 등이 저장될 수 있다. 구체적으로, 저장부(530)에는 식기 세척기(100)의 운전 모드(예: 세척 모드, 헹굼 모드, 및 건조 모드 등)에 관한 정보가 미리 저장될 수 있다. 상기 정보는 각 운전 모드에 따른 운전 시간에 대한 정보를 포함할 수 있다. 또한, 상기 정보는 각 운전 모드에 따른 동작 순서에 대한 정보를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 펌프(540)는 적어도 하나의 노즐(예: 제1 노즐(112a), 제2 노즐(112b))로 세척수를 공급하도록 프로세서(550)에 의해 동작할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 히터(560)는 상기 펌프(540)의 하부에 배치되어, 제1 노즐(112a) 및 제2 노즐(112b)를 통해 식기 세척기 내부로 분사될 세척수를 사전에 가열하여, 세척수 내부에 존재하는 다양한 세균을 살균 처리할 수 있다.
또한, 상기 히터(560)는 세균의 양에 따라, 상기 프로세서(550)의 제어 하에, 살균하는 강도가 조절될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 식기 세척기(100)는 살균 처리를 위해 히터(560)가 구비되거나, 또는 적어도 하나의 발광 소자(예: UVC LED)를 포함할 수 있다. 상기 적어도 하나의 발광 소자는 세척수(예: 잔수)에 존재하는 세균을 살균 처리하는 적절한 위치에 배치될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 노즐(112a) 및 상기 제2 노즐(112b) 중 적어도 하나는 상기 펌프(540)에 의해 공급되는 세척수를 식기 세척기(100)의 내부로 분사할 수 있고, 식기 세척기(100)의 내부로 세척수가 골고루 분사되도록 360도 회전할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 카메라(420)로부터 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지(예: 제1 이미지)를 획득하여 분석함으로써, 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별할 수 있다. 이를 위해, 상기 프로세서(550)는 상기 카메라(420)로부터 파장 별 적어도 하나의 이미지를 획득할 수 있다.
그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 적어도 하나의 이미지를 획득하고, 상기 획득된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 구분된 명암이나 색상에 의한 영역의 면적을 계산하여 흡수율을 분석하고, 상기 분석된 흡수율에 기반하여 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도(예: 세균의 양) 식별할 수 있다. 상기 적어도 하나의 이미지(예: 제1 이미지)는 식기 세척기 내의 잔수에 세균이 어느 정도 존재하는지를 판단하기 위해 획득될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 카메라(420)를 통해 획득된 파장 별 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 합성된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분하고, 세균 및 오염물에 의한 영역의 면적을 계산하여 흡수율을 획득하고, 잔수에 포함된 세균 및 오염물의 양을 측정할 수 있다. 본 발명에서 사용하는 흡수율이라는 용어는 이미지의 영역에서 특정 빛의 파장에 해당하는 영역이 차지하는 비율을 의미한다.
또는, 상기 프로세서(550)는 합성된 이미지에 기반하여 세균의 오염 정도를 나타내는 정보(또는 이미지)를 표시부(미도시)를 통해 표시할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 카메라(420)를 통해 획득된 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 합성된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 분석하고, 상기 영역의 면적을 계산하여 잔수에 존재하는 세균의 양을 측정할 수 있다.
또는, 상기 프로세서(550)는 카메라(420)(예: 분광 카메라)에서 제공되는 다양한 기능을 통해 잔수에 존재하는 세균의 양 또는 오염 정도에 대한 정보를 획득할 수도 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 세균의 양 또는 오염 정도에 기반한 흡수율과 이에 대응하는 기준 값(예: 흡수율)을 비교할 수 있다. 예를 들면, 상기 프로세서(550)는 잔수의 세균의 양에 따른 오염 정도를 판단하여 잔수의 살균 또는 배출을 결정하기 위한 기준 값을 설정할 수 있다.
이와 같이, 상기 프로세서(550)가 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도와 이에 대응하는 기준 값을 비교하는 이유는, 상기 세균의 양 또는 오염 정도에 따라 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 살균 처리할지 또는 새로운 물을 공급할지를 결정하기 위함이다.
또는, 상기 프로세서(550)가 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도와 이에 대응하는 기준 값을 비교하는 이유는, 식기 세척기(100)에 물(약 0.5 리터)을 투입시키고, 물의 투입과 동시에 세척기의 잔수를 배수 장치(520)를 통해 배출시킴으로써, 잔수에 포함된 세균의 양 또는 농도를 낮추기 위함이다.
또는, 상기 프로세서(550)가 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도와 이에 대응하는 기준 값을 비교하는 이유는, 식기 세척기(100)에 물(약 0.8 리터)을 투입시키고, 세척수를 히터(560)를 통해 미리 결정된 시간(예: 5분) 동안 가열한 후, 세척기의 잔수를 배수 장치(520)를 통해 배출시킴으로써, 잔수에 포함된 세균을 제거하기 위함이다.
또는, 상기 프로세서(550)가 식기 세척기(100)에 물(약 0.8 리터)을 투입시키고, 세척수를 적어도 하나의 발광 소자(예: UVC LED)를 통해 미리 결정된 시간(예: 5분) 동안 가열한 후, 세척기의 잔수를 배수 장치(520)를 통해 배출시킴으로써, 잔수에 포함된 세균을 제거하기 위함이다.
예를 들면, 상기 프로세서(550)는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 세균의 양이 제2 기준 값을 초과하는지 다시 비교할 수 있다.
예를 들면, 상기 제2 기준 값은 상기 제1 기준 값 보다 상기 잔수의 파장에 대한 흡수율이 높음을 나타낸다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 잔수의 오염 정도가 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기(100)의 동작을 제어하여 잔수에 물을 공급하고, 잔수를 희석 및 배출시킬 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 잔수의 오염 정도가 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기(100)의 동작을 제어하여 잔수에 물을 공급하고, 히터(560)를 통해 세척수를 가열하여, 잔수를 살균, 및 상기 살균된 잔수를 배출시킬 수 있다.
이를 위해, 상기 프로세서(550는 잔수의 오염 정도가 상기 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기(100)의 급수 장치(510)를 통해 섬프(223)로 물을 투입시키고, 상기 세척수의 투입과 동시에 상기 식기 세척기(100)의 잔수를 상기 식기 세척기(100)의 배수 장치(520)를 통해 배출시켜, 잔수를 희석시킬 수 있다.
이와 같이, 상기 프로세서(550)는 세균의 양이 상기 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기(100)의 급수 장치(510)를 통해 섬프(223)로 세척수를 가열하여 투입시키고, 세척수의 투입과 동시에 상기 식기 세척기(100)의 잔수를 상기 식기 세척기(100)의 배수 장치(520)를 통해 배출시킬 수 있다. 리를 통해, 잔수에 존재하는 세균의 양은 줄어들게 되거나 또는 제거될 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 나타낸 순서도이다.
이하, 도 6을 참조하여, 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 카메라를 통해 식기 세척기 내의 잔수의 흡수율을 식별할 수 있다(S610). 상기 프로세서(550)는 카메라(420)를 통해 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하고, 상기 획득된 적어도 하나의 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 명암이나 색상이 구분된 영역의 면적을 계산하여 흡수율을 분석할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 카메라(420)를 통해 획득된 파장 별 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 합성된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분하고, 상기 명암이나 색상에 의해 구분된 영역의 면적을 계산할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 계산된 면적을 통해 잔수에 포함된 세균에 의한 흡수율을 식별할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 식별된 흡수율에 기반하여 잔수의 오염 정도를 식별할 수 있다(S612). 상기 프로세서(550)는 상기 획득된 적어도 하나의 이미지를 통해 잔수의 파장에 따른 흡수율을 분석하여, 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별할 수 있다.
예를 들면, 상기 프로세서(550)는 흡수율이 높을수록 오염 정도가 심하다고 판단할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 합성된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암 및 색상의 영역의 면적에 기반한 흡수율과 미리 결정된 값(예: 흡수율)을 비교하여 오염 정도를 식별할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 식별된 오염 정도에 기반하여 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 진행할 수 있다(S614). 상기 프로세서(550)는 상기 식별된 오염 정도에 기반하여 잔수의 살균처리 하거나, 또는 식기 세척기 내로 물을 투입하여 잔수의 오염 정도를 희석시킨 후, 배출할 수 있다.
예를 들면, 잔수의 오염 정도가 심하지 않을 경우(예: 오염 정도가 기준 값 미만인 경우), 상기 프로세서(550)는 잔수가 살균 처리되도록 식기 세척기(100)의 동작을 제어할 수 있다.
예를 들면, 잔수의 오염 정도가 심할 경우(예: 오염 정도가 기준 값 이상인 경우), 상기 프로세서(550)는 잔수에 깨끗한 물을 투입시킨 후, 잔수를 히터(560)를 통해 살균 처리하고, 살균 처리된 잔수를 배출할 수 있다.
이러한, 잔수의 살균 처리, 잔수의 희석 및 배출 과정은 식기 세척기(100)가 동작되는 어느 순간에 상기 프로세서(100)에 의해 자동으로 수행될 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 나타낸 순서도이다. 도 8a는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균이 기준 값 이하인 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다. 도 8b는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균의 양이 적은 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다. 도 8c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 식기 세척기의 잔수에 세균의 양이 많은 경우의 파장 별 흡수율을 나타낸 예시도이다.
이하, 도 7, 도 8a, 및 도 8c을 참조하여, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 식기 세척기의 하부에 존재하는 잔수를 통해 잔수의 살균, 및 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 상세히 설명하면 다음과 같다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 주기적인 위생 관리가 시작되는지 식별할 수 있다(S710). 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100)의 행정 중에 위생 관리 기능을 시작할 수 있다. 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100)의 세척 과정, 헹굼 과정, 가열 헹굼 과정, 및 건조 과정 동안에 잔수의 오염 정도에 기반하여 선택적으로 위생 관리 기능을 시작할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 카메라(420)를 통해 식기 세척기(100) 내의 잔수의 파장에 따른 흡수율을 식별할 수 있다(S712). 상기 프로세서(550)는 카메라(420)를 통해 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하고, 상기 획득된 적어도 하나의 이미지를 통해 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 상기 영역의 면적을 계산하여 흡수율을 분석할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 카메라(420)(예: 분광 카메라)를 통해 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하여 하나의 합성된 이미지를 생성하고, 상기 합성된 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 구분된 명암 또는 색상에 해당되는 영역의 면적을 계산하여 세균에 의한 오염 정도를 나타내는 흡수율을 분석할 수 있다.
또는, 상기 프로세서(550)는 탁도 센서(미도시)를 통해 잔수의 투과율을 분석할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 식별된 흡수율에 기반하여 잔수 내의 세균 정도를 측정할 수 있다(S714). 상기 프로세서(550)는 상기 획득된 적어도 하나의 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분하고, 세균 및 오염물에 의한 영역의 면적을 계산함으로써, 흡수율을 획득할 수 있다. 그리고, 상기 프로세서(550)는 획득된 흡수율의 분석에 기반하여, 잔수 내의 세균 정도(또는 세균 양)를 판단할 수 있다.
또는, 탁도 센서(미도시)가 잔수의 탁도 정도를 나타내는 값을 상기 프로세서(550)로 전달하는 경우, 상기 프로세서(550)는 탁도 센서(미도시)로부터 수신된 정보에 기반하여, 잔수 내의 세균 정도(또는 세균 양)에 의한 흡수율을 판단할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 측정된 세균 정도와 제1 기준 값을 비교할 수 있다(S716). 상기 프로세서(550)는 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하는지 판단할 수 있다. 상기 제1 기준 값은 잔수에 존재하는 세균의 양에 따라 잔수의 희석, 잔수의 살균 및 잔수의 배출 중 적어도 하나를 결정하기 위해 기 설정된 값이다. 이러한 제1 기준 값은 식기 세척기(100)의 종류, 성능에 따라 다를 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 상기 측정된 세균 정도와 제2 기준 값을 비교할 수 있다(S718). 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하지 않는 경우, 상기 프로세서(550)는 상기 과정(710)의 동작을 수행할 수 있다.
또한, 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수에 존재하는 세균의 양이 제2 기준 값을 초과하는지 비교할 수 있다. 상기 제2 기준 값은 잔수에 존재하는 세균의 양에 따라 잔수의 희석, 및 잔수의 배출 중 적어도 하나를 결정하기 위해 기 설정된 값이다. 이러한 제2 기준 값은 식기 세척기(100)의 종류, 성능에 따라 다를 수 있다.
예를 들면, 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하지 않는 경우, 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100)를 대기 상태로 유지시킬 수 있다. 그리고, 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하고, 제2 기준 값을 초과하지 않는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석, 및 잔수의 배출 중 적어도 하나가 수행되도록 식기 세척기(100)의 행정(또는 로직)을 제어할 수 있다.
또한, 잔수에 존재하는 세균의 양이 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100)의 행정(또는 로직)을 제어하여 잔수의 희석, 잔수의 살균, 및 잔수의 배출 중 적어도 하나를 수행시킬 수 있다.
이와 같이, 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100) 내의 잔수의 오염 정도(예: 세균의 양)에 따라 서로 다른 동작을 수행할 수 있다.
도 8a 내지 도 8c를 참조하면, 상기 프로세서(550)는 카메라(420)(예: 적어도 하나의 분광 카메라)에서 획득한 이미지에서 세균 및 오염물의 파장 영역에 해당하는 명암이나 색상을 구분하고, 영역의 면적을 계산하여 흡수율의 변화(810, 820, 830)를 식별할 수 있다. 흡수율은 카메라((420)(예: 분광 카메라)로 잔수를 측정하였을 때, 카메라((420)(예: 분광 카메라)가 획득한 이미지의 영역에서 특정 빛의 파장에 해당하는 영역이 차지하는 비율이다.
예를 들면, 도 8a와 같이, 잔수에 세균에 의한 오염 정도가 낮은 경우(또는 없는 경우)(예: 순수한 물), 잔수에서 흡수되는 흡수율은 제1 기준 값(813)을 초과하지 않을 수 있다. 다만, 파장이 커짐에 따라 흡수율은 약간 증가할 수 있다. 예를 들면, 제1 파장(예: 850nm 미만)(811)에서의 흡수율과 제2 파장(약 850nm 이상)(112)에서의 흡수율은 제1 기준 값(813)을 초과하지 않을 수 있다. 그러나, 제2 파장(예: 850nm 이상)(812)에서의 흡수율은 제1 파장(예: 850nm 미만)(811)에서의 흡수율 보다 약간 높을 수 있다. 이와 같이, 잔수에서의 흡수율은 파장에 따라 다를 수 있고, 파장이 커짐에 따라 흡수율은 증가할 수 있다.
그리고, 도 8b와 같이, 잔수에 세균이 적게 포함되어 있는 경우, 제3 파장(예: 820nm 미만)(821)에서의 흡수율은 제4 파장(예: 820nm 이상)(822)에서의 흡수율 보다 낮다. 그리고, 제4 파장(예: 820nm 이상)(822)에서의 흡수율은 제1 기준값(약 0.4)(813)을 초과한다.
그리고, 제4 파장(예: 820nm 이상)(822)에서의 흡수율이 제1 기준 값(813)(예: 흡수율이 0.4인 경우)을 초과하지만, 제2 기준 값(823)(예: 흡수율이 0.5인 경우)을 초과하지 않는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수에 세균 증식이 발생된 것으로 판단할 수 있다. 이 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석 및 잔수의 배출이 진행되도록 식기 세척기(100)를 제어할 수 있다.
그리고, 도 8c와 같이, 잔수에 세균이 많게 포함되어 있는 경우, 제5 파장(예: 780nm 미만)(831)에서의 흡수율은 제6 파장(예: 780nm 이상)(832)에서의 흡수율 보다 낮다. 그리고, 제6 파장(예: 780nm 이상)(832)에서의 흡수율은 제1 기준 값(약 0.4)(813)을 초과한다. 그리고, 제7 파장(예: 840nm 이상)(833)에서의 흡수율은 제2 기준 값(약 0.48)(823)을 초과한다.
예를 들면, 제6 파장(예: 780nm 이상)(832)에서의 흡수율이 상기 제1 기준 값(약 0.4)(813)보다 큰 제2 기준 값(약 0.48)(823)을 초과하는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수가 세균에 의해 심각하게 오염된 것으로 판단하고, 식기 세척기(100)를 잔수의 희석, 잔수의 가열, 및 잔수의 배출이 진행되는 모드로 전환시킬 수 있다.
도 8c와 같이, 잔수에 세균의 양이 증가할수록 제6 파장(예: 780nm 이상)(832)에서와 같이, 세균에 의한 잔수에서의 흡수율을 비례하여 증가할 수 있다.
이와 같이, 상기 프로세서(550)는, 예를 들면, 특정 파장(예: 820nm~1010nm)(822)에서 세균에 의한 잔수의 흡수율이 제1 기준 값(813)(예: 흡수율이 0.4인 경우)을 초과하지만, 제2 기준 값(823)(예: 흡수율이 0.5인 경우)을 초과하지 않는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수에 세균 증식이 발생된 것으로 판단할 수 있다. 이 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석 및 잔수의 배출이 진행되도록 식기 세척기(100)를 제어할 수 있다.
또한, 상기 프로세서(550)는, 특정 파장(예: 820nm~1010nm)(823)에서 흡수율이 제1 기준 값(813)(예: 흡수율이 0.4인 경우) 보다 큰 제2 기준 값(823)(예: 0.5인 경우)을 초과하는 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수에 세균 증식이 심각하게 발생된 것으로 판단할 수 있다. 이 경우, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석, 잔수의 살균, 및 잔수의 배출이 진행되도록 식기 세척기(100)를 제어할 수 있다.
도 7을 참조하면, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석, 잔수의 살균, 및 배출을 진행할 수 있다(S720). 상기 과정(S718)에서 잔수에 존재하는 세균의 양이 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100) 내로 물을 급수 장치(510)를 통해 투입시켜 잔수를 희석시키는 과정, 히터(560)를 동작시켜 잔수를 살균하는 과정, 및 배수 장치(520)를 통해 잔수를 배출시키는 과정을 수행할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프로세서(550)는 잔수의 희석 및 배출을 진행할 수 있다(S722). 상기 과정(S716)에서 잔수에 존재하는 세균의 양이 제1 기준 값을 초과하였으나, 상기 과정(S718)에서 잔수에 존재하는 세균의 양이 제2 기준 값을 초과하지 않은 경우, 상기 프로세서(550)는 식기 세척기(100) 내로 물을 급수 장치(510)를 통해 투입시켜 잔수를 희석시키는 과정, 및 배수 장치(520)를 통해 잔수를 배출시키는 과정을 수행할 수 있다.
이상에서 상술한 각각의 순서도에서의 각 단계는 도시된 순서에 무관하게 동작될 수 있거나, 또는 동시에 수행될 수 있다. 또한, 본 발명의 적어도 하나의 구성 요소와, 상기 적어도 하나의 구성 요소에서 수행되는 적어도 하나의 동작은 하드웨어 및/또는 소프트웨어로 구현 가능할 수 있다.
이상과 같이 본 발명에 대해서 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시 예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시 예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.
100: 식기 세척기 420: 카메라
510: 급수장치 520: 배수장치
530: 저장부 540: 펌프
550: 프로세서 560: 히터

Claims (14)

  1. 식기 세척기에 있어서,
    외관을 이루고 전방이 개구되는 케이스;
    상기 케이스의 개구된 전방을 밀폐시키는 도어;
    상기 식기 세척기의 세척수를 집수하고 이물을 걸러서 분사되도록 하는 섬프;
    상기 섬프의 하부에 배치되어 상기 식기 세척기의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하는 분광 카메라;
    상기 잔수를 가열하는 히터; 및
    상기 분광 카메라, 및 상기 히터와 전기적으로 연결된 프로세서를 포함하며,
    상기 프로세서는,
    상기 분광 카메라를 통해 획득된 상기 적어도 하나의 이미지를 분석하여, 상기 잔수의 오염 정도를 식별하고,
    상기 식별된 오염 정도에 기반하여, 상기 잔수의 살균, 및 상기 잔수의 희석 및 상기 잔수의 배출 중 적어도 하나를 수행하도록 설정된 식기 세척기.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 적어도 하나의 이미지를 통해 상기 잔수의 파장에 따른 흡수율을 분석하고,
    상기 분석된 흡수율에 기반하여 상기 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별하도록 설정된 식기 세척기.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 분광 카메라를 통해 획득된 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성하고,
    상기 합성된 이미지에서 상기 잔수의 오염에 의한 면적 및 명암 중 적어도 하나의 흡수율을 통해 상기 잔수의 오염 정도를 측정하도록 설정된 식기 세척기.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 식별된 오염 정도가 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 잔수에 세척수를 공급하여 상기 잔수의 희석 및 배출을 수행하도록 상기 식기 세척기를 제어하고,
    상기 식별된 오염 정도가 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 잔수에 세척수를 공급 및 상기 히터를 통해 가열하여, 상기 잔수를 살균, 및 상기 살균된 잔수의 배출을 수행하도록 상기 식기 세척기를 제어하며,
    상기 제2 기준 값은 상기 제1 기준 값 보다 상기 잔수의 파장에 대한 흡수율이 낮음을 나타내는 식기 세척기.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 식별된 오염 정도가 상기 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기의 급수 장치를 통해 상기 섬프로 세척수를 투입시키고,
    상기 세척수의 투입과 동시에 상기 식기 세척기의 잔수를 상기 식기 세척기의 배수 장치를 통해 배출시켜, 상기 잔수를 희석시키도록 설정된 식기 세척기
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 식별된 오염 정도가 상기 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기의 급수 장치를 통해 상기 섬프로 세척수를 투입시키고,
    상기 투입된 세척수를 미리 결정된 시간 동안 상기 히터를 통해 가열하여 상기 잔수에 존재하는 세균을 살균하고,
    상기 가열된 세척수를 상기 식기 세척기의 배수 장치를 통해 배출시키도록 설정된 식기 세척기.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 식기 세척기가 상기 식기에 대한 세척, 헹굼, 및 건조 순서로 동작되는 중에, 상기 분광 카메라를 통해 획득한 상기 적어도 하나의 이미지를 이용하여 상기 잔수에 존재하는 세균의 양을 측정하도록 설정된 식기 세척기.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 측정된 세균의 양에 따라, 상기 히터를 제어하여 상기 잔수의 살균 강도를 조절하도록 설정된 식기 세척기.
  9. 식기 세척기의 방법에 있어서,
    상기 식기 세척기의 하부에 배치된 분광 카메라를 통해 상기 식기 세척기의 잔수에 대한 파장 별 분광 측정 값을 포함하는 적어도 하나의 이미지를 획득하는 과정;
    상기 획득된 적어도 하나의 이미지를 분석하여, 상기 식기 세척기의 잔수의 오염 정도를 식별하는 과정; 및
    상기 식별된 오염 정도에 기반하여, 상기 잔수의 살균, 및 상기 잔수의 희석 및 배출 중 적어도 하나를 수행하는 과정을 포함하는 방법.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 식기 세척기의 잔수의 오염 정도를 식별하는 과정은,
    상기 적어도 하나의 이미지를 통해 상기 잔수의 파장에 따른 흡수율을 분석하는 과정; 및
    상기 분석된 흡수율에 기반하여 상기 잔수에 존재하는 세균에 의한 오염 정도를 식별하는 과정을 포함하는 방법.
  11. 제9 항에 있어서,
    상기 식기 세척기의 잔수의 오염 정도를 식별하는 과정은,
    상기 카메라를 통해 획득된 파장 별 적어도 하나의 이미지를 합성하여 합성된 이미지를 생성하는 과정; 및
    상기 합성된 이미지에서 상기 잔수의 오염에 의한 면적 및 명암 중 적어도 하나의 흡수율을 통해 상기 잔수의 오염 정도를 측정하는 과정을 포함하는 방법.
  12. 제9 항에 있어서,
    상기 적어도 하나를 수행하는 과정은,
    상기 식별된 오염 정도가 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 잔수에 세척수를 공급하여 상기 잔수의 희석 및 배출을 수행하도록 상기 식기 세척기를 제어하는 과정; 및
    상기 식별된 오염 정도가 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 잔수에 세척수를 공급 및 상기 히터를 통해 가열하여, 상기 잔수를 살균, 및 상기 살균된 잔수의 배출을 수행하도록 상기 식기 세척기를 제어하는 과정을 포함하며,
    상기 제2 기준 값은 상기 제1 기준 값 보다 상기 잔수의 파장에 대한 흡수율이 낮음을 나타내는 방법.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 적어도 하나를 수행하는 과정은,
    상기 식별된 오염 정도가 상기 제1 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기의 급수 장치를 통해 상기 섬프로 세척수를 투입시키는 과정; 및
    상기 세척수의 투입과 동시에 상기 식기 세척기의 잔수를 상기 식기 세척기의 배수 장치를 통해 배출시켜, 상기 잔수를 희석시키는 과정을 포함하는 방법.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 적어도 하나를 수행하는 과정은,
    상기 식별된 오염 정도가 상기 제2 기준 값을 초과하는 경우, 상기 식기 세척기의 급수 장치를 통해 상기 섬프로 세척수를 투입시키는 과정;
    상기 투입된 세척수를 미리 결정된 시간 동안 상기 히터를 통해 가열하여 상기 잔수에 존재하는 세균을 살균하는 과정; 및
    상기 가열된 세척수를 상기 식기 세척기의 배수 장치를 통해 배출시키는 과정을 포함하는 방법.
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