KR20250032802A - 프로버의 웨이퍼 흡착 장치 및 방법 - Google Patents
프로버의 웨이퍼 흡착 장치 및 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20250032802A KR20250032802A KR1020240002081A KR20240002081A KR20250032802A KR 20250032802 A KR20250032802 A KR 20250032802A KR 1020240002081 A KR1020240002081 A KR 1020240002081A KR 20240002081 A KR20240002081 A KR 20240002081A KR 20250032802 A KR20250032802 A KR 20250032802A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wafer
- vacuum
- chuck body
- prober
- suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2855—Environmental, reliability or burn-in testing
- G01R31/286—External aspects, e.g. related to chambers, contacting devices or handlers
- G01R31/2865—Holding devices, e.g. chucks; Handlers or transport devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2889—Interfaces, e.g. between probe and tester
-
- H01L21/6838—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/78—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using vacuum or suction, e.g. Bernoulli chucks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
도 2는 종래기술에 따른 프로버의 콤보 척이 장착된 스테이지 챔버 내부의 구성도이다.
도 3은 일부 휘어진 웨이퍼의 정면 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 장치인 척 본체의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 장치인 척 본체의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 장치인 척 본체의 외곽 부분의 확대도이다.
도 7은 도 6에 도시된 부분 중 외곽 부분을 더욱 크게 확대한 확대도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 장치의 작동도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 방법의 순서도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 프로버의 웨이퍼 흡착 방법에서 진공부와 분사부를 순차 제어하는 시퀀스 표이다.
140 : 프로버의 웨이퍼 흡착 장치 141 : 척 본체
141a : 분사용 홈 142 : 제1 진공부
143 : 제2 진공부 144 : 분사부
Claims (13)
- 웨이퍼가 흡착면에 공급되어 안착 및 흡착되는 척 본체;
상기 웨이퍼가 상기 척 본체에 안착된 다음 흡착될 수 있도록 진공 라인에 연결된 진공 흡착용 홀 형태로 상기 척 본체에 구비된 복수개의 진공부; 및
상기 척 본체의 외측 단부에 구비되고, 상기 웨이퍼가 상기 척 본체에 안착된 상태에서 상기 웨이퍼의 외곽이 상기 척 본체의 흡착면에 밀착될 수 있도록 상기 웨이퍼의 외곽 방향으로 에어를 분사하는 복수개의 분사부;를 포함하는,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제1 항에 있어서,
상기 복수개의 진공부는,
상기 웨이퍼의 중앙부분을 흡착할 수 있도록 진공 라인과 연결된 제1 진공부; 및
상기 제1 진공부와 상기 웨이퍼의 단부 사이에 배치되어 웨이퍼를 진공 흡착할 수 있도록 진공 라인과 연결된 제2 진공부;를 포함하는,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제1 항에 있어서,
상기 복수개의 분사부와 상기 웨이퍼 사이에 분사 공간이 형성될 수 있도록 상기 척 본체의 외측 단부에 분사용 홈이 형성된,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제3 항에 있어서,
상기 복수개의 분사부는 에어 라인에 연결된 노즐 형태로 이루어지고, 에어는 상기 척 본체의 흡착면에 평행한 방향으로 분사되는,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제4 항에 있어서,
상기 복수개의 분사부는 노즐 하나당 하나의 분사용 홈이 형성된,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제5 항에 있어서,
상기 복수개의 분사부는 인접하는 분사부와 서로 간섭되지 않도록 각 분사용 홈은 격벽으로 분리된,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제1 항에 있어서,
상기 복수개의 진공부의 진공압에 따라 상기 웨이퍼가 흡착되었는지 여부를 감지하는 센싱부; 및
상기 센싱부의 감지 여부에 대한 신호를 입력 받아 상기 복수개의 진공부와 상기 복수개의 분사부의 작동을 제어하는 제어부;를 포함하는,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 제7 항에 있어서,
상기 제어부는 상기 복수개의 진공부를 각도에 따라 복수개의 구역으로 설정하고 구역별로 순차적으로 작동시키는,
프로버의 웨이퍼 흡착 장치.
- 웨이퍼를 척 본체의 흡착면에 안착시키는 단계;
상기 흡착면에 구비되고 홀 형태로 진공 라인에 연결된 복수개의 진공부를 작동시켜 웨이퍼를 척 본체의 흡착면에 진공 흡착시키는 단계;
상기 웨이퍼 전체가 척 본체의 흡착면에 진공 흡착되었는지를 판단하는 단계;
상기 웨이퍼가 제대로 진공 흡착되었으면 웨이퍼 검사를 위한 다음 단계를 진행하고, 상기 웨이퍼가 제대로 진공 흡착되지 않았으면 상기 웨이퍼의 외곽이 상기 척 본체의 흡착면에 밀착될 수 있도록 상기 웨이퍼의 외곽 방향으로 에어를 분사하는 단계;를 포함하는,
프로버의 웨이퍼 흡착 방법.
- 제9 항에 있어서,
상기 웨이퍼의 외곽 방향으로 에어를 분사하는 단계는,
상기 에어는 상기 흡착면과 평행한 방향으로 분사되고. 상기 웨이퍼의 단부가 상기 흡착면의 단부에 밀착될 수 있도록 상기 척 본체에 형성된 분사용 홈을 통하여 분사가 이루어지는,
프로버의 웨이퍼 흡착 방법.
- 제9 항에 있어서,
상기 웨이퍼를 척 본체의 흡착면에 진공 흡착시키는 단계는,
상기 척 본체의 상기 복수개의 진공부 중에서 중앙 부분과 그 외의 부분을 동시에 작동시키거나 순사적으로 작동시키는,
프로버의 웨이퍼 흡착 방법.
- 제9 항에 있어서,
상기 웨이퍼를 척 본체의 흡착면에 진공 흡착시키는 단계는,
상기 복수개의 진공부를 각도에 따라 복수개의 구역으로 설정하고 구역별로 순차적으로 작동시키는,
프로버의 웨이퍼 흡착 방법.
- 제9 항에 있어서,
상기 웨이퍼의 외곽 방향으로 에어를 분사하는 단계는,
상기 웨이퍼 전체가 상기 흡착면에 진공 흡착이 이루어지면 에어 분사를 중단시키는,
프로버의 웨이퍼 흡착 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20230113010 | 2023-08-28 | ||
| KR1020230113010 | 2023-08-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20250032802A true KR20250032802A (ko) | 2025-03-07 |
| KR102862161B1 KR102862161B1 (ko) | 2025-09-19 |
Family
ID=94973768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020240002081A Active KR102862161B1 (ko) | 2023-08-28 | 2024-01-05 | 프로버의 웨이퍼 흡착 장치 및 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102862161B1 (ko) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150064061A (ko) * | 2012-10-03 | 2015-06-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 웨이퍼 부착 방법 및 웨이퍼 검사 장치 |
| KR20180002379A (ko) * | 2016-06-29 | 2018-01-08 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼를 지지하는 척에서 변형된 웨이퍼를 진공 흡착하는 방법 |
| KR20190116037A (ko) * | 2018-04-03 | 2019-10-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 웨이퍼 척킹 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 테스트 장비 |
| KR20210009094A (ko) * | 2019-07-16 | 2021-01-26 | 한국전기연구원 | 프로버용 카트리지 |
| KR20210130204A (ko) * | 2019-03-06 | 2021-10-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 보지 장치 및 기판 흡착 방법 |
| KR20230056461A (ko) * | 2021-10-20 | 2023-04-27 | 주식회사 쎄믹스 | 프로버의 콤보 척 |
-
2024
- 2024-01-05 KR KR1020240002081A patent/KR102862161B1/ko active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20150064061A (ko) * | 2012-10-03 | 2015-06-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 웨이퍼 부착 방법 및 웨이퍼 검사 장치 |
| KR20180002379A (ko) * | 2016-06-29 | 2018-01-08 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼를 지지하는 척에서 변형된 웨이퍼를 진공 흡착하는 방법 |
| KR20190116037A (ko) * | 2018-04-03 | 2019-10-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 웨이퍼 척킹 장치 및 이를 포함하는 웨이퍼 테스트 장비 |
| KR20210130204A (ko) * | 2019-03-06 | 2021-10-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 보지 장치 및 기판 흡착 방법 |
| KR20210009094A (ko) * | 2019-07-16 | 2021-01-26 | 한국전기연구원 | 프로버용 카트리지 |
| KR20230056461A (ko) * | 2021-10-20 | 2023-04-27 | 주식회사 쎄믹스 | 프로버의 콤보 척 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102862161B1 (ko) | 2025-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102044085B1 (ko) | 기판 보지 방법, 기판 보지 장치, 처리 방법 및 처리 장치 | |
| KR101394362B1 (ko) | 웨이퍼 검사 장치 | |
| KR102876013B1 (ko) | 기판 보지 장치 및 기판 흡착 방법 | |
| US11346861B2 (en) | Contact accuracy assurance method, contact accuracy assurance mechanism, and inspection apparatus | |
| JP2011029456A (ja) | 半導体検査用ウエハプローバ及び検査方法 | |
| TW201315973A (zh) | 發光元件之檢查裝置及檢查方法 | |
| TW201346267A (zh) | 探針裝置及探針卡的平行調整機構 | |
| US20200096560A1 (en) | Inspection apparatus, inspection system, and aligning method | |
| TW202127512A (zh) | 基板貼合裝置及方法 | |
| US20200225282A1 (en) | Chuck top, inspection apparatus, and chuck top recovery method | |
| KR102862161B1 (ko) | 프로버의 웨이퍼 흡착 장치 및 방법 | |
| KR20200106774A (ko) | 반도체 소자 검사 방법 및 장치 | |
| KR101695283B1 (ko) | 박막 트랜지스터 기판 검사 장치 | |
| JP2005101584A (ja) | 基板を検査する装置 | |
| JP7663827B2 (ja) | 傾き角度検出装置及び傾き角度検出方法 | |
| US9541600B2 (en) | Method for positioning a carrier with a plurality of electronic components in a device for testing the electronic components | |
| US20090050779A1 (en) | Vibration isolation system | |
| CN118169530A (zh) | 测试装置及生产线 | |
| TWI771805B (zh) | 探針頭連接方法 | |
| KR20240156176A (ko) | 웨이퍼 통합 검사 장치 | |
| JP2023048650A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
| WO2016163147A1 (ja) | 基板保持方法、基板保持装置、処理方法及び処理装置 | |
| KR101150397B1 (ko) | 기판검사장치 | |
| KR20250166760A (ko) | 기판 유지 장치 및 접합 시스템 | |
| KR100570199B1 (ko) | 반도체 소자 테스트 핸들러의 얼라이너 포켓 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| D22 | Grant of ip right intended |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-1-2-D10-D22-EXM-PE0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
|
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| F11 | Ip right granted following substantive examination |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-4-F10-F11-EXM-PR0701 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
|
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| U11 | Full renewal or maintenance fee paid |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-2-2-U10-U11-OTH-PR1002 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) Year of fee payment: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| Q13 | Ip right document published |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: A-4-4-Q10-Q13-NAP-PG1601 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE) |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-4-4-P10-P22-nap-X000 |