KR20230077005A - Mask inspection system - Google Patents

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KR20230077005A
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inspection system
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KR1020210163246A
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최병진
강혁
김재풍
안창욱
이재훈
임한글
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삼성디스플레이 주식회사
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Abstract

일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템은 스테이지, 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 포함하며 상기 스테이지에 세워진 상태로 안착되는 마스크, 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 카메라 및 제1 조명기, 그리고 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 카메라 및 제2 조명기를 포함한다. A mask inspection system according to an embodiment includes a stage, a first surface and a second surface facing each other, and a mask mounted on the stage in an upright state, a first camera positioned at a side of the first surface of the mask, and a first surface. an illuminator, and a second camera and a second illuminator positioned on the second face side of the mask.

Description

마스크 검사 시스템{MASK INSPECTION SYSTEM}Mask inspection system {MASK INSPECTION SYSTEM}

본 발명은 마스크 검사 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 증착 공정, 포토리소그래피 공정 등에서 사용되는 마스크의 결함을 검출하기 위한 검사 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a mask inspection system, and more particularly, to an inspection system for detecting defects in a mask used in a deposition process, a photolithography process, and the like.

표시 패널 같은 전자 장치를 제조하는데 있어 마스크가 사용될 수 있다. 예컨대, 기판 상에 발광층, 전극층 등을 형성하기 위한 증착 공정에서 미세 금속 마스크(fine metal mask), 오픈 마스크(open mask)와 같은 금속 마스크가 사용될 수 있다. A mask may be used in manufacturing an electronic device such as a display panel. For example, a metal mask such as a fine metal mask or an open mask may be used in a deposition process for forming a light emitting layer or an electrode layer on a substrate.

마스크에 결함이 있으면, 기판 상에 증착되는 패턴 또는 층이 의도한 것과 다르게 형성될 수 있고, 제품의 불량을 초래할 수 있다. 따라서 마스크를 사용하기 전에 마스크의 결함을 검사하고, 결함이 발견되면 결함을 보완하거나 마스크를 교체하는 것이 필요할 수 있다. If the mask is defective, a pattern or layer deposited on the substrate may be formed differently than intended, resulting in product failure. Therefore, it may be necessary to inspect the mask for defects before using the mask, and if a defect is found, it may be necessary to compensate for the defect or replace the mask.

마스크는 예컨대 스테이지(stage) 위에 마스크를 안착하고 마스크의 제1 면(전면)을 카메라로 촬영하고, 촬영된 영상에 기초하여 결함을 검사할 수 있다. 마스크의 제2 면(후면)을 검사하기 위해서, 마스크를 뒤집어서 스테이지에 안착하고 마스크의 제2 면을 카메라로 촬영하고, 촬영된 영상에 기초하여 결함을 검사할 수 있다. 하지만, 마스크의 제1 면과 제2 면이 다른 구조이면, 제1 면의 검사 시 마스크가 안착되는 스테이지의 형상과 제2 면의 검사 시 마스크가 안착되는 스테이지의 형상이 변경되어야 한다. 또한, 제1 면의 검사를 위한 카메라의 심도 및 초점과 제2 면의 검사를 위한 카메라의 심도 및 초점이 다를 수 있으므로, 카메라의 설정 변경이 필요할 수 있다. For example, the mask may be placed on a stage, a first surface (front surface) of the mask may be photographed with a camera, and defects may be inspected based on the photographed image. In order to inspect the second side (rear side) of the mask, the mask is turned over and placed on the stage, the second side of the mask is photographed with a camera, and defects may be inspected based on the photographed image. However, if the first and second surfaces of the mask have different structures, the shape of the stage on which the mask is seated when inspecting the first surface and the shape of the stage on which the mask is seated when inspecting the second surface must be changed. In addition, since the depth and focus of a camera for inspecting the first surface and the depth and focus of a camera for inspecting the second surface may be different, camera settings may need to be changed.

실시예들은 마스크의 양면을 용이하게 검사할 수 있는 마스크 검사 시스템을 제공하기 위한 것이다. Embodiments are directed to providing a mask inspection system capable of easily inspecting both sides of a mask.

일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템은 스테이지, 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 포함하며 상기 스테이지에 세워진 상태로 안착되는 마스크, 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 카메라 및 제1 조명기, 그리고 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 카메라 및 제2 조명기를 포함한다. A mask inspection system according to an embodiment includes a stage, a first surface and a second surface facing each other, and a mask mounted on the stage in an upright state, a first camera positioned at a side of the first surface of the mask, and a first surface. an illuminator, and a second camera and a second illuminator positioned on the second face side of the mask.

상기 마스크는 상기 제1 면과 상기 제2 면이 중력 방향에 수직인 수평면에 대해 80° 내지 100°의 범위로 각을 이루고 상기 스테이지에 안착될 수 있다. The mask may be seated on the stage with the first surface and the second surface at an angle of 80° to 100° with respect to a horizontal plane perpendicular to a direction of gravity.

상기 제1 카메라는 상기 제2 조명기에 의해 조사되어 상기 마스크를 통과한 빛을 이용하여 상기 제1 면을 촬영하여 영상 정보를 생성할 수 있다. 상기 제2 카메라는 상기 제1 조명기에 의해 조사되어 상기 마스크를 통과한 빛을 이용하여 상기 제2 면을 촬영하여 영상 정보를 생성할 수 있다. The first camera may generate image information by photographing the first surface using light irradiated by the second illuminator and passing through the mask. The second camera may generate image information by photographing the second surface using light irradiated by the first illuminator and passing through the mask.

상기 제1 카메라는 상기 제2 조명기와 정렬될 수 있고, 상기 제2 카메라는 상기 제1 조명기와 정렬될 수 있다. The first camera may be aligned with the second illuminator, and the second camera may be aligned with the first illuminator.

상기 제1 카메라는 상기 제1 조명기에 의해 조사되는 상기 제1 면을 촬영하여 영상 정보를 생성할 수 있다. 상기 제2 카메라는 상기 제2 조명기에 의해 조사되는 상기 제2 면을 촬영하여 영상 정보를 생성할 수 있다. The first camera may generate image information by photographing the first surface irradiated by the first illuminator. The second camera may generate image information by photographing the second surface irradiated by the second illuminator.

상기 제1 카메라는 상기 제1 조명기와 정렬될 수 있고, 상기 제2 카메라는 상기 제2 조명기와 정렬될 수 있다. The first camera may be aligned with the first illuminator, and the second camera may be aligned with the second illuminator.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 갠트리, 그리고 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 갠트리를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착될 수 있다. The mask inspection system may further include a first gantry positioned on the first side of the mask and a second gantry positioned on the second side of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on the first gantry so as to face the first surface, and the second camera and the second illuminator may be mounted on the second gantry so as to face the second surface. It can be.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고 상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착된 송풍기 또는 흡입기를 더 포함할 수 있다. The mask inspection system may further include a blower or inhaler mounted on the first gantry to face the first surface, and a blower or inhaler mounted on the second gantry to face the second surface.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 마스크의 제1 면 측과 제2 면 측 간에 이동 가능하게 설치된 갠트리를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 대향하는 제2 면에 장착될 수 있다. The mask inspection system may further include a gantry installed to be movable between the first and second surfaces of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on a first surface of the gantry, and the second camera and the second illuminator may be mounted on a second surface opposite to the first surface of the gantry.

상기 갠트리가 상기 마스크의 제1 면 측에 위치할 때, 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 제1 면과 마주하게 위치할 수 있다. 상기 갠트리가 상기 마스크의 제2 면 측에 위치할 때, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 제2 면과 마주하게 위치할 수 있다. When the gantry is located on the first side of the mask, the first camera and the first illuminator may be located facing the first side. When the gantry is located on the side of the second surface of the mask, the second camera and the second illuminator may be located facing the second surface.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 갠트리의 제1 면에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고 상기 갠트리의 제2 면에 장착된 송풍기 또는 흡입기를 더 포함할 수 있다. The mask inspection system may further include a blower or inhaler mounted on the first side of the gantry and a blower or inhaler mounted on the second side of the gantry.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 부분 및 상기 마스크의 제2 면 측 간에 위치하는 제2 부분을 포함하는 갠트리를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 갠트리의 제1 부분에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 갠트리의 제2 부분에 장착될 수 있다. The mask inspection system may further include a gantry comprising a first portion located on the side of the first side of the mask and a second portion located between the side of the second side of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on a first portion of the gantry facing the first surface, and the second camera and the second illuminator may be mounted on a first portion of the gantry facing the second surface. Can be mounted in 2 parts.

상기 마스크 검사 시스템은 상기 갠트리의 제1 부분에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고 상기 갠트리의 제2 부분에 장착된 송풍기 또는 흡입기를 더 포함할 수 있다. The mask inspection system may further include a blower or aspirator mounted on a first portion of the gantry and a blower or aspirator mounted on a second portion of the gantry.

상기 스테이지는 상기 마스크의 가장자리가 삽입되는 홈을 포함할 수 있다. The stage may include a groove into which an edge of the mask is inserted.

상기 마스크는 증착용 금속 마스크일 수 있다. The mask may be a metal mask for deposition.

일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템은 스테이지, 서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 포함하며 상기 스테이지에 세워진 상태로 안착되는 마스크, 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하며 상기 제1 면을 향하여 배치될 수 있는 제1 카메라 및 제1 조명기, 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하며 상기 제2 면을 향하여 배치될 수 있는 제2 카메라 및 제2 조명기, 그리고 상기 제1 카메라, 상기 제1 조명기, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기가 장착되어 있는 하나 이상의 갠트리를 포함한다. A mask inspection system according to an embodiment includes a stage, a first surface and a second surface facing each other, and a mask seated in a standing state on the stage, a mask positioned on a first surface side of the mask and facing the first surface A first camera and a first illuminator that can be disposed, a second camera and a second illuminator that are located on the side of the second face of the mask and that can be disposed facing the second face, and the first camera and the first illuminator , at least one gantry on which the second camera and the second illuminator are mounted.

상기 마스크는 상기 제1 면과 상기 제2 면이 중력 방향에 수직인 수평면에 대해 80° 내지 100°의 범위로 각을 이루고 상기 스테이지에 안착될 수 있다. The mask may be seated on the stage with the first surface and the second surface at an angle of 80° to 100° with respect to a horizontal plane perpendicular to a direction of gravity.

상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 갠트리 및 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 갠트리를 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착될 수 있다. The one or more gantry may include a first gantry located on the side of the first surface of the mask and a second gantry located on the side of the second surface of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on the first gantry so as to face the first surface, and the second camera and the second illuminator may be mounted on the second gantry so as to face the second surface. It can be.

상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측과 제2 면 측 간에 이동 가능하게 설치된 갠트리를 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 대향하는 제2 면에 장착될 수 있다. The one or more gantry may include a gantry installed to be movable between the first surface side and the second surface side of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on a first surface of the gantry, and the second camera and the second illuminator may be mounted on a second surface opposite to the first surface of the gantry.

상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 부분 및 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 부분을 포함하는 갠트리를 포함할 수 있다. 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 갠트리의 제1 부분에 장착될 수 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 갠트리의 제2 부분에 장착될 수 있다. The one or more gantry may include a gantry including a first portion located on the side of the first side of the mask and a second portion located on the side of the second side of the mask. The first camera and the first illuminator may be mounted on a first portion of the gantry facing the first surface, and the second camera and the second illuminator may be mounted on a first portion of the gantry facing the second surface. Can be mounted in 2 parts.

실시예들에 따르면, 마스크의 양면을 용이하게 검사할 수 있는 마스크 검사 시스템을 제공할 수 있다. 예컨대, 마스크 검사 시스템은 마스크가 안착되는 스테이지의 형상을 변경하거나 카메라의 설정을 변경하지 않고, 마스크의 양면을 실질적으로 동시에 검사할 수 있다. 또한, 실시예들에 따르면 명세서 전반에 걸쳐 인식될 수 있는 유리한 효과가 있다. According to embodiments, a mask inspection system capable of easily inspecting both sides of a mask may be provided. For example, the mask inspection system can substantially simultaneously inspect both sides of a mask without changing the shape of a stage on which the mask is placed or changing camera settings. In addition, according to the embodiments, there are advantageous effects that can be recognized throughout the specification.

도 1은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 정면도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 4, 도 5 및 도 6은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 7은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다. 1 is a perspective view schematically illustrating a mask inspection system according to an embodiment.
2 is a schematic front view of a mask inspection system according to an exemplary embodiment.
3 is a perspective view schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.
4, 5 and 6 are perspective views schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.
7 is a perspective view schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.

첨부한 도면을 참고하여 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. With reference to the accompanying drawings, the embodiments will be described in detail so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 구성 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 구성이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 구성이 다른 구성 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 구성이 없는 것을 뜻한다. When a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be “on” or “on” another part, this includes not only the case where it is “directly on” another element, but also the case where there is another element in the middle. Conversely, when a component is said to be "directly on top" of another component, it means that there are no intervening components.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다는 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. Throughout the specification, it means that a part may further include other elements unless it is stated to the contrary that it "includes" a certain element.

명세서 전체에서, "연결"된다는 둘 이상의 구성요소가 직접적으로 연결되는 경우만을 의미하는 것이 아니고, 둘 이상의 구성요소가 다른 구성요소를 통하여 간접적으로 연결되는 경우, 물리적으로 연결되는 경우나 전기적으로 연결되는 경우뿐만 아니라, 위치나 기능에 따라 상이한 명칭으로 지칭되었으나 실질적으로 일체인 각 부분이 서로 연결되는 경우를 포함할 수 있다. Throughout the specification, "connected" does not mean only when two or more components are directly connected, but when two or more components are indirectly connected through another component, physically connected, or electrically connected. In addition to the case, it may include a case where each part, which is referred to by a different name according to its location or function, but is substantially integral, is connected to each other.

도면에서, 방향을 나타내는데 부호 "x", "y" 밑 "z"가 사용되고, 여기서 "x"는 제1 방향이고, "y"는 제1 방향과 대략 수직인 제2 방향이고, "z"는 제1 방향 및 제2 방향과 대략 수직인 제3 방향이다. In the drawings, signs "x", "y" and "z" under "y" are used to indicate directions, where "x" is a first direction, "y" is a second direction approximately perpendicular to the first direction, and "z" is a third direction substantially perpendicular to the first and second directions.

도 1은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 2는 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 정면도이다. 1 is a perspective view schematically showing a mask inspection system according to an embodiment, and FIG. 2 is a front view schematically showing a mask inspection system according to an embodiment.

마스크 검사 시스템(1)은 스테이지(10), 갠트리(gantry)(21, 22), 카메라(31, 32), 조명기(41, 42) 및 제어기(60)를 포함할 수 있다. The mask inspection system 1 may include a stage 10 , gantry 21 and 22 , cameras 31 and 32 , illuminators 41 and 42 and a controller 60 .

스테이지(10)는 검사 대상인 마스크(M)를 지지할 수 있고 안착시킬 수 있다. 스테이지(10)는 제1 방향(x)으로 이동할 수 있다. 이에 따라, 마스크(M)는 스테이지(10)에 안착된 상태에서 스테이지(10)와 함께 제1 방향(x)으로 이동할 수 있다. 스테이지(10)는 제1 방향(x)과 다른 방향(예컨대, 제2 방향((y) 및/또는 제3 방향(z))으로 이동할 수 있거나, 고정형일 수도 있다. The stage 10 can support and seat the mask M to be inspected. The stage 10 may move in a first direction (x). Accordingly, the mask M may move in the first direction (x) together with the stage 10 while being seated on the stage 10 . The stage 10 may move in a direction different from the first direction (x) (eg, the second direction (y) and/or the third direction (z)), or may be of a fixed type.

마스크(M)는 전체적으로 판형일 수 있고, 서로 대향하는 제1 면(S1)과 제2 면(S2)을 포함할 수 있다. 마스크(M)는 예컨대 표시 패널의 제조 공정 시 발광층, 전극층 등을 증착하는데 사용되는 미세 금속 마스크, 오픈 마스크 등과 같은 증착용 금속 마스크일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 제1 면(S1) 및 제2 면(S2)은 각각 마스크(M)의 정면 및 후면일 수 있다. 마스크(M)에는 마스크(M)를 두께 방향으로 관통하는 (따라서 제1 면(S1)과 제2 면(S2)을 관통하는) 패턴(pattern), 슬릿(slit), 개구(opening) 등이 형성될 수 있고, 그러한 패턴, 슬릿, 개구 등을 증착 물질, 빛 등이 통과할 수 있다. The mask M may have a plate shape as a whole and may include a first surface S1 and a second surface S2 that face each other. The mask M may be, for example, a metal mask for deposition, such as a fine metal mask used for depositing a light emitting layer and an electrode layer during a manufacturing process of a display panel, an open mask, etc., but is not limited thereto. The first surface S1 and the second surface S2 may be front and rear surfaces of the mask M, respectively. The mask M includes a pattern, a slit, an opening, etc. that pass through the mask M in the thickness direction (thus penetrating the first surface S1 and the second surface S2). may be formed, and deposition materials, light, etc. may pass through such patterns, slits, openings, and the like.

마스크(M)는 세워진 상태로, 즉 제1 면(S1)과 제2 면(S2)이 제3 방향(z)과 대략 평행하게 스테이지(10)에 안착될 수 있다. 마스크(M)는 제1 면(S1)과 제2 면(S2)이 중력 방향에 수직일 수 있는 수평면인 x-y 평면에 대략 수직인 상태로 안착될 수 있다. 예컨대, 마스크(M)는 제1 면(S1)과 제2 면(S2)이 x-y 평면과 약 80° 내지 약 100°의 범위, 또는 약 84° 내지 약 96°의 범위로 각을 이루게 안착될 수 있다. The mask M may be placed on the stage 10 in an upright state, that is, the first surface S1 and the second surface S2 are substantially parallel to the third direction z. The mask M may be seated in a state in which the first surface S1 and the second surface S2 are substantially perpendicular to the x-y plane, which is a horizontal plane that may be perpendicular to the direction of gravity. For example, the mask M may be seated such that the first surface S1 and the second surface S2 form an angle in the range of about 80 ° to about 100 °, or about 84 ° to about 96 ° with the x-y plane. can

스테이지(10)의 상부면은 전체적으로 x-y 평면과 대략 평행할 수 있다. 스테이지(10)는 마스크(M)를 안착하기 위한 홈(11)을 포함할 수 있다. 홈(11)은 마스크(M)의 가장자리에 대응하게 제1 방향(x)으로 길게 형성될 수 있다. 홈(11)에는 마스크(M)의 한 가장자리가 삽입될 수 있다. 스테이지(10)는 마스크(M)가 마스크(M)가 흔들리지 않도록 마스크(M)를 안정적으로 고정하기 위한 클램프(clamp)와 가은 고정 수단(도시되지 않음)을 더 포함할 수 있다. The upper surface of the stage 10 may be approximately parallel to the x-y plane as a whole. The stage 10 may include a groove 11 for seating the mask M. The groove 11 may be formed long in the first direction (x) to correspond to the edge of the mask (M). One edge of the mask M may be inserted into the groove 11 . The stage 10 may further include a clamp and a fastening means (not shown) for stably fixing the mask M so that the mask M does not shake.

갠트리(21, 22)는 스테이지(10) 및 마스크(M)의 일측(제1 면(S1) 측)에 위치하는 제1 갠트리(21)와 스테이지(10) 및 마스크(M)의 타측(제2 면(S2) 측)에 위치하는 제2 갠트리(22)를 포함할 수 있다. 즉, 마스크 검사 시스템(1)은 스테이지(10) 및 마스크(M)의 양측에 위치하는 한 쌍의 갠트리(21, 22)를 포함할 수 있다. Gantries 21 and 22 include a first gantry 21 positioned on one side (first surface S1 side) of the stage 10 and the mask M and the other side (the first surface S1 side) of the stage 10 and the mask M. The second gantry 22 located on the second surface (S2) side) may be included. That is, the mask inspection system 1 may include a pair of gantries 21 and 22 positioned on both sides of the stage 10 and the mask M.

제1 갠트리(21)는 제1 지지부(211) 및 제1 지지부(211)와 결합된 제1 장착부(212)를 포함할 수 있다. 제1 지지부(211)는 제3 방향(z)으로 연장하는 기둥 형상일 수 있다. 제1 지지부(211)는 소정 위치에 고정되어 있을 수 있다. 하지만, 제1 지지부(211)는 제1 방향(x) 및/또는 제2 방향(y)으로 이동할 수도 있으며, 예컨대 제1 방향(x)으로 연장하도록 설치된 가이드 레일과 같은 이송 수단(도시되지 않음)을 통해 제1 방향(x)으로 이동할 수 있다. 제1 장착부(212)는 중력 방향일 수 있는 제3 방향(z)으로 이동 가능하게 제1 지지부(211)에 결합될 수 있다. 제1 장착부(212)는 제1 방향(x) 및 제3 방향(z)으로 이동 가능하게 제1 지지부(211)에 결합될 수도 있다. 제1 갠트리(21)는 제1 장착부(212)를 포함하지 않을 수도 있다. The first gantry 21 may include a first support part 211 and a first mounting part 212 coupled to the first support part 211 . The first support part 211 may have a pillar shape extending in the third direction z. The first support part 211 may be fixed at a predetermined position. However, the first support part 211 may move in the first direction (x) and/or the second direction (y), and for example, a transport means (not shown) such as a guide rail installed to extend in the first direction (x). ), it is possible to move in the first direction (x). The first mounting part 212 may be coupled to the first support part 211 so as to be movable in the third direction z, which may be the gravitational direction. The first mounting part 212 may be coupled to the first support part 211 so as to be movable in the first direction (x) and the third direction (z). The first gantry 21 may not include the first mounting part 212 .

제2 갠트리(22)는 제1 갠트리(21)의 제1 지지부(211) 및 제1 장착부(212)에 각각 대응하는 제2 지지부(221) 및 제2 장착부(222)를 포할 수 있다. The second gantry 22 may include a second support part 221 and a second mounting part 222 respectively corresponding to the first support part 211 and the first mounting part 212 of the first gantry 21 .

카메라(31, 32)는 제1 장착부(212)에 장착되는 제1 카메라(31) 및 제2 장착부(222)에 장착되는 제2 카메라(32)를 포함할 수 있다. 조명기(41, 42)는 제1 장착부(212)에 장착되는 제1 조명기(41) 및 제2 장착부(222)에 장착되는 제2 조명기(42)를 포함할 수 있다. 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)는 하나의 모듈로 제공되거나 별개로 제공될 수 있다. 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)는 하나의 모듈로 제공되거나 별개로 제공될 수 있다. 제1 및 제2 갠트리(21, 22)가 제1 및 제2 장착부(212, 222)를 포함하지 않을 경우, 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)는 제1 지지부(211)에 장착될 수 있고, 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)는 제2 지지부(221)에 장착될 수 있다. The cameras 31 and 32 may include a first camera 31 mounted on the first mounting unit 212 and a second camera 32 mounted on the second mounting unit 222 . The illuminators 41 and 42 may include a first illuminator 41 mounted on the first mounting unit 212 and a second illuminator 42 mounted on the second mounting unit 222 . The first camera 31 and the first illuminator 41 may be provided as a single module or provided separately. The second camera 32 and the second illuminator 42 may be provided as a single module or provided separately. When the first and second gantries 21 and 22 do not include the first and second mounting parts 212 and 222, the first camera 31 and the first illuminator 41 are attached to the first support part 211. The second camera 32 and the second illuminator 42 may be mounted on the second support part 221 .

제1 카메라(31) 마스크(M)의 제1 면(S1)을 촬영할 수 있도록 제1 면(S1)을 향하여 배치될 수 있다. 제2 카메라(32)는 마스크(M)의 제2 면(S2)을 촬영할 수 있도록 제2 면(S2)을 향하여 배치될 수 있다. 제1 조명기(41)는 마스크(M)의 제1 면(S1)을 향하여 빛을 조사하도록 제1 면(S1)을 향하여 배치될 수 있다. 제2 조명기(42)는 마스크(M)의 제2 면(S2)을 향하여 빛을 조사하도록 제2 면(S2)을 향하여 배치될 수 있다. 제1 카메라(31)는 제2 조명기(42)와 정렬될 수 있고, 제2 카메라(32)는 제1 조명기(41)와 정렬될 수 있다. 본 명세서에서 카메라와 조명기의 정렬은 카메라의 광축과 조명기의 광축이 동축으로 배열되는 것을 의미할 수 있다. 제1 카메라(31)는 제2 조명기(42)에 의해 조사되어 마스크(M)를 통과한 빛을 이용하여 제1 면(S1)을 촬영할 수 있고 제1 면(S1)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 제2 카메라(32)는 제1 조명기(41)에 의해 조사되어 마스크(M)를 통과한 빛을 이용하여 제2 면(S2)을 촬영할 수 있고 제2 면(S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 이와 달리, 제1 카메라(31)는 제1 조명기(41)에 의해 조사되는 제1 면(S1)을 촬영하여 제1 면(S1)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있고, 제2 카메라(32)는 제2 조명기(42)에 의해 조사되는 제2 면(S2)을 촬영하여 제2 면(S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 이 경우, 제1 카메라(31)는 제1 조명기(41)와 정렬될 수 있고, 제2 카메라(32)는 제2 조명기(42)와 정렬될 수 있다. 제1 및 제2 카메라(31, 32)는 생성한 영상 정보를 제어기(60)로 전송할 수 있다. The first camera 31 may be disposed toward the first surface S1 of the mask M to capture the first surface S1. The second camera 32 may be disposed toward the second surface S2 of the mask M to capture the second surface S2. The first illuminator 41 may be disposed toward the first surface S1 of the mask M to radiate light toward the first surface S1. The second illuminator 42 may be disposed toward the second surface S2 of the mask M to radiate light toward the second surface S2 . The first camera 31 may be aligned with the second illuminator 42 , and the second camera 32 may be aligned with the first illuminator 41 . In the present specification, the alignment of the camera and the illuminator may mean that the optical axis of the camera and the optical axis of the illuminator are coaxially arranged. The first camera 31 may capture the first surface S1 using light irradiated by the second illuminator 42 and pass through the mask M, and generate image information on the first surface S1. can do. The second camera 32 may capture the second surface S2 using light irradiated by the first illuminator 41 and pass through the mask M, and generate image information on the second surface S2. can do. Unlike this, the first camera 31 may capture the first surface S1 irradiated by the first illuminator 41 to generate image information on the first surface S1, and the second camera 32 may generate image information on the first surface S1. ) may generate image information on the second surface S2 by photographing the second surface S2 irradiated by the second illuminator 42 . In this case, the first camera 31 may be aligned with the first illuminator 41 and the second camera 32 may be aligned with the second illuminator 42 . The first and second cameras 31 and 32 may transmit generated image information to the controller 60 .

제1 및 제2 카메라(31, 32)의 촬영 범위보다 마스크(M)의 면적이 넓을 경우, 마스크(M)에 대한 제1 및 제2 카메라(31, 32)의 촬영 범위와 제1 및 제2 조명기(41, 42)의 조사 범위를 이동시킬 수 있다. 즉, 제1 및 제2 카메라(31, 32)의 촬영 범위보다 넓은 제1 및 제2 면(S1, S2)의 전체 영역에 대한 영상 정보를 생성하기 위해서, 제1 및 제2 카메라(31, 32)와 제1 및 제2 조명기(41, 42)는 마스크(M)에 대하여 제1 방향(x) 및 제3 방향(z)으로 상대적으로 이동하면서 제1 및 제2 면(S1, S2)을 촬영할 수 있다. 예컨대, 제1 및 제2 면(S1, S2)의 촬영 시, 마스크(M)가 안착된 스테이지(10)가 제1 방향(x)으로 이동할 수 있고, 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)가 장착된 제1 장착부(212)와 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)가 장착된 제2 장착부(222)가 제3 방향(z)으로 이동할 수 있다. 다른 예로, 마스크(M)가 안착된 스테이지(10)는 고정되고, 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)가 제1 장착부(212)에서 제1 방향(x)으로 이동할 수 있고, 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)가 제2 장착부(222)에서 제1 방향(x)으로 이동할 수 있고, 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)가 장착된 제1 장착부(212)와 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)가 장착된 제2 장착부(222)가 제3 방향(z)으로 이동할 수 있다. 제1 및 제2 카메라(31, 32)와 제1 및 제2 조명기(41, 42)가 제1 및 제2 지지부(211, 221)에 장착된 경우, 마스크(M)가 안착된 스테이지(10)가 제1 방향(x)으로 이동할 수 있고, 제1 및 제2 카메라(31, 32)와 제1 및 제2 조명기(41, 42)가 제1 및 제2 지지부(211, 221)에서 제3 방향(z)으로 이동할 수 있다. 마스크(M)에 대한 카메라(31, 32) 및 조명기(41, 42)의 상대적 이동은 다양하게 변경될 수 있다. When the area of the mask M is larger than the photographing range of the first and second cameras 31 and 32, the photographing range of the first and second cameras 31 and 32 and the first and second The irradiation range of the two illuminators 41 and 42 can be moved. That is, in order to generate image information on the entire area of the first and second surfaces S1 and S2 that is wider than the photographing range of the first and second cameras 31 and 32, the first and second cameras 31, 32) and the first and second illuminators 41 and 42 are moved relative to the mask M in the first direction (x) and the third direction (z) while the first and second surfaces S1 and S2 are moved. can be filmed. For example, when photographing the first and second surfaces S1 and S2, the stage 10 on which the mask M is seated may move in a first direction x, and the first camera 31 and the first illuminator The first mounting portion 212 on which 41 is mounted and the second mounting portion 222 on which the second camera 32 and the second illuminator 42 are mounted may move in the third direction z. As another example, the stage 10 on which the mask M is seated is fixed, and the first camera 31 and the first illuminator 41 can move in the first direction (x) in the first mounting part 212, The second camera 32 and the second illuminator 42 can move in the first direction (x) in the second mounting part 222, and the first camera 31 and the first illuminator 41 are mounted on the first The second mounting portion 222 to which the mounting portion 212, the second camera 32, and the second illuminator 42 are mounted may move in the third direction z. When the first and second cameras 31 and 32 and the first and second illuminators 41 and 42 are mounted on the first and second support parts 211 and 221, the stage 10 on which the mask M is seated ) can move in the first direction (x), and the first and second cameras 31 and 32 and the first and second illuminators 41 and 42 are located on the first and second supports 211 and 221. It can move in 3 directions (z). The relative movement of the cameras 31 and 32 and the illuminators 41 and 42 with respect to the mask M may be variously changed.

제어기(60)는 마스크 검사 시스템(1)의 동작을 제어하고 전반적인 처리를 수행할 수 있다. 제어기(60)는 제1 및 제2 카메라(31, 32)와 유선통신 방식 또는 무선통신 방식으로 정보를 교환할 수 있다. 제어기(60)는 제1 및 제2 카메라(31, 32)로부터 수신한 영상 정보에 기초하여 마스크(M)의 결함을 판단할 수 있다. 제어기(60)는 또한 제1 및 제2 카메라(31, 32)로부터 수신한 영상 정보에 기초하여 결함의 종류를 판단할 수 있다. 제어기(60)는 프로세서(예컨대, 중앙처리장치) 및 메모리를 포함할 수 있다. 메모리에는 마스크(M)의 설계 정보가 저장될 수 있고, 프로세서는 저장된 설계 정보와 수신한 영상 정보를 비교하여 마스크(M)의 결함(예컨대, 이물 부착, 패턴 등의 불량)을 판단할 수 있다. The controller 60 may control the operation of the mask inspection system 1 and perform overall processing. The controller 60 may exchange information with the first and second cameras 31 and 32 in a wired communication method or a wireless communication method. The controller 60 may determine a defect of the mask M based on image information received from the first and second cameras 31 and 32 . The controller 60 may also determine the type of defect based on image information received from the first and second cameras 31 and 32 . Controller 60 may include a processor (eg, central processing unit) and memory. Design information of the mask M may be stored in the memory, and the processor may compare the stored design information with the received image information to determine defects of the mask M (eg, attachment of foreign matter, defects in patterns, etc.) .

이와 같이, 마스크 검사 시스템(1)은 마스크(M)의 제1 및 제2 면(S1, S2)을 촬영하도록 각각 배치되는 제1 및 제2 카메라(31, 32)를 사용하여 마스크(M)의 양면(S1, S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 따라서 스테이지(10)의 형상을 변경하거나 카메라(31, 32)의 설정을 변경하지 않고, 마스크(M)의 양면(S1, S2)을 실질적으로 동시에 검사할 수 있다. In this way, the mask inspection system 1 measures the mask M by using first and second cameras 31 and 32 respectively arranged to photograph the first and second surfaces S1 and S2 of the mask M. It is possible to generate image information for both sides (S1, S2) of. Accordingly, both surfaces S1 and S2 of the mask M can be inspected substantially simultaneously without changing the shape of the stage 10 or changing the settings of the cameras 31 and 32 .

마스크 검사 시스템(1)은 부가 장치(51, 52)를 더 포함할 수 있다. 부가 장치(51, 52)는 마스크(M)에 부착된 이물을 제거할 수 있는 장치일 수 있으며, 예컨대 이물을 날려보낼 수 있는 송풍기 및/또는 이물을 빨아들일 수 있는 흡입기를 포함할 수 있다. 부가 장치(51, 52)는 제1 갠트리(21)에 장착되는 제1 부가 장치(51) 및 제2 갠트리(22)에 장착되는 제2 부가 장치(52)를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 부가 장치(51, 52)는 각각 제1 및 제2 카메라(31, 32)에 인접하여 배치될 수 있다. The mask inspection system 1 may further include additional devices 51 and 52 . The additional devices 51 and 52 may be devices capable of removing foreign substances attached to the mask M, and may include, for example, a blower capable of blowing away foreign substances and/or an inhaler capable of sucking foreign substances. The additional devices 51 and 52 may include a first additional device 51 mounted on the first gantry 21 and a second additional device 52 mounted on the second gantry 22 . The first and second attachment devices 51 and 52 may be disposed adjacent to the first and second cameras 31 and 32 , respectively.

제1 및 제2 카메라(31, 32)에 의해 얻어진 영상 정보에 기초하여 마스크(M)의 결함이 검출되면, 제1 및/또는 카메라(31, 32)는 결함이 발견된 부위를 촬영할 수 있다. 이때, 제1 조명기(41)는 제1 카메라(31)가 촬영하는 부위(즉, 제1 면(S1)의 특정 영역)를 비출 수 있고, 제2 조명기(42)는 제2 카메라(32)가 촬영하는 부위(즉, 제2 면(S2)의 특정 영역)를 비출 수 있다. 마스크(M)의 일측에 위치하는 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)를 사용하여 제1 면(S1)에서 결함 부위를 선명하게 촬영할 수 있고, 영상 정보를 생성할 수 있다. 또한, 마스크(M)의 타측에 위치하는 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)를 사용하여 제2 면(S2)에서 결함 부위를 선명하게 촬영할 수 있고, 영상 정보를 생성할 수 있다. 제어기(60)는 제1 및 제2 카메라(31, 32)로부터 얻어진 영상 정보에 기초하여 결함의 종류를 판단할 수 있다. 결함의 종류가 이물 부착으로 판단되면, 제1 부가 장치(51)는 제1 면(S1)에 부착된 이물을 제거하는데 사용될 수 있고, 제2 부가 장치(52)는 제2 면(S2)에 부착된 이물을 제거하는데 사용될 수 있다. When a defect in the mask M is detected based on the image information obtained by the first and second cameras 31 and 32, the first and/or cameras 31 and 32 may photograph a region where the defect is found. . At this time, the first illuminator 41 may illuminate a region photographed by the first camera 31 (that is, a specific region of the first surface S1), and the second illuminator 42 may illuminate the second camera 32. A region to be photographed (ie, a specific region of the second surface S2) may be illuminated. Using the first camera 31 and the first illuminator 41 located on one side of the mask M, it is possible to clearly photograph the defective part on the first surface S1 and generate image information. In addition, by using the second camera 32 and the second illuminator 42 located on the other side of the mask M, the defective part on the second surface S2 can be clearly photographed and image information can be generated. . The controller 60 may determine the type of defect based on image information obtained from the first and second cameras 31 and 32 . If it is determined that the type of defect is foreign matter attachment, the first attachment device 51 may be used to remove the foreign object attached to the first surface S1, and the second attachment device 52 may be used to remove the foreign matter attached to the second surface S2. It can be used to remove adhering foreign matter.

도 3은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다. 3 is a perspective view schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.

도 3을 참고하면, 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템(1)은, 전술한 실시예와 같이, 스테이지(10), 갠트리(21, 22), 카메라(31, 32), 조명기(41, 42) 및 제어기(60)를 포함할 수 있고, 부가 장치(51, 52)를 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 3 , the mask inspection system 1 according to an embodiment includes a stage 10, gantry 21 and 22, cameras 31 and 32, and illuminators 41 and 42, as in the above-described embodiment. ) and a controller 60, and may further include additional devices 51 and 52.

전술한 실시예와 차이점을 위주로 설명하면, 마스크(M)는 눕혀진 상태로, 즉 제1 면(S1)과 제2 면(S2)이 x-y 평면과 대략 평행하게 스테이지(10)에 안착될 수 있다. 마스크(M)의 제2 면(S2)이 실질적으로 스테이지(10)에 의해 가려지지 않도록 스테이지(10)는 마스크(M)의 가장자리만을 지지하도록 형성될 수 있다. 예컨대, 스테이지(10)는 마스크(M)의 가장자리와 중첩하는 영역의 내부에 개구(도시되지 않음)가 형성되거나 (즉, 스테이지(10)는 마스크(M)의 가장자리만을 지지하는 프레임 형상임), 마스크(M)의 대향하는 두 가장자리만을 지지하도록 두 부분으로 분리될 수 있다. 스테이지(10)는 제1 방향(x) 및/또는 제2 방향(y)으로 이동할 수 있고, 마스크(M)는 스테이지(10)에 안착되어 스테이지(10)와 함께 이동할 수 있다. If the difference from the above-described embodiment is mainly described, the mask M can be placed on the stage 10 in a laid-down state, that is, the first surface S1 and the second surface S2 are approximately parallel to the x-y plane. there is. The stage 10 may be formed to support only the edge of the mask M so that the second surface S2 of the mask M is not substantially covered by the stage 10 . For example, the stage 10 may have an opening (not shown) formed inside a region overlapping the edge of the mask M (that is, the stage 10 has a frame shape supporting only the edge of the mask M). , can be separated into two parts to support only the two opposing edges of the mask M. The stage 10 may move in the first direction (x) and/or the second direction (y), and the mask M may be seated on the stage 10 and move together with the stage 10 .

갠트리(21, 22)는 스테이지(10)의 상측에 위치하는 제1 갠트리(21)와 스테이지(10)의 하측에 위치하는 제2 갠트리(22)를 포함할 수 있다. 제1 갠트리(21)는 제1 지지부(211) 및 제1 지지부(211)와 결합된 제1 장착부(212)를 포함할 수 있고, 제2 갠트리(22)는 제2 지지부(221) 및 제2 지지부(221)와 결합된 제2 장착부(222)를 포함할 수 있다. 제1 지지부(211) 및 제2 지지부(221)는 제1 방향(x) 및/또는 제3 방향(z)으로 이동 가능하게 설치될 수 있다. 제1 장착부(212) 및 제2 장착부(222)는 제1 방향(x) 및/또는 제2 방향(y)으로 이동 가능하게 제1 지지부(211) 및 제2 지지부(221)에 결합될 수 있다. The gantries 21 and 22 may include a first gantry 21 positioned above the stage 10 and a second gantry 22 positioned below the stage 10 . The first gantry 21 may include a first support part 211 and a first mounting part 212 coupled to the first support part 211, and the second gantry 22 may include the second support part 221 and the first mounting part 212. 2 may include a second mounting portion 222 coupled with the support portion 221 . The first support part 211 and the second support part 221 may be installed to be movable in the first direction (x) and/or the third direction (z). The first mounting portion 212 and the second mounting portion 222 may be coupled to the first support portion 211 and the second support portion 221 so as to be movable in the first direction (x) and/or the second direction (y). there is.

전술한 실시예와 마찬가지로, 카메라(31, 32)는 제1 장착부(212)에 장착되는 제1 카메라(31) 및 제2 장착부(222)에 장착되는 제2 카메라(32)를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 카메라(31, 32)는 마스크(M)의 제1 및 제2 면(S1, S2)을 실질적으로 동시에 촬영할 수 있고, 제1 및 제2 면(S1, S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 조명기(41, 42)는 제1 장착부(212)에 장착되는 제1 조명기(41) 및 제2 장착부(222)에 장착되는 제2 조명기(42)를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 면(S1, S2)의 촬영 시, 제1 카메라(31)는 제2 조명기(42)와 정렬될 수 있고, 제2 카메라(32)는 제1 조명기(41)와 정렬될 수 있다. 부가 장치(51, 52)는 제1 갠트리(21)에 장착되는 제1 부가 장치(51) 및 제2 갠트리(22)에 장착되는 제2 부가 장치(52)를 포함할 수 있다. 제어기(60)는 제1 및 제2 카메라(31, 32)에 의해 얻어진 영상 정보에 기초하여, 마스크(M)의 결함을 검출할 수 있고, 결함의 종류를 확인할 수 있다. 마스크(M)의 결함이 이물 부착이면, 제어기(60)의 제어 하에 제1 부가 장치(51)가 제1 면(S1)에 부착된 이물을 제거하거나, 제2 부가 장치(52)가 제2 면(S2)에 부착된 이물을 제거할 수 있다. Similar to the above-described embodiment, the cameras 31 and 32 may include a first camera 31 mounted on the first mounting unit 212 and a second camera 32 mounted on the second mounting unit 222. . The first and second cameras 31 and 32 may substantially simultaneously capture the first and second surfaces S1 and S2 of the mask M, and images of the first and second surfaces S1 and S2. information can be generated. The illuminators 41 and 42 may include a first illuminator 41 mounted on the first mounting unit 212 and a second illuminator 42 mounted on the second mounting unit 222 . When capturing the first and second surfaces S1 and S2, the first camera 31 may be aligned with the second illuminator 42, and the second camera 32 may be aligned with the first illuminator 41. can The additional devices 51 and 52 may include a first additional device 51 mounted on the first gantry 21 and a second additional device 52 mounted on the second gantry 22 . The controller 60 may detect a defect in the mask M based on the image information obtained by the first and second cameras 31 and 32 and identify the type of defect. If the defect of the mask M is adhesion of a foreign substance, the first attachment device 51 removes the foreign object attached to the first surface S1 under the control of the controller 60, or the second attachment device 52 removes the foreign substance attached to the first surface S1. Foreign matter adhering to the surface S2 can be removed.

도 4, 도 5 및 도 6은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다. 4, 5 and 6 are perspective views schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.

도 4, 도 5 및 도 6을 참고하면, 마스크 검사 시스템(1)은 스테이지(10), 갠트리(20), 카메라(31, 32), 조명기(41, 42) 및 제어기(60)를 포함할 수 있고, 부가 장치(51, 52)를 더 포함할 수 있다. 마스크(M)는 세워진 상태, 즉 마스크(M)의 제1 및 제2 면(S1, S2)이 x-y 평면과 대략 수직인 상태로 (예컨대 x-y 평면과 약 80° 내지 약 100°의 범위, 또는 약 84° 내지 약 96°의 범위로 각을 이루게) 스테이지(10)에 안착될 수 있다. 스테이지(10)는 제1 방향(x), 제2 방향(y) 및/또는 제3 방향(z)으로 이동할 수 있지만, 고정형일 수도 있다. 4, 5 and 6, the mask inspection system 1 may include a stage 10, a gantry 20, cameras 31 and 32, illuminators 41 and 42, and a controller 60. and additional devices 51 and 52 may be further included. The mask M is in an upright state, that is, in a state in which the first and second surfaces S1 and S2 of the mask M are approximately perpendicular to the x-y plane (for example, in the range of about 80 ° to about 100 ° with the x-y plane, or angles ranging from about 84° to about 96°) may be seated on the stage 10 . The stage 10 may move in the first direction (x), the second direction (y) and/or the third direction (z), but may also be of a fixed type.

마스크 검사 시스템(1)은 하나의 갠트리(20)를 포함할 수 있다. 갠트리(20)는 마스크(M)의 일측과 타측 간에 이동 가능하게 설치될 수 있다. 갠트리(20)는 지지부(201) 및 지지부(201)와 결합된 장착부(202)를 포함할 수 있다. 지지부(201)는 가이드 레일과 같은 이송 수단을 통해 제2 방향(y)으로 이동할 수 있다. 장착부(202)는 지지부(201)에서 제3 방향(z)으로 이동 가능하게 장착될 수 있다. 제1 카메라(31), 제1 조명기(41) 및 제1 부가 장치(51)는 장착부(202)의 제1 면에 장착될 수 있다. 제2 카메라(32), 제2 조명기(42) 및 제2 부가 장치(52)는 장착부(202)의 제1 면에 대향하는 제2 면에 장착될 수 있다. 즉, 하나의 장착부(202)의 양면에 마스크(M)의 양면(S1, S2)을 검사하거나 이물을 제거하기 위한 장치가 배치되고 장착될 수 있다. 마스크(M)의 양면(S1, S2)의 검사는 제1 면(S1)을 검사하고 갠트리(20)의 지지부(201)를 제2 방향(y)으로 이동시킨 후 제2 면(S2)을 검사하는 방식, 또는 제2 면(S2)을 검사하고 갠트리(20)의 지지부(201)를 제2 방향(y)으로 이동시킨 후 제1 면(S1)을 검사하는 방식으로 수행될 수 있다. The mask inspection system 1 may include one gantry 20 . The gantry 20 may be installed to be movable between one side and the other side of the mask M. The gantry 20 may include a support part 201 and a mounting part 202 coupled to the support part 201 . The support part 201 may move in the second direction y through a transport means such as a guide rail. The mounting part 202 may be movably mounted on the support part 201 in the third direction z. The first camera 31 , the first illuminator 41 and the first attachment device 51 may be mounted on the first surface of the mounting unit 202 . The second camera 32 , the second illuminator 42 , and the second attachment device 52 may be mounted on a second surface of the mounting part 202 opposite to the first surface. That is, a device for inspecting both sides S1 and S2 of the mask M or removing foreign substances may be disposed and mounted on both sides of one mounting part 202 . Inspection of both surfaces S1 and S2 of the mask M is performed by inspecting the first surface S1, moving the support 201 of the gantry 20 in the second direction y, and then inspecting the second surface S2. It may be performed by a method of inspecting or a method of inspecting the second surface S2 and then moving the support 201 of the gantry 20 in the second direction y and then inspecting the first surface S1.

구체적으로, 도 4를 참고하면, 갠트리(20)가 마스크(M)의 일측에 위치할 수 있고, 장착부(202)의 제1 면에 장착된 제1 카메라(31), 제1 조명기(41) 및 제1 부가 장치(51)가 마스크(M)의 제1 면(S1)과 마주하게 위치할 수 있다. 마스크(M)에 대한 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)의 위치를 예컨대 x-z 평면에서 상대적으로 이동시키면서, 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)를 사용하여 제1 면(S1)을 촬영하고 제1 면(S1)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 또한, 생성된 영상 정보에 기초하여 마스크(M)의 결함 및 결함의 종류를 검출할 수 있고, 제1 부가 장치(51)를 사용하여 이물 등을 제거할 수 있다. 한편, 마스크 검사 시스템(1)은 마스크(M)의 타측에 제1 카메라(31)와 정렬되게 위치하고 마스크(M)의 제2 면(S2)을 향하여 빛을 조사하는 조명기(도시되지 않음)를 포함할 수도 있다. 이러한 부가 조명기는 제1 카메라(31)가 마스크(M)를 통과한 빛을 이용하여 제1 면(S1)을 촬영할 때 사용될 수 있다. Specifically, referring to FIG. 4 , the gantry 20 may be located on one side of the mask M, and the first camera 31 and the first illuminator 41 mounted on the first surface of the mounting part 202 And the first attachment device 51 may be positioned to face the first surface S1 of the mask M. While the positions of the first camera 31 and the first illuminator 41 relative to the mask M are shifted, for example, in the x-z plane, the first camera 31 and the first illuminator 41 are used to create a first surface. (S1) may be photographed and image information for the first surface (S1) may be generated. In addition, defects and types of defects of the mask M may be detected based on the generated image information, and foreign substances may be removed using the first attachment device 51 . Meanwhile, the mask inspection system 1 includes an illuminator (not shown) positioned on the other side of the mask M to be aligned with the first camera 31 and irradiating light toward the second surface S2 of the mask M. may also include This additional illuminator may be used when the first camera 31 photographs the first surface S1 using light passing through the mask M.

제1 면(S1)에 대한 검사가 완료되면, 도 5에 도시된 바와 같이, 갠트리(20)는 제2 방향(y)으로 이동할 수 있다. 갠트리(20)의 이동 시 장착부(202)와 마스크(M) 간의 간섭이 발생하지 않도록, 장착부(202)는 제3 방향(z)으로 마스크(M) 위쪽으로 이동한 상태일 수 있다. When the inspection of the first surface S1 is completed, as shown in FIG. 5 , the gantry 20 may move in the second direction y. To prevent interference between the mounting portion 202 and the mask M when the gantry 20 moves, the mounting portion 202 may be moved upward of the mask M in the third direction z.

갠트리(20)는 제2 방향(y)으로 이동한 후, 도 6에 도시된 바와 같이, 마스크(M)의 타측에 위치할 수 있다. 마스크(M)의 제1 면(S1)을 촬영할 때와 마찬가지로, 장착부(202)의 제2 면에 장착된 제2 카메라(32), 제2 조명기(42) 및 제2 부가 장치(52)가 마스크(M)의 제2 면(S2)과 마주하게 위치할 수 있다. 마스크(M)에 대한 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)의 위치를 예컨대 x-z 평면에서 상대적으로 이동시키면서, 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)를 사용하여 제2 면(S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 또한, 생성된 영상 정보에 기초하여 마스크(M)의 결함 및 결함의 종류를 검출할 수 있고, 제2 부가 장치(52)를 사용하여 이물 등을 제거할 수 있다. 한편, 마스크 검사 시스템(1)은 마스크(M)의 일측에 제2 카메라(32)와 정렬되게 위치하고 마스크(M)의 제1 면(S1)을 향하여 빛을 조사하는 부가 조명기(도시되지 않음)를 포함할 수도 있다. 이러한 부가 조명기는 제2 카메라(32)가 마스크(M)를 통과한 빛을 이용하여 제2 면(S2)을 촬영할 때 사용될 수 있다. After moving in the second direction (y), the gantry 20 may be located on the other side of the mask M, as shown in FIG. 6 . As in the case of photographing the first surface S1 of the mask M, the second camera 32, the second illuminator 42, and the second attachment device 52 mounted on the second surface of the mounting part 202 It may be positioned to face the second surface S2 of the mask M. While moving the positions of the second camera 32 and the second illuminator 42 relative to the mask M, for example, in the x-z plane, the second camera 32 and the second illuminator 42 are used to create a second surface. Image information for (S2) can be generated. In addition, defects and types of defects of the mask M may be detected based on the generated image information, and foreign substances may be removed using the second attachment device 52 . Meanwhile, the mask inspection system 1 includes an additional illuminator (not shown) positioned on one side of the mask M to be aligned with the second camera 32 and irradiating light toward the first surface S1 of the mask M. may include. This additional illuminator may be used when the second camera 32 captures the second surface S2 using light passing through the mask M.

도 7은 일 실시예에 따른 마스크 검사 시스템을 개략적으로 나타낸 사시도이다. 7 is a perspective view schematically illustrating a mask inspection system according to an exemplary embodiment.

도 7을 참고하면, 마스크 검사 시스템(1)은 스테이지(10), 갠트리(20), 카메라(31, 32), 조명기(41, 42) 및 제어기(60)를 포함할 수 있고, 부가 장치(51, 52)를 더 포함할 수 있다. 마스크(M)는 세워진 상태, 즉 마스크(M)의 제1 및 제2 면(S1, S2)이 x-y 평면과 대략 수직인 상태로 (예컨대 x-y 평면과 약 80° 내지 약 100°의 범위, 또는 약 84° 내지 약 96°의 범위로 각을 이루게) 스테이지(10)에 안착될 수 있다. 스테이지(10)는 제1 방향(x), 제2 방향(y) 및/또는 제3 방향(z)으로 이동할 수 있지만, 고정형일 수도 있다.Referring to FIG. 7 , the mask inspection system 1 may include a stage 10, a gantry 20, cameras 31 and 32, illuminators 41 and 42, and a controller 60, and an additional device ( 51, 52) may be further included. The mask M is in an upright state, that is, in a state in which the first and second surfaces S1 and S2 of the mask M are approximately perpendicular to the x-y plane (for example, in the range of about 80 ° to about 100 ° with the x-y plane, or angles ranging from about 84° to about 96°) may be seated on the stage 10 . The stage 10 may move in the first direction (x), the second direction (y) and/or the third direction (z), but may also be of a fixed type.

마스크 검사 시스템(1)은 하나의 갠트리(20)를 포함할 수 있다. 갠트리(20)는 지지부(201) 및 지지부(201)와 결합된 장착부(202)를 포함할 수 있다. 지지부(201)는 스테이지(10)와 제1 방향(x)으로 동일 선 상에 위치할 수 있다. 장착부(202)는 제3 방향(z)으로 이동 가능하게 지지부(201)에 결합될 수 있다. 장착부(202)는 대략 “ㄷ”자와 같은 평면 형상일 있다. 예컨대, 장착부(202)는 지지부(201)와 결합되며 제2 방향(y)으로 연장하는 가로부(202a), 그리고 가로부(202a)의 양단으로부터 제1 방향(x)으로 연장하는 제1 부분(202b) 및 제2 부분(202c)을 포함할 수 있다. 제1 부분(202b)은 마스크(M)의 일측에 위치할 수 있고, 제2 부분(202c)은 마스크(M)의 타측에 위치할 수 있다. The mask inspection system 1 may include one gantry 20 . The gantry 20 may include a support part 201 and a mounting part 202 coupled to the support part 201 . The support part 201 may be positioned on the same line as the stage 10 in the first direction (x). The mounting part 202 may be coupled to the support part 201 so as to be movable in the third direction z. The mounting portion 202 may have a planar shape substantially like a “c” character. For example, the mounting portion 202 includes a horizontal portion 202a coupled to the support portion 201 and extending in the second direction (y), and a first portion extending from both ends of the horizontal portion 202a in the first direction (x). (202b) and a second part (202c). The first part 202b may be positioned on one side of the mask M, and the second part 202c may be positioned on the other side of the mask M.

제1 카메라(31), 제1 조명기(41) 및 제1 부가 장치(51)는 제1 부분(202b)에 마스크(M)의 제1 면(S1)을 향하도록 장착될 수 있다. 제2 카메라(32), 제2 조명기(42) 및 제2 부가 장치(52)는 제2 부분(202c)에 마스크(M)의 제2 면(S2)을 향하도록 장착될 수 있다. 제1 조명기(41) 및 제1 부가 장치(51)는 제1 방향(x)으로 이동 가능하게 제1 부분(202b)에 장착되거나 고정되게 장착될 수 있다. 제2 카메라(32), 제2 조명기(42) 및 제2 부가 장치(52)는 제1 방향(x)으로 이동 가능하게 제2 부분(202c)에 장착되거나 고정되게 장착될 수 있다. The first camera 31, the first illuminator 41, and the first attachment device 51 may be mounted on the first portion 202b to face the first surface S1 of the mask M. The second camera 32, the second illuminator 42, and the second attachment device 52 may be mounted on the second part 202c so as to face the second surface S2 of the mask M. The first illuminator 41 and the first attachment device 51 may be movably mounted on the first part 202b or fixedly mounted in the first direction (x). The second camera 32, the second illuminator 42, and the second attachment device 52 may be movably mounted on the second part 202c or fixedly mounted in the first direction (x).

마스크(M)에 대한 제1 및 제2 카메라(31, 32) 및 제1 및 제2 조명기(41, 42)의 위치를 예컨대 x-z 평면에서 상대적으로 이동시키면서, 제1 카메라(31) 및 제2 조명기(42)를 사용하여 제1 면(S1)을 촬영하고, 제2 카메라(32) 및 제1 조명기(41)를 사용하여 제2 면(S2)을 촬영하여 제1 및 제2 면(S1, S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수 있다. 제1 카메라(31) 및 제1 조명기(41)를 사용하여 제1 면(S1)을 촬영하고, 제2 카메라(32) 및 제2 조명기(42)를 사용하여 제2 면(S2)을 촬영하여 제1 및 제2 면(S1, S2)에 대한 영상 정보를 생성할 수도 있다. While moving the positions of the first and second cameras 31 and 32 and the first and second illuminators 41 and 42 relative to the mask M, for example, in the x-z plane, the first camera 31 and the second The first surface S1 is photographed using the illuminator 42, and the second surface S2 is photographed using the second camera 32 and the first illuminator 41 to capture the first and second surfaces S1. , S2) may generate image information. The first surface S1 is photographed using the first camera 31 and the first illuminator 41, and the second surface S2 is photographed using the second camera 32 and the second illuminator 42. In this way, image information on the first and second surfaces S1 and S2 may be generated.

이와 같이, 갠트리(20)를 구성하고, 제1 및 제2 카메라(31, 32), 제1 및 제2 조명기(41, 42), 그리고 제1 및 제2 부가 장치(51, 52)를 배치함으로써, 마스크(M)의 양면(S1, S2)을 실질적으로 동시에 검사할 수 있다. 마스크 검사 시스템(1)은 마스크(M)의 제1 면(S1)은 물론 제2 면(S2)을 용이하게 검사할 수 있고, 제1 및 제2 면(S1, S2)에 존재하는 이물을 제거함으로써 제품의 불량을 줄일 수 있다. In this way, the gantry 20 is configured, and the first and second cameras 31 and 32, the first and second illuminators 41 and 42, and the first and second attachment devices 51 and 52 are disposed By doing so, both surfaces S1 and S2 of the mask M can be inspected substantially simultaneously. The mask inspection system 1 can easily inspect the second surface S2 as well as the first surface S1 of the mask M, and remove foreign substances present on the first and second surfaces S1 and S2. By removing it, product defects can be reduced.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements made by those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also included in the scope of the present invention. that fall within the scope of the right.

1: 마스크 검사 시스템
10: 스테이지
20, 21, 22: 갠트리
201, 211, 221: 지지부
202, 212, 222: 장착부
31, 32: 카메라
41, 42: 조명기
51, 52: 부가 장치
60: 제어기
M: 마스크
S1: 마스크의 제1 면
S2: 마스크의 제2 면1: Mask inspection system
10: Stage
20, 21, 22: gantry
201, 211, 221: support
202, 212, 222: mounting part
31, 32: camera
41, 42: illuminator
51, 52: additional device
60: controller
M: mask
S1: the first side of the mask
S2: the second side of the mask

Claims (20)

스테이지,
서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 포함하며, 상기 스테이지에 세워진 상태로 안착되는 마스크,
상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 카메라 및 제1 조명기, 그리고
상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 카메라 및 제2 조명기
를 포함하는 마스크 검사 시스템. stage,
A mask including first and second surfaces facing each other and mounted on the stage in an upright state;
A first camera and a first illuminator located on the first side of the mask, and
A second camera and a second illuminator positioned on the second side of the mask
Mask inspection system comprising a. 제1항에서,
상기 마스크는 상기 제1 면과 상기 제2 면이 중력 방향에 수직인 수평면에 대해 80° 내지 100°의 범위로 각을 이루고 상기 스테이지에 안착되어 있는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
The mask inspection system, wherein the first surface and the second surface are seated on the stage at an angle in the range of 80 ° to 100 ° with respect to a horizontal plane perpendicular to the direction of gravity. 제1항에서,
상기 제1 카메라는 상기 제2 조명기에 의해 조사되어 상기 마스크를 통과한 빛을 이용하여 상기 제1 면을 촬영하여 영상 정보를 생성하고,
상기 제2 카메라는 상기 제1 조명기에 의해 조사되어 상기 마스크를 통과한 빛을 이용하여 상기 제2 면을 촬영하여 영상 정보를 생성하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
The first camera captures the first surface using light irradiated by the second illuminator and passes through the mask to generate image information;
The second camera captures the second surface using light irradiated by the first illuminator and passes through the mask to generate image information. 제3항에서,
상기 제1 카메라는 상기 제2 조명기와 정렬되고, 상기 제2 카메라는 상기 제1 조명기와 정렬되는 마스크 검사 시스템. In paragraph 3,
The first camera is aligned with the second illuminator, and the second camera is aligned with the first illuminator. 제1항에서,
상기 제1 카메라는 상기 제1 조명기에 의해 조사되는 상기 제1 면을 촬영하여 영상 정보를 생성하고,
상기 제2 카메라는 상기 제2 조명기에 의해 조사되는 상기 제2 면을 촬영하여 영상 정보를 생성하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
The first camera captures the first surface irradiated by the first illuminator to generate image information;
The second camera captures the second surface irradiated by the second illuminator to generate image information. 제5항에서,
상기 제1 카메라는 상기 제1 조명기와 정렬되고, 상기 제2 카메라는 상기 제2 조명기와 정렬되는 마스크 검사 시스템. In paragraph 5,
wherein the first camera is aligned with the first illuminator and the second camera is aligned with the second illuminator. 제1항에서,
상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 갠트리, 그리고
상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 갠트리
를 더 포함하며,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
A first gantry located on the first surface side of the mask, and
A second gantry located on the second surface side of the mask
Including more,
The first camera and the first illuminator are mounted on the first gantry so as to face the first surface, and the second camera and the second illuminator are mounted on the second gantry so as to face the second surface. mask inspection system. 제7항에서,
상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고
상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착된 송풍기 또는 흡입기
를 더 포함하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 7,
A blower or aspirator mounted on the first gantry to face the first surface, and
A blower or aspirator mounted on the second gantry facing the second surface
Mask inspection system further comprising a. 제1항에서,
상기 마스크의 제1 면 측과 제2 면 측 간에 이동 가능하게 설치된 갠트리를 더 포함하며,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 대향하는 제2 면에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
Further comprising a gantry installed to be movable between the first surface side and the second surface side of the mask,
The first camera and the first illuminator are mounted on a first surface of the gantry, and the second camera and the second illuminator are mounted on a second surface of the gantry opposite to the first surface. . 제9항에서,
상기 갠트리가 상기 마스크의 제1 면 측에 위치할 때, 상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 제1 면과 마주하게 위치하고,
상기 갠트리가 상기 마스크의 제2 면 측에 위치할 때, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 제2 면과 마주하게 위치하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 9,
When the gantry is positioned on the side of the first face of the mask, the first camera and the first illuminator are positioned facing the first face;
When the gantry is positioned on the side of the second face of the mask, the second camera and the second illuminator are positioned facing the second face. 제9항에서,
상기 갠트리의 제1 면에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고
상기 갠트리의 제2 면에 장착된 송풍기 또는 흡입기
를 더 포함하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 9,
A blower or aspirator mounted on the first side of the gantry, and
A blower or aspirator mounted on the second side of the gantry
Mask inspection system further comprising a. 제1항에서,
상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 부분 및 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 부분을 포함하는 갠트리를 더 포함하며,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 갠트리의 제1 부분에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 갠트리의 제2 부분에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
Further comprising a gantry comprising a first part located on the side of the first surface of the mask and a second part located on the side of the second surface of the mask;
The first camera and the first illuminator are mounted on a first portion of the gantry facing the first surface, and the second camera and the second illuminator are mounted on a second portion of the gantry facing the second surface. Mask inspection system mounted on the part. 제12항에서,
상기 갠트리의 제1 부분에 장착된 송풍기 또는 흡입기, 그리고
상기 갠트리의 제2 부분에 장착된 송풍기 또는 흡입기
를 더 포함하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 12,
a blower or aspirator mounted on a first portion of the gantry; and
A blower or aspirator mounted on the second part of the gantry
Mask inspection system further comprising a. 제1항에서,
상기 스테이지는 상기 마스크의 가장자리가 삽입되는 홈을 포함하는 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
The stage includes a groove into which an edge of the mask is inserted. 제1항에서,
상기 마스크는 증착용 금속 마스크인 마스크 검사 시스템. In paragraph 1,
The mask inspection system of claim 1 , wherein the mask is a metal mask for deposition. 스테이지,
서로 대향하는 제1 면 및 제2 면을 포함하며, 상기 스테이지에 세워진 상태로 안착되는 마스크,
상기 마스크의 제1 면 측에 위치하며, 상기 제1 면을 향하여 배치될 수 있는 제1 카메라 및 제1 조명기,
상기 마스크의 제2 면 측에 위치하며, 상기 제2 면을 향하여 배치될 수 있는 제2 카메라 및 제2 조명기, 그리고
상기 제1 카메라, 상기 제1 조명기, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기가 장착되어 있는 하나 이상의 갠트리
를 포함하는 마스크 검사 시스템. stage,
A mask including first and second surfaces facing each other and mounted on the stage in an upright state;
A first camera and a first illuminator located on a first surface side of the mask and disposed toward the first surface;
A second camera and a second illuminator located on the second surface side of the mask and may be disposed toward the second surface, and
At least one gantry on which the first camera, the first illuminator, the second camera, and the second illuminator are mounted
Mask inspection system comprising a. 제16항에서,
상기 마스크는 상기 제1 면과 상기 제2 면이 중력 방향에 수직인 수평면에 대해 80° 내지 100°의 범위로 각을 이루고 상기 스테이지에 안착되어 있는 마스크 검사 시스템. In clause 16,
The mask inspection system, wherein the first surface and the second surface are seated on the stage at an angle in the range of 80 ° to 100 ° with respect to a horizontal plane perpendicular to the direction of gravity. 제16항에서,
상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 갠트리 및 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 갠트리를 포함하고,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 제1 갠트리에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 제2 갠트리에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In clause 16,
the one or more gantry comprises a first gantry located on the side of the first side of the mask and a second gantry located on the side of the second side of the mask;
The first camera and the first illuminator are mounted on the first gantry so as to face the first surface, and the second camera and the second illuminator are mounted on the second gantry so as to face the second surface. mask inspection system. 제16항에서,
상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측과 제2 면 측 간에 이동 가능하게 설치된 갠트리를 포함하고,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 갠트리의 제1 면에 대향하는 제2 면에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In clause 16,
The at least one gantry includes a gantry installed to be movable between a first surface side and a second surface side of the mask,
The first camera and the first illuminator are mounted on a first surface of the gantry, and the second camera and the second illuminator are mounted on a second surface of the gantry opposite to the first surface. . 제16항에서,
상기 하나 이상의 갠트리는 상기 마스크의 제1 면 측에 위치하는 제1 부분 및 상기 마스크의 제2 면 측에 위치하는 제2 부분을 포함하는 갠트리를 포함하고,
상기 제1 카메라 및 상기 제1 조명기는 상기 제1 면을 향하도록 상기 갠트리의 제1 부분에 장착되어 있고, 상기 제2 카메라 및 상기 제2 조명기는 상기 제2 면을 향하도록 상기 갠트리의 제2 부분에 장착되어 있는 마스크 검사 시스템. In clause 16,
the one or more gantry comprises a gantry comprising a first portion located on the side of the first side of the mask and a second portion located on the side of the second side of the mask;
The first camera and the first illuminator are mounted on a first portion of the gantry facing the first surface, and the second camera and the second illuminator are mounted on a second portion of the gantry facing the second surface. Mask inspection system mounted on the part.
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WO2025058319A1 (en) * 2023-09-14 2025-03-20 김용훈 Photomask inspection device, and inspection method thereof

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